摘要
介绍了SiC薄膜的一种主要制备方法———化学汽相沉积(CVD)法制备SiC薄膜的近年研究进展,并对所制备薄膜的结构特征与物理性质进行了简要评述。
The recent progress on fabricating methods of SiC films using chemical vapor deposition （CVD） was introduced, and the structural characteristics and physical properties of the CVD-SiC films were also reviewed.
出处
《微纳电子技术》
CAS
2006年第1期11-15,共5页
Micronanoelectronic Technology
作者简介
简红彬（1978-），男，河北大学在读研究生，主要从事纳米薄膜的研究；
康建波（1981-），男，河北大学在读研究生，主要从事纳米薄膜的研究；
于威（1965-），男，河北大学教授，硕士生导师，主要从事发光材料的研究。
