摘要
深紫外(吸收边<200 nm,带隙>6.2 eV)非线性光学材料主要应用于激光系统、阿秒脉冲产生、半导体制造和光刻等.本文从晶体结构、禁带宽度、倍频效率、激光损伤阈值和双折射率等方面对已报道的无机深紫外非线性光学材料进行了综述,并按晶体结构中阴离子基团的构成元素进行了分类介绍,包括硼酸盐晶体、铍硼酸盐、氟硼酸盐、磷酸盐等.最后展望了新型深紫外非线性光学材料的发展方向.
Deep ultraviolet(absorption edge<200 nm,band gap>6.2 eV)nonlinear optical(NLO)materials are of current interest owing to their technological applications being used in laser systems,atto-second pulse generation,semiconductor manufacturing,and photolithography.This review examines the known deep UV NLO materials with respect to their crystal structure,band gap,SHG efficiency,laser damage threshold,and birefringence.Finally,future research directions of new deep UV NLO materials are discussed.
作者
李志华
李阳
罗楠楠
曹国炜
何颖君
Li Zhihua;Li Yang;Luo Nannan;Cao Guowei;He Yingjun(School of Chemistry,Chemical Engineering and Materials Science,Shandong Normal University,250014,Jinan,China;School of Science,Guangdong University of Petrochemical Technology,525000,Maoming,Guangzhou,China)
出处
《山东师范大学学报（自然科学版）》
2021年第3期234-252,共19页
Journal of Shandong Normal University(Natural Science)
基金
山东省自然科学基金资助项目(ZR2018006)
广东省自然科学基金资助项目(2016A030307026).
关键词
非线性光学晶体
倍频效应
晶体生长
禁带宽度
激光损伤阈值
双折射率
nonlinear optical crystal
second harmonic generation
crystal growth
band gap
laser damage threshold
birefringence
作者简介
李志华,男,教授,博士,博士生导师.
