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酸性蚀刻废液中铜的形态分布及电化学行为 被引量:4

The Morphology and Electrochemical Performance for Copper in Waste Acidic Etching Solution
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摘要 在氯化物体系中,Cu+、Cu2+均能与Cl-形成多种形态的配合物,存在形态及分布与溶液中各离子浓度有关。由于各种配合物的稳定性不同,致使Cu+、Cu2+氯化物的溶解度及电极电位也不同。对酸性蚀刻废液中铜的存在形态、电化学行为、以及采用隔膜电解法回收工艺的可行性进行了分析。 In chloride solution, both Cu( Ⅰ ) and Cu( Ⅱ ) can react with C1- to form diverse compounds, which morphology and distribution correlated to divers ion concentration. And the electrode potential of Cu ( Ⅰ ) and Cu( Ⅱ ), as well as the chloride solubility, convert for the stability difference of the compounds. Meanwhile, it's also simply analysed in the paper that the existing morphology, electrochemical performance and the feasibility of the recovery process by diaphragm electrolysis for Cu in waste acidic etching solution.
出处 《中国资源综合利用》 2010年第2期9-12,共4页 China Resources Comprehensive Utilization
基金 广东省科技计划项目(项目编号:2007B080203003)
关键词 氯化物 配合物 电极电位 隔膜电解 酸性蚀刻废液 chloride compound electrode potential diaphragm electrolysis waste acidic etching solution
作者简介 程华月(1973-),男,安徽怀宁人,工程师,硕士,从事有色金属、功能材料的研究开发及资源再生利用技术研究。
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参考文献4

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