摘要
介绍了脉冲激光薄膜沉积技术(PLD)的原理,建立了PLD成膜过程初期生长的物理模型,并运用动力学蒙特卡罗方法对基于硅衬底的铜膜PLD生长进行了计算机模拟,得到生长形态图及剖面图,在相同的参数下做PLD实验,将所得原子力测试图与模拟进行了比较,结果相近。
Make an introduce to the pulsed laser deposition technique, then we build the physical model for the growth of thin film produced by pulsed laser deposition. With the method of Kinetic Monte Carlo（KMC） we simulate the growing process of the Cu film on the underlay of silicon, from which we get the shape and cutaway view .And then we do the PLD experiment using the same parameters. The chart from the atom test is compared to the ones we got in the simulation.
出处
《微计算机信息》
北大核心
2007年第31期197-198,289,共3页
Control & Automation
基金
国家自然科学基金资助项目(50331040
60171043)
作者简介
崔海涛（1981-），男，山东青岛人，硕士生，主要从事激光制备薄膜材料研究；通讯地址：（710051陕西陕西省西安市长乐东路甲字1号空军工程大学理学院研究生1队）崔海涛
王永仓（1958-），男，陕西宝鸡人，教授，主要从事激光制备CMR薄膜材料研究。
