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新兴的波前工程学被引量：1

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摘要基于光学衍射原理而发展起来的新光学技术，应用于光学掩模设计，可制作逼近临界尺寸的微小元件和极高密度的集成电路芯片．波前工程学可能导致集成电路模板制作上的一场革命，其前景十分引人瞩目．

作者杨国桢顾本源张国庆董碧珍

机构地区中国科学院物理研究所

出处《物理》 CAS 北大核心 1995年第1期5-12,共8页 Physics

关键词光学掩模光刻蚀术波前工程集成电路

分类号 TN430.5 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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物理

1995年第1期

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