等离子腐蚀技术

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摘要用腐蚀复印图形是微电子生产的一个组成部分。化学(湿法)腐蚀是最早的刻蚀技术,它有一定的局限性,包括掩模与衬底的附着力差,缺乏各向异性的化学性质,因而不能复印微米或亚微米尺寸的拓朴元件。还有腐蚀液难于渗入狭窄的。

作者 Tina J.Cotler 马长青

出处《微电子学》 CAS CSCD 1991年第4期60-65,共6页 Microelectronics

关键词微电子学集成电路等离子腐蚀

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微电子学

1991年第4期

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