摘要
用扫描电镜和X射线能谱分析仪研究高温氧化及薄膜工艺过程中主要溶液对氮化铝陶瓷(AlN)基板的影响。结果表明:高温氧化使表面氧含量增加,在1000℃氧化2h,表面已形成致密的氧化层。碱性溶液清洗和去离子水煮会使表面产生多孔的疏松化合物。采用高温氧化、酸性清洗、溅射前加强离子轰击等措施,磁控溅射TiCu,其薄膜膜层附着力不低于15MPa。
The influence of oxidation treatment and immersing in main solutions on AIN substrate surface properties was studied by SEM and XPS. The results shows that oxygen content of AIN surface increased after high temperature oxidation, a high density Al2O3 layer formed after 2 h oxidation at 1 000℃. In alkaline solution or boiling deionized water a kind of porous compound was formed. By high temperature oxidation, acid solution cleaning, plasma cleaning before sputtering, magnetron-sputtering Ti/Cu film, the thin film adhesion is not less than 15 Mpa.
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2005年第9期45-47,共3页
Electronic Components And Materials
关键词
无机非金属材料
AIN
表面处理
薄膜
附着力
inorganic non-metallic materials
AIN
surface treatment
thin film
adhesion
作者简介
通讯作者：刘刚 刘刚（1967-）．男，江苏铜山人，高级工程师，主要从事微波混合集成电路制造技术研究。Tel：（025）83773360，13951700956；E-mail：Liugg@jlonline．com；
王从香（1971-），男，江苏淮安人．高级工程师，主要从事微波混合集成电路制造技术研究。Tel：（025）83773360。
