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用于星载甲烷成像光谱仪的高衍射效率棱镜光栅(封面文章·特邀)
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作者 刘全 周能华 +4 位作者 王可欣 陈志伟 杨子江 潘俏 陈新华 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期1-7,共7页
棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅... 棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅,棱镜光栅在同样的光谱分辨率下可以减小光栅的尺寸,实现更加紧凑的光机结构。因此研制棱镜光栅具有重要的意义。针对甲烷的2.3μm波段,分析了棱镜光栅的衍射特性,为了进一步提高系统的结构紧凑性,在石英棱镜光栅中引入高折射率材料TiO_(2)介质膜,对于矩形槽形,占空比在0.3~0.45范围内,TiO_(2)膜层厚度在165~170 nm之间,槽深在800~950 nm之间时,光栅的衍射效率高于70%,TiO_(2)膜层厚度为165 nm,槽深在870~930 nm之间时,衍射效率高于80%。采用全息光刻-离子束刻蚀结合原子层沉积技术,制作了周期为1020 nm、光栅有效面积大于110×275 mm的棱镜光栅。实验测量中,为了消除光源波动的影响,采用了双光路测试法进行衍射效率测量,在2.275~2.325μm波段,一级衍射效率大于70%。 展开更多
关键词 棱镜光栅 全息光刻 离子束刻蚀 衍射效率
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气体团簇离子束技术的发展与挑战
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作者 谢媛 解克各 邓辉 《中国表面工程》 北大核心 2025年第2期217-232,共16页
随着科技的不断进步,先进光学与集成电路等领域对光学元件的加工精度要求日益严苛,已经由纳米级材料去除提升至亚纳米级精度。然而,当前主流的传统加工技术,如化学机械抛光(CMP)、液体射流抛光(FJP)、磁流变抛光(MRF)以及离子束抛光(IBP... 随着科技的不断进步,先进光学与集成电路等领域对光学元件的加工精度要求日益严苛,已经由纳米级材料去除提升至亚纳米级精度。然而,当前主流的传统加工技术,如化学机械抛光(CMP)、液体射流抛光(FJP)、磁流变抛光(MRF)以及离子束抛光(IBP)等,均存在各自的局限性,难以实现原子级光滑表面的制造目标。因此,如何制造出具有亚纳米级表面粗糙度且低亚表面损伤的光学元件,已成为当前亟待解决的技术难题。在不断探索新技术的过程中,气体团簇离子束(GCIB)技术作为传统离子束技术的革新升级,展现出在超精密加工领域的巨大潜力,有必要对气体团簇离子束技术的原理、辐照特性以及可能的应用展开探讨。说明气体团簇离子束技术的原理;阐述气体团簇离子束技术所具有的独特辐照特征,包括低每原子能量、高溅射产率、横向溅射效应以及能量密集沉积等。这些特征使其与传统离子束的辐照效应截然不同;探讨气体团簇离子束技术在抛光、刻蚀、薄膜沉积以及二次离子质谱(SIMS)等领域的应用;总结气体团簇离子束技术现有的优势与不足,为气体团簇离子束技术的进一步发展奠定坚实基础,推动其在超精密加工领域实现更广泛的应用与突破。 展开更多
关键词 气体团簇离子束 超精密制造 抛光 刻蚀 薄膜制备 二次离子质谱(SIMS)
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碲镉汞红外探测器离子束刻蚀研究
3
作者 宁提 何斌 +1 位作者 刘静 徐港 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2024年第9期1410-1416,共7页
电极成型技术是红外焦平面探测器的重要组成部分,离子束刻蚀技术由于具有高各向异性和高分辨率等诸多优点,适用于制备低损伤、高均匀性以及可生产性的电极体系。本文采用离子束刻蚀制备了平面型、台面型器件的电极结构,通过FIB和SEM表... 电极成型技术是红外焦平面探测器的重要组成部分,离子束刻蚀技术由于具有高各向异性和高分辨率等诸多优点,适用于制备低损伤、高均匀性以及可生产性的电极体系。本文采用离子束刻蚀制备了平面型、台面型器件的电极结构,通过FIB和SEM表征了不同刻蚀条件下的电极形貌和结构,研究了不同刻蚀角度、能量以及热处理对碲镉汞红外探测器的影响。结果表明,离子束刻蚀技术具有侧边平滑、均匀性高、稳定性强以及工艺重复性好等诸多优点。另外,离子束刻蚀可以实现台面结器件的电极隔离,但台面侧壁存在一定金属电极残留,需要进一步优化台面形貌和刻蚀角度。在热处理对刻蚀的影响上,低能量刻蚀形成的晶格损伤,经过高温可以修复;高能量刻蚀将同时造成晶格损伤和电学损伤,热处理只能一定程度上改善pn结性能,电学损伤将在刻蚀后表面形成严重的漏电效应,降低了探测器的品质因子R_(0)A。 展开更多
关键词 碲镉汞 离子束刻蚀 电极接触 热处理
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聚焦离子束工艺参数对单像素线刻蚀的影响 被引量:2
4
作者 李美霞 施展 +2 位作者 陆熠磊 王英 杨明来 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第9期818-824,共7页
单像素线刻蚀是制备微纳米器件中的基本单元及加工其他复杂结构的基础,对聚焦离子束(FIB)加工具有重要的意义。通过改变离子束流的大小、驻留时间、扫描步长百分比及离子剂量等参数,对硅表面进行单像素线刻蚀的研究。结果表明,在聚焦离... 单像素线刻蚀是制备微纳米器件中的基本单元及加工其他复杂结构的基础,对聚焦离子束(FIB)加工具有重要的意义。通过改变离子束流的大小、驻留时间、扫描步长百分比及离子剂量等参数,对硅表面进行单像素线刻蚀的研究。结果表明,在聚焦离子束加工中,离子剂量与刻蚀线条宽度和深度之间呈正相关,与宽深比之间呈负相关;离子束流大小的变化对刻蚀深度影响不明显,但刻蚀宽度和宽深比随离子束流的增大而增大。此外,随着离子束流驻留时间增加,刻蚀宽度增大而深度减小;随着扫描步长百分比的增大,刻蚀深度增大,刻蚀宽度减小,分析结果表明这些变化与加工过程中再沉积作用有关。本研究成果为后续复杂图形的精密加工提供了重要参考依据。 展开更多
关键词 聚焦离子束(FIB)刻蚀 加工参数 刻蚀形貌 单像素线 再沉积 宽深比
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基于共面波导结构的晶圆玻片设计
5
作者 王靖杰 占春连 +3 位作者 高涵 赵耀 张集权 刘超 《光子学报》 CSCD 北大核心 2024年第12期23-32,共10页
采用有限接地板厚度有限介质厚度的共面波导结构设计,根据保角转换理论获得了共面波导电极的理想特性参数,结合实际应用场景,建立仿真模型,通过光刻胶掩膜图形电镀和离子束刻蚀工艺实现了高质量晶圆玻片的制备,并利用矢量网络分析仪对... 采用有限接地板厚度有限介质厚度的共面波导结构设计,根据保角转换理论获得了共面波导电极的理想特性参数,结合实际应用场景,建立仿真模型,通过光刻胶掩膜图形电镀和离子束刻蚀工艺实现了高质量晶圆玻片的制备,并利用矢量网络分析仪对该玻片的电极传输特性进行验证。实验结果表明,所研制的晶圆玻片可用于120 GHz高速光电器件的片上采样信息检测。 展开更多
关键词 电光采样 光电探测器 晶圆玻片 共面波导 湿法刻蚀 离子束刻蚀 传输特性
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基于钙钛矿单晶片表面周期性结构的高性能近红外光探测器
6
作者 张振宇 汪国平 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期124-132,共9页
借助空间限域法制备了毫米级的甲基碘化铅铵(MAPbI_(3))单晶片,并利用聚焦离子束刻蚀(FIB)技术在其表面加工周期性结构,使其共振吸收峰调节至近红外波段,基于此有源层构筑了纵向结构的光探测器.相比于MAPbI_(3)单晶片基器件,该器件对双... 借助空间限域法制备了毫米级的甲基碘化铅铵(MAPbI_(3))单晶片,并利用聚焦离子束刻蚀(FIB)技术在其表面加工周期性结构,使其共振吸收峰调节至近红外波段,基于此有源层构筑了纵向结构的光探测器.相比于MAPbI_(3)单晶片基器件,该器件对双光子近红外光(1064 nm)的探测能力有近2个数量级的显著提高,响应度达0.6 A/W,开关比可达1.7×10^(4)(动态线性区约84.6 dB),外量子效率为58.2%,比探测率约为6.3×10^(12) Jones(1 Jones=1 cm·Hz^(1/2)·W^(-1)).研究结果证实了利用FIB技术加工MAPbI_(3)单晶片表面周期性结构的高度可行性,这将促进钙钛矿单晶片基高性能近红外光探测器的设计和制备. 展开更多
关键词 钙钛矿单晶片 近红外光探测器 聚焦离子束刻蚀 共振吸收
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反应离子刻蚀工艺因素研究 被引量:22
7
作者 张锦 冯伯儒 +4 位作者 杜春雷 王永茹 周礼书 侯德胜 林大键 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期47-52,共6页
通过大量的实验研究,介绍了反应离子刻蚀的原理,分析了不同材料反应离子刻蚀的机理和关键的工艺因素,给出了工艺参数结果。
关键词 离子束光刻 离子腐蚀 光刻工艺
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宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺 被引量:9
8
作者 吴娜 谭鑫 +1 位作者 于海利 张方程 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期1978-1983,共6页
设计和制作了一种在同一基底上具有多闪耀角的宽波段全息-离子束刻蚀光栅。提出了组合形成宽波段全息-离子束刻蚀光栅的分区设计方法,优化了3种闪耀角混合的宽波段全息光栅设计参数,并利用反应离子束刻蚀装置对该光刻胶掩模进行刻蚀图... 设计和制作了一种在同一基底上具有多闪耀角的宽波段全息-离子束刻蚀光栅。提出了组合形成宽波段全息-离子束刻蚀光栅的分区设计方法,优化了3种闪耀角混合的宽波段全息光栅设计参数,并利用反应离子束刻蚀装置对该光刻胶掩模进行刻蚀图形转移,采用分段、分步离子束刻蚀技术开展了获得不同闪耀角的离子束刻蚀实验。最后在同一光栅基底上分区制作了位相相同,并具有9,18,29°3个不同闪耀角,口径为60mm×60mm,使用波段为200~900nm的宽波段全息光栅。衍射效率测试结果显示其在使用波段的最低衍射效率超过30%,最高衍射效率超过50%,实验结果与理论计算结果基本符合。与其它方式制作的宽波段光栅相比,采用宽波段全息-离子束刻蚀光栅不但工艺成熟,易于控制光栅槽形,而且光栅有效面积尺寸较大,便于批量复制。 展开更多
关键词 全息光栅 宽波段光栅 离子束刻蚀 刻蚀模拟
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同步辐射球面闪耀光栅的研制 被引量:8
9
作者 徐向东 洪义麟 +4 位作者 霍同林 周洪军 陶晓明 傅绍军 张允武 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期248-250,共3页
A spherical blazed grating (SBG) of 1200l/mm was successfully fabricated for the Seya Namioka monochromator of photochemistry experiment station at National Synchrotron Radiation Laboratory with the holographic ion be... A spherical blazed grating (SBG) of 1200l/mm was successfully fabricated for the Seya Namioka monochromator of photochemistry experiment station at National Synchrotron Radiation Laboratory with the holographic ion beam technique. In addition to the general process, the photoresist ashing technique is developed for achieving good quality gratings. 展开更多
关键词 离子束刻蚀 光刻胶灰化 同步辐射 球面闪耀光栅
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亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作 被引量:3
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作者 曹召良 陆广 +5 位作者 王吉增 杨柏 卢振武 李凤有 任智斌 刘玉玲 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期653-656,共4页
采用软光刻技术中的微接触印刷 (μCP)技术、表面诱导的水蒸气冷凝、表面诱导的去湿行为 ,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜 通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度、轮廓保真度和线宽分辨的影响分... 采用软光刻技术中的微接触印刷 (μCP)技术、表面诱导的水蒸气冷凝、表面诱导的去湿行为 ,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜 通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度、轮廓保真度和线宽分辨的影响分析 ,结合掩膜的实际情况选择出了合适的离子束入射角、离子能量、束流密度和刻蚀时间等参量 依照这些参量刻蚀出了高质量的亚微米尺寸环状周期结构元件 通过对刻蚀出的元件的检测发现 ,刻出的元件表面光洁度。 展开更多
关键词 离子束刻蚀 制作技术 亚微米尺寸元件 离子能量 束流密度 刻蚀速率 表面光洁度 软光刻 衍射光学元件 集成电路 亚波长光栅
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用于1m Seya-Namioka单色仪的1200lp/mm Laminar光栅 被引量:8
11
作者 徐向东 刘正坤 +3 位作者 邱克强 刘颖 洪义麟 付绍军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期1-8,共8页
针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1mSeya-Namioka单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200lp/mm Laminar光栅。首先,通过光刻胶灰化技术调节光刻胶光栅掩模占空比,在理论设计的误差允许范围内,对此光栅掩模进行... 针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1mSeya-Namioka单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200lp/mm Laminar光栅。首先,通过光刻胶灰化技术调节光刻胶光栅掩模占空比,在理论设计的误差允许范围内,对此光栅掩模进行扫描离子束刻蚀;然后,将光栅图形转移到光栅基底中去除残余光刻胶;最后,采用离子束溅射法镀制厚约40nm的金反射膜,采用热蒸发法镀制厚约60nm的铝反射膜。用原子力显微镜分析光栅微结构,结果显示光栅槽深为40nm,占空比为0.45。同步辐射在线波长扫描测试结果表明,镀铝光栅效率明显高于镀金光栅,获得的实验结果与理论计算结果基本符合。镀金光栅已替代进口光栅在线使用3年,其寿命大大超过复制光栅,基本满足了燃烧实验站的实验研究需求。 展开更多
关键词 单色仪 衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀 真空紫外
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大尺寸衍射光学元件的扫描离子束刻蚀 被引量:7
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作者 邱克强 周小为 +5 位作者 刘颖 徐向东 刘正坤 盛斌 洪义麟 付绍军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期1676-1683,共8页
总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。针对自行研制的KZ-400离子束刻蚀装置,提出了组合石墨束阑结构和多位置分步刻蚀策略来提高离子束刻蚀深度的均匀性,目前在450mm尺寸内的刻蚀深度均匀性最高可达±1%。建立了针... 总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。针对自行研制的KZ-400离子束刻蚀装置,提出了组合石墨束阑结构和多位置分步刻蚀策略来提高离子束刻蚀深度的均匀性,目前在450mm尺寸内的刻蚀深度均匀性最高可达±1%。建立了针对多层介质膜光栅的衍射强度一维空间分布在线检测系统以及用于透射衍射光学元件离子束刻蚀深度的等厚干涉在线检测系统,实现了对大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀终点的定量、科学控制,提高了元件离子束刻蚀工艺的成功率。利用上述技术,成功研制出一系列尺寸的多层介质膜光栅、光束采样光栅、色分离光栅以及同步辐射光栅等多种衍射光学元件。 展开更多
关键词 衍射光学元件 离子束刻蚀 刻蚀深度 在线检测 多层介质膜光栅
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衍射光学元件的反应离子束蚀刻研究 被引量:5
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作者 杨李茗 虞淑环 +2 位作者 许乔 舒晓武 杨国光 《光子学报》 EI CAS CSCD 1998年第2期147-151,共5页
本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法———反应离子束蚀刻法对此技术研究的结果表明:反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向异性好、蚀刻参数控制灵活等特点,对于衍射光学元件和微光学元件的精细结构制作十分有利本... 本文提出了一种制作衍射光学元件的新方法———反应离子束蚀刻法对此技术研究的结果表明:反应离子束蚀刻法具有高蚀刻速率、蚀刻过程各向异性好、蚀刻参数控制灵活等特点,对于衍射光学元件和微光学元件的精细结构制作十分有利本文详细总结了反应离子束蚀刻过程中各工艺参数对蚀刻速率的影响。 展开更多
关键词 反应离子束蚀刻 衍射 光学元件 蚀刻工艺
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激光干涉光刻法制作100nm掩模 被引量:8
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作者 陈欣 赵青 +2 位作者 方亮 王长涛 罗先刚 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期806-810,共5页
介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干涉图形对比度可能产生影响的两个参数分别进行了数值仿真,从而证明此方法的可行性和参数的优化选择。自... 介绍了一种利用激光干涉光刻技术得到特征图形,并通过离子束刻蚀将图形转移到铬层上,从而获得掩模的方法。针对掩模透光率以及对干涉图形对比度可能产生影响的两个参数分别进行了数值仿真,从而证明此方法的可行性和参数的优化选择。自搭干涉光刻实验系统,用257 nm的激光光源实现光刻,得到特征尺寸为100 nm的图形,再经过离子束刻蚀,最终得到周期200 nm、线宽100 nm的掩模。 展开更多
关键词 激光干涉光刻 离子束刻蚀 纳米光刻 微纳结构制造
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CeO_2乙苯脱氢催化剂的XRD、XPS研究 被引量:6
15
作者 韩伟 林仁存 +1 位作者 谢兆雄 王水菊 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期701-704,共4页
利用XPS中的Ar+溅射技术,发现CeO2是一种Ce3+和Ce4+共存的混合价态氧化物,其表面Ce3+/Ce4+比是0.1.在乙苯脱氢条件下,CeO2催化剂表面存在如下动态平衡:CeO2■CeO2-x(0<x<0.3),CeO2和CeO2-x存在于同一晶体中,CaF2型晶体结构并没有... 利用XPS中的Ar+溅射技术,发现CeO2是一种Ce3+和Ce4+共存的混合价态氧化物,其表面Ce3+/Ce4+比是0.1.在乙苯脱氢条件下,CeO2催化剂表面存在如下动态平衡:CeO2■CeO2-x(0<x<0.3),CeO2和CeO2-x存在于同一晶体中,CaF2型晶体结构并没有发生改变.实验表明,稳定的苯乙烯收率与表面CeO2-CeO2-x稳定物相密切相关,乙苯催化脱氢的活性相可能是CeO2-CeO2-x.CeO2催化剂表面Ce3+/Ce4+比值下降,其副产物(苯和甲苯)含量随之减少,乙苯脱氢选择性随之提高. 展开更多
关键词 CEO2 乙苯脱氢 XPS 氩离子溅射 XRD
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热处理对离子束溅射Ta_2O_5薄膜特性的影响 被引量:5
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作者 刘华松 姜承慧 +3 位作者 王利栓 刘丹丹 季一勤 陈德应 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期2645-2651,共7页
利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100~600℃的大气氛围中对其进行热处理(步进温度为100℃),并对热处理后样品的光学常数(折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度)、应力、晶向和表面形貌进行了研究.研究显示,随着热... 利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100~600℃的大气氛围中对其进行热处理(步进温度为100℃),并对热处理后样品的光学常数(折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度)、应力、晶向和表面形貌进行了研究.研究显示,随着热处理温度增加,薄膜折射率整体呈下降趋势,折射率非均匀性和物理厚度呈增加趋势,结果有效地改善了薄膜的消光系数和应力,但薄膜的晶向和表面形貌均未出现明显的变化.结果表明:热处理可以有效改变薄膜特性,但需要根据Ta2O5薄膜具体应用综合选择最优的热处理温度.本文对离子束溅射Ta2O5薄膜的热处理参数选择具有指导意义. 展开更多
关键词 离子束溅射 Ta2O5薄膜 退火温度 光学常数 薄膜折射率
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离子束刻蚀工艺误差对DOE器件的影响 被引量:4
17
作者 刘强 张晓波 +2 位作者 邬融 田杨超 李永平 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期50-54,60,共6页
针对衍射光学元件(DOE)的离子束刻蚀工艺,结合掩模套刻过程实例,本文提出了刻蚀误差面形分布的概念。在标量衍射的夫琅和费原理上,进行了误差数值模拟分析及讨论。模拟分析和实验数据结果表明,误差的面形分布在DOE器件的衍射焦斑中心会... 针对衍射光学元件(DOE)的离子束刻蚀工艺,结合掩模套刻过程实例,本文提出了刻蚀误差面形分布的概念。在标量衍射的夫琅和费原理上,进行了误差数值模拟分析及讨论。模拟分析和实验数据结果表明,误差的面形分布在DOE器件的衍射焦斑中心会产生一个明显的光强畸变毛刺亮点,严重破坏了靶场照明的均匀性。 展开更多
关键词 衍射光学元件 误差面形 掩模套刻 离子束刻蚀
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钛种植体SLA表面HA涂层对骨髓源成骨细胞生物学特性的影响 被引量:10
18
作者 王程越 赵宝红 +1 位作者 艾红军 崔福斋 《实用口腔医学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期343-346,共4页
目的:探讨表面喷砂和酸蚀(SLA)处理后羟基磷灰石(HA)涂层的钛种植体(HA-SLA-Ti),对骨髓源成骨细胞(MOOBs)生物学特性的影响。方法:应用离子束辅助沉积技术(IBAD)在SLA处理的钛种植体(SLA-Ti)表面制备HA涂层,将MOOBs分别接种于HA-SLA-Ti... 目的:探讨表面喷砂和酸蚀(SLA)处理后羟基磷灰石(HA)涂层的钛种植体(HA-SLA-Ti),对骨髓源成骨细胞(MOOBs)生物学特性的影响。方法:应用离子束辅助沉积技术(IBAD)在SLA处理的钛种植体(SLA-Ti)表面制备HA涂层,将MOOBs分别接种于HA-SLA-Ti和SLA-Ti表面,观察其生长情况,并对2组MOOBs增殖指数、碱性磷酸酶活性、骨钙素含量以及骨桥蛋白基因(opn)mRNA相对表达量进行比较。结果:MOOBs在HA-SLA-Ti表面生长良好,其细胞增殖指数、碱性磷酸酶活性以及骨钙素含量明显高于SLA-Ti组;且opnmRNA相对表达量是SLA-Ti组的3.25倍。结论:应用IBAD技术在钛种植体SLA表面制备HA涂层,可明显促进MOOBs的增殖及其成骨表型的表达,是一种有应用前景的种植体表面处理方法。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 喷砂 酸蚀 羟基磷灰石 成骨细胞
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线列熔融石英微透镜阵列的光刻和氩离子束刻蚀制备 被引量:11
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作者 张新宇 易新建 +3 位作者 赵兴荣 麦志洪 何苗 刘鲁勤 《量子电子学报》 CAS CSCD 1998年第1期66-73,共8页
采用光刻和熔融成形法制备线列长方形供面光致抗蚀剂微透镜图形,采用固化技术对其作重整化处理,采用氩离子(Ar+)束刻蚀有效地实现线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形阵列向熔融石英(SiO2)基片上转移。所制单元熔融石英微透镜底... 采用光刻和熔融成形法制备线列长方形供面光致抗蚀剂微透镜图形,采用固化技术对其作重整化处理,采用氩离子(Ar+)束刻蚀有效地实现线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形阵列向熔融石英(SiO2)基片上转移。所制单元熔融石英微透镜底部的外形尺寸为300×95μm2,平均冠高14.3μm,平均曲率半径为86μm,平均焦距为258.1μm平均F/数2.7,平均大T/数2.9;平均光焦度5.8×10(-3)折光度。扫描电子显微镜(SEM)和表面探针测试表明,所制成的线列熔融石英微透镜阵列的图形整齐均匀,每个单元长方形拱面熔融石英微透镜的轮廓清晰,表面光滑平整。实验结果证实,光刻/氩离子束刻蚀技术适用于制备具有良好的均匀性和光学质量的单片熔融石英微透镜阵列器件,此技术对于制备与大面阵凝视焦平面成像探测器相匹配的大面降微透镜阵列具有重要意义。 展开更多
关键词 光刻 氩离子束刻蚀 微透镜 制备 微光学元件
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平面调制靶的表面起伏图形研制 被引量:8
20
作者 陈建荣 王珏 +5 位作者 陈玲燕 沈军 杜保旗 周斌 秦树基 陈家华 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 1996年第4期616-622,共7页
表面起伏靶是惯性约束聚变(ICF)分解实验中的重要实验用靶。本文报导了采用离子束刻蚀和激光干涉两种方法制备初始微扰振幅和波长分别在几微米和几十微米范围的正弦调制形状;摸索了相应的工艺条件和工艺过程;用台阶仪及光学显微... 表面起伏靶是惯性约束聚变(ICF)分解实验中的重要实验用靶。本文报导了采用离子束刻蚀和激光干涉两种方法制备初始微扰振幅和波长分别在几微米和几十微米范围的正弦调制形状;摸索了相应的工艺条件和工艺过程;用台阶仪及光学显微轮廓仪测微加工后的形貌;探讨了调制波长的精确控制与干涉工艺之间的关系。 展开更多
关键词 平面靶 正弦起伏 激光干涉 惯性约束聚变
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