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SIMS含铀微粒同位素比分析中多原子离子影响及消除方法研究 被引量:3
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作者 沈彦 王同兴 +2 位作者 王琛 张燕 赵永刚 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期585-593,共9页
实际环境样品基体成分十分复杂,多原子离子对二次离子质谱(SIMS)单微粒铀同位素比分析的影响不可忽略。本文实验分析了Pb、Ni、Zn、Si的多原子离子在SIMS单微粒铀同位素比分析中的干扰,并分别采用提高质量分辨率以及根据核素离子强度扣... 实际环境样品基体成分十分复杂,多原子离子对二次离子质谱(SIMS)单微粒铀同位素比分析的影响不可忽略。本文实验分析了Pb、Ni、Zn、Si的多原子离子在SIMS单微粒铀同位素比分析中的干扰,并分别采用提高质量分辨率以及根据核素离子强度扣除其多原子离子的方法对结果进行校正。结果表明:Pb和Ni的多原子离子会影响含铀微粒次同位素比的测量,对铀主同位素比的影响可忽略;Zn和Si的多原子离子对铀主、次同位素比测量均基本无影响。将质量分辨率提高至800,能完全消除Ni多原子离子的影响,Ni-CRM U030混合(Ni粉混合CRM U030)微粒^(234)U/^(238)U同位素比测量值与参考值之间的相对偏差基本好于5%,^(236)U/^(238)U同位素比测量值与参考值之间的相对偏差基本好于15%;Pb多原子离子干扰无法通过提高质量分辨率进行消除,根据Pb离子强度扣除其多原子离子后,Pb-CRM U030混合微粒的^(234)U/^(238)U同位素比测量值与参考值之间的相对偏差基本好于10%,^(236)U/^(238)U同位素比测量值与参考值之间的相对偏差基本好于50%。将以上消除干扰的方法应用于真实样品分析,结果表明,其有效消除了多原子离子带来的干扰。 展开更多
关键词 sims 微粒分析 多原子离子 含铀微粒
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XPS、AFM和ToF-SIMS的工作原理及在植物纤维表面分析中的应用 被引量:7
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作者 雷晓春 林鹿 李可成 《中国造纸学报》 EI CAS CSCD 2006年第4期97-101,共5页
介绍了先进的表面分析仪器化学分析电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、含飞行时间分析器的二次离子质谱仪(ToF-SIMS)的工作原理,回顾了近年来它们在植物纤维表面分析中的成功应用,综合利用XPS、AFM及ToF-SIMS方法,可分析和解决制浆造... 介绍了先进的表面分析仪器化学分析电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、含飞行时间分析器的二次离子质谱仪(ToF-SIMS)的工作原理,回顾了近年来它们在植物纤维表面分析中的成功应用,综合利用XPS、AFM及ToF-SIMS方法,可分析和解决制浆造纸过程中的现象和问题。 展开更多
关键词 XPS AFM ToF—sims 原理 纤维表面
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SIMS对氘靶钛膜中氘的分布研究 被引量:3
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作者 李宏发 翟国良 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第1期65-68,共4页
用负的SIMS分析技术进行H同位素相对含量随Ti膜深度变化的分析,获得了氘随膜深度变化的分布曲线。在接近膜表面的一个深度范围内,除有明显的O-、CO-和很微弱的OH-、OD-及CHO-峰谱外,还有很大的D-二次离子质... 用负的SIMS分析技术进行H同位素相对含量随Ti膜深度变化的分析,获得了氘随膜深度变化的分布曲线。在接近膜表面的一个深度范围内,除有明显的O-、CO-和很微弱的OH-、OD-及CHO-峰谱外,还有很大的D-二次离子质谱峰,氘的丰度估计约为98%。在靶膜内部,氘的丰度达99%以上。在接近膜与底衬交界面的地方,D-谱峰很小,O-谱峰为痕迹量。文章对分析结果进行了讨论。 展开更多
关键词 真空镀膜 sims 纵深分布 氘丰度 氘靶 钛膜
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单晶硅表面钝化层在低能电子辐照前后的SIMS和XPS分析 被引量:1
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作者 杨玉青 雷轶松 +4 位作者 向勇军 李刚 熊晓玲 徐建 董文丽 《核化学与放射化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第1期74-80,I0003,共8页
为了研究低能电子辐照对单晶硅器件表面钝化材料中产生的化学微结构的变化,在轻掺杂P型单晶硅基底上制作了三种表面钝化膜,分别是单一SiO2钝化膜、SiO2/Si3N4复合钝化膜、硼硅玻璃/Si3N4复合钝化膜,开展了表面钝化单晶硅在最大能量70 ke... 为了研究低能电子辐照对单晶硅器件表面钝化材料中产生的化学微结构的变化,在轻掺杂P型单晶硅基底上制作了三种表面钝化膜,分别是单一SiO2钝化膜、SiO2/Si3N4复合钝化膜、硼硅玻璃/Si3N4复合钝化膜,开展了表面钝化单晶硅在最大能量70 keV的加速器电子束下的辐照实验。样品在空气气氛下辐照6 h,用二次离子质谱(SIMS)测试了辐照前后三种表面钝化膜中Si、N、B的纵深变化,同时用Ar离子刻蚀X射线表面光电子能谱(XPS)对Si元素的化学结合状态进行测试分析。结果表明:对单一SiO2钝化的轻掺杂P型材料,辐照在SiO2/Si界面产生明显的材料结构变化,界面附近的SiO2不再是完整化学计量比,而是SiOx(x<2);对SiO2/Si3N4复合钝化的轻掺杂P型材料,辐照对SiO2/Si3N4界面结构影响较小,主要的影响仍然在SiO2/Si界面,SiO2辐照分解后产生的游离O元素可扩散到SiO2/Si3N4界面;辐照在硼硅玻璃/Si界面和硼硅玻璃/Si 3N 4界面引起的变化小于在SiO2/Si界面和SiO2/Si3N4界面的变化。研究表明低能电子辐照对单晶硅表面钝化层的化学微结构损伤主要存在于SiO 2/Si界面,该结构损伤并不能通过SiO2/Si3N4复合钝化得到明显改善,而采用硼硅玻璃/Si 3N 4复合钝化有助于增强单晶硅表面及钝化层各界面材料结构的稳定性。 展开更多
关键词 表面钝化 低能电子辐照 sims XPS β辐伏同位素电池
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BF_2^+注入多晶硅栅的SIMS分析 被引量:1
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作者 刘家璐 张廷庆 +1 位作者 张正选 赵元富 《电子科学学刊》 CSCD 1994年第5期541-544,共4页
文本采用SIMS技术,分析了BF_2^+注入多晶硅栅退火前后F原子在多晶硅和SiO_2中的迁移特性。结果表明,80keV,2×10^(15)和5×10^(15)cm^(-2) BF_2^+注入多晶硅栅经过900℃,30min退火后,部分F原子已扩散到SiO_a中。F在多晶硅和SiO_... 文本采用SIMS技术,分析了BF_2^+注入多晶硅栅退火前后F原子在多晶硅和SiO_2中的迁移特性。结果表明,80keV,2×10^(15)和5×10^(15)cm^(-2) BF_2^+注入多晶硅栅经过900℃,30min退火后,部分F原子已扩散到SiO_a中。F在多晶硅和SiO_2中的迁移行为呈现不规则的特性,这归因于损伤缺陷和键缺陷对F原子的富集作用。 展开更多
关键词 三氟化硼 硅栅 离子注入 sims
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SIMS测量铀氧化物中氧同位素比的方法研究
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作者 王同兴 张生栋 +3 位作者 赵永刚 沈彦 张燕 姜小燕 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期2092-2096,共5页
在核法证领域,氧同位素比有可能作为铀矿石、铀氧化物等初级核材料地域来源的一个辅助判据。本文研究了用SIMS测量铀氧化物中氧同位素比时的质量刻度、一次离子束强度、质量分辨率等仪器参数对二次离子发射、氧同位素比测量等的影响因素... 在核法证领域,氧同位素比有可能作为铀矿石、铀氧化物等初级核材料地域来源的一个辅助判据。本文研究了用SIMS测量铀氧化物中氧同位素比时的质量刻度、一次离子束强度、质量分辨率等仪器参数对二次离子发射、氧同位素比测量等的影响因素,优化了仪器测量参数,建立了SIMS测量铀氧化物中氧同位素比的测量方法。在不同时间对同一样品进行了分析,测量结果基本一致,测量相对标准偏差小于1.6%。建立的方法将来可应用于核法证对铀氧化物中氧同位素的分析需要,为核材料/放射源的溯源提供辅助判据。 展开更多
关键词 核法证学 氧同位素比 sims 溯源 铀氧化物
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硅中磷杂质的SIMS定量检测 被引量:4
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作者 陈密惠 何秀坤 +1 位作者 马农农 曹全喜 《电子科技》 2010年第9期68-70,共3页
利用SIMS(二次离子质谱仪)测试了国产重掺砷硅单晶中的痕量杂质磷,通过样品前期处理和精密的仪器调试,使检测时间缩短,并使硅中磷的检测限达到5×1013cm-3。实验结果表明,样品的前期处理工艺会对检测结果产生影响。不同处理工艺得... 利用SIMS(二次离子质谱仪)测试了国产重掺砷硅单晶中的痕量杂质磷,通过样品前期处理和精密的仪器调试,使检测时间缩短,并使硅中磷的检测限达到5×1013cm-3。实验结果表明,样品的前期处理工艺会对检测结果产生影响。不同处理工艺得到的样品,在表面粗糙度方面产生区别。不同的表面粗糙度,影响到样品的测试时间和测试精度。同时,通过仪器调试,仪器的真空度达到1×10-10torr,使测试背底和检测限降低。 展开更多
关键词 sims 重掺砷硅 磷杂质 前期处理
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Ti-Ta吸气丝的SIMS分析 被引量:1
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作者 邓金祥 夏长虹 +3 位作者 陶兆民 余镇江 杨得全 张韶红 《光电子技术》 CAS 1991年第1期35-37,共3页
本文给出两种Ti-Ta吸气丝的SIMS分析,比较其结果,对其吸气性能的差异予以讨论,指出其中一种Ti-Ta吸气丝吸气性能差的原因。
关键词 Ti-Ta 吸气剂 吸气材料 sims分析
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GaN单晶中Mg含量的SIMS定量分析方法
9
作者 何友琴 马农农 +2 位作者 陈潇 张鑫 刘立娜 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第7期571-575,共5页
GaN材料是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料,在其单晶材料的研制过程中,掺杂剂Mg的含量对生长p型GaN有重要影响,所以对Mg浓度的精确测定至关重要。采用相对灵敏度因子法,以离子注入样品为参考样品,对GaN单晶中Mg元素含量的... GaN材料是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料,在其单晶材料的研制过程中,掺杂剂Mg的含量对生长p型GaN有重要影响,所以对Mg浓度的精确测定至关重要。采用相对灵敏度因子法,以离子注入样品为参考样品,对GaN单晶中Mg元素含量的二次离子质谱(SIMS)定量分析方法进行了研究,并通过改变扫描面积,使GaN单晶中Mg元素浓度的检测限达到5.0×1015 cm-3。该方法具有高稳定性(精密度小于10%)和可靠性,在没有可溯源参考样品的情况下,可自制参考样品实现对GaN晶体中Mg含量的SIMS定量分析。该方法成为GaN单晶中Mg杂质含量的可行的检测方法之一。 展开更多
关键词 氮化镓 相对灵敏度因子 二次离子质谱(sims) 定量分析
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SIMS研究人造金刚石与金属膜的界面结合强度
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作者 邵玉霞 陈廉 《分析测试通报》 CSCD 1992年第6期43-45,共3页
文中利用SIMS研究了人造金刚石与金属膜的界面结合强度。结果表明;金刚石与钛膜的结合强度高于与镍膜的结合强度,热处理的结合强度高于未处理的强度。
关键词 结合强度 金属膜 金刚石 sims
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SIMOX材料注F^+后的SIMS分析 被引量:1
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作者 曾健 高剑侠 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1999年第5期34-35,共2页
实验中采用三种剂量注入SIMOX (注氧隔离硅) 材料中, 注入剂量分别为5×1012F+ /cm 2,5×1013F+ /cm 2, 1×1015F+ /cm 2, 用SIMS技术分析了F在材料中的浓度分布, 结果... 实验中采用三种剂量注入SIMOX (注氧隔离硅) 材料中, 注入剂量分别为5×1012F+ /cm 2,5×1013F+ /cm 2, 1×1015F+ /cm 2, 用SIMS技术分析了F在材料中的浓度分布, 结果表明, 随着注F+能量和剂量的改变, F+ 展开更多
关键词 F离子注入 SIMOX材料 sims分析 抗辐射
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表面分析技术(XPS及SIMS)在固体推进剂燃烧理论研究中的应用 被引量:1
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作者 马庆云 杨荣杰 《兵工学报》 EI CAS 1987年第4期50-55,共6页
本文用XPS和SIMS研究了燃烧催化剂Cr_2O_3的表面性质,并测定了它对AP催化燃烧作用的影响。得知,经煅烧的Cr_2O_3由于表面性质的变化而加强了催化燃烧作用。
关键词 催化燃烧 sims 燃烧催化剂 表面性质 XPS 固体推进剂 表面分析技术 锻烧 表面元素 燃烧理论
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TOF SIMS Study on PAHs in Individual Particle from a Power Station 被引量:1
13
作者 梁汉东 于春海 +1 位作者 周强 李艳芳 《Journal of China University of Mining and Technology》 2001年第2期150-154,共5页
The individual particles collected from a power station were analyzed by time of flight secondary ion mass spectrometry (TOF SIMS). The result indicates the presence of the polycyclic aromatic hydrocarbon (PAHs) as we... The individual particles collected from a power station were analyzed by time of flight secondary ion mass spectrometry (TOF SIMS). The result indicates the presence of the polycyclic aromatic hydrocarbon (PAHs) as well as the oxygenated one. They might be derived from the incomplete combustion of coals. SIMS has proved to be a rapid method for the qualitative analysis of PAHs and OPAHs absorbed on the aerosol particles. New perspectives for better understanding the SIMS spectra obtained from complex mixture such as environmental samples have been opened. 展开更多
关键词 TOF sims polycyclic aromatic hydrocarbon (PAHs) oxygenated polycyclic aromatic hydrocarbon (OPAHs) environmental particles power station
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DEPTH PROFILES OF BROMINE IN ^(79)Br^(+) ION IMPLANTED Pb_(1-x)Sn_(x)Te OBTAINED BY SIMS MEASUREMENT AND THEORETICAL CALCULATION
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作者 XIA Yueyuan(Y.Y.HSIA) TAN Chunyu +2 位作者 WANG Yihua HU Xierong XU qianwei 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS 1986年第8期337-340,共4页
The depth profile of Br in ^(79)Br^(+) ion implanted lead-tin-telluride,Pb_(1-x)Sn_(x),was obtained by secondary ion mass spectrometry(SIMS).The SIMS profile has been compared with that obtained by our theoretical cal... The depth profile of Br in ^(79)Br^(+) ion implanted lead-tin-telluride,Pb_(1-x)Sn_(x),was obtained by secondary ion mass spectrometry(SIMS).The SIMS profile has been compared with that obtained by our theoretical calculation,in which a more realistic interatomic potential and reasonable electronic stopping power were used.The SIMS result agrees well with the theoretical calculation. 展开更多
关键词 calculation. sims (x)
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Compositional analysis in the nano-regime: A SIMS perspe ctive
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作者 Subhendu Sarkar Purushottam Chakraborty 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期393-399,共7页
A serious problem in secondary ion mass spectrometry (SI MS ) analysis is its “matrix effect” that hinders the quantification of a certain species in a sample and consequently, appropriate corrective measures are ta... A serious problem in secondary ion mass spectrometry (SI MS ) analysis is its “matrix effect” that hinders the quantification of a certain species in a sample and consequently, appropriate corrective measures are taken to calibrate the secondary ion currents into respective concentrations for accu rate compositional analysis. Use of “calibration standards” is necessary for t his purpose. Detection of molecular MCs_n+ ions (M-element to be analyz ed , n=1, 2, 3,….) under Cs+ ion bombardment is a possible mean to minimiz e such matrix effect, enabling one to quantify without the need of calibration sta ndards. Our recent studies on MCs_n+ molecular ions aim towards the understanding of their formation mechanisms, which are important to know their e ffects on SIMS quantification. In-depth quantitative analysis is a major strength of SIMS for which ‘depth resolution’ is of significant relevance. The optimal choice of the impact pa rameters during SIMS analyses can play an effective role in obtaining data with ultra-high depth resolution. SIMS is possible at depth resolution in the nm or even sub-nm rang e, with quantifiable data obtained from the top monolayer onwards into the material. Wi th optimized experimental conditions, like extremely low beam current (down to ~10 nA), and low bombarding energy (below 1 keV), ultra-high depth resolution SIMS has e nabled interfacial composition analysis of ultra-thin films, quantum wells, heterostru ctures, etc. and complex low-dimensional structures with high precision and re peatability. 展开更多
关键词 sims 次级离子质谱 离子 光谱测定法
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ION BEAM AND SIMS ANALYSIS ON DAMAGE OF GaAs DOPED WITH N^+
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作者 吴小山 林振金 +1 位作者 姬成周 杨锡震 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 1994年第3期154-161,共8页
The Rutherford backscattering (RBS) spectra of N+-implanted GaAs are measured with a He+ ion beam of 2.1MeV. The backscattering yield along 【 100 】 aligned incidence increases with the increase in implanted doses. T... The Rutherford backscattering (RBS) spectra of N+-implanted GaAs are measured with a He+ ion beam of 2.1MeV. The backscattering yield along 【 100 】 aligned incidence increases with the increase in implanted doses. The depth profiles of nitrogen and arsenic are measured by secondary ion mass spectrometer (SIMS).The diffusion of nitrogen in the implanted layers is explained as interstitial migration. The damage is very severe during the ion implantation, and it can be recovered psrtly by annealing. The two-step annealing improves the effect obviously. The calculstion on distribution of damage shows that the recovery is proceeded from the inner side to the surface during the annealing. The mechanism of damage is discussed briefly. 展开更多
关键词 Ion implantation Damage RBS channeling sims Depth profile
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SIMS E-mail转寻呼系统平台的实现
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作者 张凯 赵林 《中国数据通信》 2001年第6期32-35,共4页
ISP如何在原有的Mail Server平台上进行低成本高效率的改造开发,在原有的系统上实现这一增值性的高端服务,本文简述了一个较为详细的解决方案,可以给IP技术管理人员一个启示。
关键词 电子邮件 sims 寻呼系统平台 密码 数据库
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高聚焦性双梯形双层经颅磁线圈的设计
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作者 靳贵平 杨思思 +2 位作者 涂治红 徐向民 邢晓芬 《郑州大学学报(工学版)》 CAS 北大核心 2025年第1期119-125,共7页
基于聚焦性能对经颅磁线圈的影响,针对聚焦型线圈商用不足的问题,设计一种具有高聚焦性的单通道双梯形双层线圈。首先使用球头模型分析不同尺寸、相同结构的线圈性能,得到较优的线圈尺寸;为进一步提升聚焦度,再以中尺寸线圈为研究目标,... 基于聚焦性能对经颅磁线圈的影响,针对聚焦型线圈商用不足的问题,设计一种具有高聚焦性的单通道双梯形双层线圈。首先使用球头模型分析不同尺寸、相同结构的线圈性能,得到较优的线圈尺寸;为进一步提升聚焦度,再以中尺寸线圈为研究目标,探讨五种不同结构的双层线圈与两种商用8字形线圈的性能差异,得到最优线圈的结构;最后使用50组存在个体差异性的真实脑模型进行仿真验证,分析球头模型结果的可靠性。仿真结果表明:使用球头模型时,优化后的新型线圈对比70 mm figure-8 coil的聚焦度提升了69.48%,刺激深度减少了27.18%;对比25 mm figure-8 coil的聚焦度提升了44.78%,刺激深度减少了8.5%;使用50组真实脑模型时,优化后的新型线圈对比70 mm figure-8 coil的聚焦度提升了62.07%,刺激深度减少了25.71%;对比25 mm figure-8 coil的聚焦度提升了39.49%,刺激深度减少了9.5%。两种模型仿真数据结果趋于一致,证实了仿真可靠性的同时也证明了新型线圈具有更强的刺激强度和聚焦度,能大大提升TMS治疗的安全性,减少不适感,同时单通道设计易于实现,具有较高的性能优势。 展开更多
关键词 电磁感应 聚焦度 经颅磁刺激 Sim4Life 真实脑模型
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一种SiC MOSFET栅氧界面缺陷的POA优化工艺
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作者 付兴中 刘俊哲 +4 位作者 薛建红 尹志鹏 谭永亮 王德君 张力江 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第12期1144-1152,共9页
栅氧界面缺陷严重影响SiC MOSFET性能。开发了一种NO氧化后退火(POA)优化工艺,采用氮、氢、氧、氯四种元素组合钝化工艺,实现对SiC MOSFET栅氧界面缺陷的抑制。通过X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)和电学测试,对工艺优化前后... 栅氧界面缺陷严重影响SiC MOSFET性能。开发了一种NO氧化后退火(POA)优化工艺,采用氮、氢、氧、氯四种元素组合钝化工艺,实现对SiC MOSFET栅氧界面缺陷的抑制。通过X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)和电学测试,对工艺优化前后的SiC MOSFET栅氧界面缺陷类型及器件电学特性进行了分析。测试结果表明,采用传统NO POA工艺的SiC MOSFET退火后在栅氧化层和栅氧界面中存在大量缺陷,尤其是C相关缺陷,影响器件栅氧的绝缘特性。POA优化工艺对SiC MOSFET栅氧界面缺陷具有明显的抑制作用,可极大地提高N元素对栅氧界面缺陷的钝化效果,并且抑制了O空位的形成,进而提升了器件的可靠性和迁移率,降低了界面态密度,对器件性能起到了较好的优化效果。 展开更多
关键词 SiC MOSFET X射线光电子能谱(XPS) 二次离子质谱(sims) 界面缺陷 氧化后退火(POA)
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C2SIM互操作标准发展关键问题研究
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作者 赵鑫业 王数 +1 位作者 苑博 孙光明 《兵工自动化》 北大核心 2024年第11期61-69,共9页
针对联合作战信息交换需求和多军兵种作战数据互联互通问题,采用指挥控制系统与仿真系统之间交互性标准(command and control systems-simulation systems interoperation,C2SIM)标准指导实现指挥控制系统、仿真系统和无人系统之间的高... 针对联合作战信息交换需求和多军兵种作战数据互联互通问题,采用指挥控制系统与仿真系统之间交互性标准(command and control systems-simulation systems interoperation,C2SIM)标准指导实现指挥控制系统、仿真系统和无人系统之间的高效互操作。概述C2SIM的地位、作用和开发概况;介绍C2SIM逻辑数据模型开发方法;从C2SIM核心本体、领域本体扩展、本体到XML Schema的转换和参考实现等方面,分析C2SIM的关键技术问题;探讨C2SIM标准在北约近年中实兵演习中的应用情况;总结C2SIM的发展和影响,为我军标准化互操作技术的构建提供方法和技术上的启发和借鉴。结果表明,该研究可有效提高军事信息系统的开发能力和质量。 展开更多
关键词 C2SIM 指挥控制系统 作战仿真系统 互操作性 标准化
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