PLZT陶瓷纤维/环氧树脂1-3复合材料的制备和性能研究 被引量：22

1

作者 李坤 李金华 +1 位作者 李锦春 陈王丽华 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期361-366,共6页

以乙酸铅、乙酸镧、乙酸氧锆和钛酸丁酯为原料,用溶胶-凝胶法制备了掺镧锆钛酸铅(PLZT)凝胶纤维.该纤维经热解、烧结后成为直径约25μm的陶瓷纤维.陶瓷纤维的表面和断面形貌的电子扫描图象表明,该陶瓷纤维均匀致密.用阿基米德法测得陶... 以乙酸铅、乙酸镧、乙酸氧锆和钛酸丁酯为原料,用溶胶-凝胶法制备了掺镧锆钛酸铅(PLZT)凝胶纤维.该纤维经热解、烧结后成为直径约25μm的陶瓷纤维.陶瓷纤维的表面和断面形貌的电子扫描图象表明,该陶瓷纤维均匀致密.用阿基米德法测得陶瓷纤维的密度为:7.78×103kg/m3.对于直径为4.4mm、厚度为43μm、陶瓷含量为70％的PLZT陶瓷纤维/环氧树脂1-3复合材料压电片,测得其压电常数d33、机电转换常数kt分别为:410pC/N和0.631. 展开更多

关键词 PLZT陶瓷纤维 环氧树脂 1-3复合材料 溶胶-凝胶法 掺镧锆钛酸铅 压电材料

在线阅读 下载PDF 职称材料

超声场对醇/水反应体系制备纳米CeO_2粉体影响研究 被引量：6

2

作者 陈杨 陈志刚 +1 位作者 李霞章 陈爱莲 《化学工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期57-60,共4页

在超声辐射条件下,以Ce(NO3)3.6H2O和六亚甲基四胺(HMT)为原料,使用醇/水反应体系制备了纳米CeO2粉体。采用透射电子显微镜(TEM)、平衡发射极晶体管(BET)对制备的纳米CeO2粉体进行了表征。研究了超声功率以及醇/水反应体系对纳米CeO2粉... 在超声辐射条件下,以Ce(NO3)3.6H2O和六亚甲基四胺(HMT)为原料,使用醇/水反应体系制备了纳米CeO2粉体。采用透射电子显微镜(TEM)、平衡发射极晶体管(BET)对制备的纳米CeO2粉体进行了表征。研究了超声功率以及醇/水反应体系对纳米CeO2粉体粒径和团聚情况的影响,并探讨了其作用机理。结果表明,使用醇/水反应体系以及适当的超声辐射均有利于制备出粒径更小、分散性更好的纳米CeO2粉体,但过高的超声功率则易导致颗粒间的团聚;而且超声辐射能够显著加快反应速度。制备出的CeO2粉体的平均粒径小于10 nm,粒度分布窄,单分散性好。 展开更多

关键词 纳米CEO2 超声辐射 超声功率 醇水反应体系

在线阅读 下载PDF 职称材料

硅晶片化学机械抛光材料去除机制与模型 被引量：4

3

作者 陈杨 陈志刚 +1 位作者 李霞章 陈爱莲 《润滑与密封》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期119-122,126,共5页

通过分析软质层的形成、作用以及纳米磨料的自身变形对材料去除的影响,改进了CMP过程的接触力学模型;分析了纳米磨料自身变形量对磨料嵌入硅晶片基体材料的深度的影响,以及纳米磨料硬度对抛光表面粗糙度的影响。结果表明:软质层的存在... 通过分析软质层的形成、作用以及纳米磨料的自身变形对材料去除的影响,改进了CMP过程的接触力学模型;分析了纳米磨料自身变形量对磨料嵌入硅晶片基体材料的深度的影响,以及纳米磨料硬度对抛光表面粗糙度的影响。结果表明:软质层的存在增加了单个纳米磨料所去除材料的体积,且对基体材料有保护作用,减小了纳米磨料嵌入基体材料的深度;纳米磨料的自身变形抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,从而也决定了抛光表面的粗糙度;纳米磨料的自身变形量与纳米磨料的硬度有关,硬度低的纳米磨料自身变形量大,因而切削深度小,抛光后表面的粗糙度值低。 展开更多

关键词 化学机械抛光 软质层 硬度 变形

在线阅读 下载PDF 职称材料

超声辐射醇水体系制备纳米CeO_2粉体及其抛光性能研究

4

作者 陈杨 陈志刚 +1 位作者 李霞章 陈爱莲 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期146-149,共4页

在超声辐射条件下,使用正丁醇/水反应体系通过均相沉淀法制备了纳米CeO2粉体;将所制备的纳米CeO2粉体作为磨料对硅晶片进行抛光,用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌并测量表面粗糙度;研究了超声场以及醇/水反应体系对纳米CeO2粉体粒... 在超声辐射条件下,使用正丁醇/水反应体系通过均相沉淀法制备了纳米CeO2粉体;将所制备的纳米CeO2粉体作为磨料对硅晶片进行抛光,用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌并测量表面粗糙度;研究了超声场以及醇/水反应体系对纳米CeO2粉体粒径和团聚情况的影响,考察了纳米CeO2磨料对硅晶片的抛光效果。结果表明:超声辐射以及醇/水反应体系均有利于制备出粒径更小,且分散性更好的纳米CeO2粉体;使用纳米CeO2磨料抛光的硅晶片表面最终在2μm×2μm范围内的微观粗糙度值为Ra0.108nm,而且抛光表面非常平整。 展开更多

关键词 纳米CEO2 超声场 醇水体系 抛光

在线阅读 下载PDF 职称材料

纳米氧化铈在棉织物表面的原位合成及其抗紫外性能 被引量：12

5

作者 王辉 陶宇 +3 位作者 夏艳平 冯冲 吴海平 陶国良 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第A03期524-526,529,共4页

通过一种简单的原位合成法在棉织物的表面生成CeO2纳米粒子,并且采用SEM、XRD等方法对纳米粒子进行表征,UV-Vis测试发现,这些CeO2纳米粒子对棉织物的抗紫外性能有明显的提高。原位合成方法使得CeO2纳米粒子与棉织物的表面具有很强的化... 通过一种简单的原位合成法在棉织物的表面生成CeO2纳米粒子,并且采用SEM、XRD等方法对纳米粒子进行表征,UV-Vis测试发现,这些CeO2纳米粒子对棉织物的抗紫外性能有明显的提高。原位合成方法使得CeO2纳米粒子与棉织物的表面具有很强的化学键连接,因此,这种具有强抗紫外线功能的棉织物在水洗多次后仍然具有非常优异的抗紫外功能。本方法为纳米功能织物的工业化应用提供了一种可行的途径。 展开更多

关键词 原位合成 氧化铈 抗紫外性能

在线阅读 下载PDF 职称材料

纳米磨料对硅晶片的超精密抛光研究 被引量：22

6

作者 陈杨 陈建清 +1 位作者 陈志刚 范真 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期332-335,共4页

采用均相沉淀法制备了纳米CeO2和纳米Al2O3超细粉体,将所制备的超细粉体配制成抛光液并用于硅晶片化学机械抛光,考察了纳米磨料对硅晶片抛光效果及抛光机理的影响.结果表明,纳米CeO2磨料的抛光效果优于纳米Al2O3磨料,采用纳米CeO2磨料... 采用均相沉淀法制备了纳米CeO2和纳米Al2O3超细粉体,将所制备的超细粉体配制成抛光液并用于硅晶片化学机械抛光,考察了纳米磨料对硅晶片抛光效果及抛光机理的影响.结果表明,纳米CeO2磨料的抛光效果优于纳米Al2O3磨料,采用纳米CeO2磨料抛光硅晶片时可以得到在1μm×1μm范围内微观表面粗糙度Ra为0.089nm的超光滑表面,且表面微观起伏较小. 展开更多

关键词 纳米磨料 单晶硅片 抛光 表面形貌

在线阅读 下载PDF 职称材料

纳米CeO_2颗粒的制备及其化学机械抛光性能研究 被引量：29

7

作者 李霞章 陈杨 +2 位作者 陈志刚 陈建清 倪超英 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期1-5,共5页

以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8 nm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度最低(0.740 ... 以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8 nm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度最低(0.740 nm),采用粒度小于或大于8 nm的CeO2磨料抛光后其表面粗糙度值均较高.通过简化的固-固接触模型分析,认为当粒度过小时,磨料难以穿透软质层,表现为化学抛光为主,表面凹坑较多,表面粗糙度较高;当粒度大于一定值时,随着磨料粒度增加,嵌入基体部分的深度加大,使得粗糙度出现上升趋势.提出当磨料嵌入晶片表面的最大深度等于或接近于软质层厚度时,在理论上应具有最佳的抛光效果. 展开更多

关键词 纳米CEO2 GAAS 化学机械抛光 磨料粒径

在线阅读 下载PDF 职称材料

纳米磨料硬度对超光滑表面抛光粗糙度的影响 被引量：13

8

作者 陈志刚 陈杨 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期1075-1080,共6页

通过均相沉淀法制备了纳米CeO2和Al2O3粉体,研究了在相同抛光条件下纳米CeO2、Al2O3和SiO2磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度。结果表明:纳米CeO2磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5... 通过均相沉淀法制备了纳米CeO2和Al2O3粉体,研究了在相同抛光条件下纳米CeO2、Al2O3和SiO2磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度。结果表明:纳米CeO2磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5μm×5μm范围内表面粗糙度Ra值为0.240nm,而且表面的微观起伏更趋向于平缓;考虑了纳米磨料在抛光条件下所发生的自身变形,其变形量相当于一部分抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,而这个切削深度最终决定了抛光表面的粗糙度;分析指出这个变形量与纳米磨料的硬度成反比,硬度低的纳米磨料由于自身变形量大,导致切削深度小,抛光后表面的粗糙度值低。解释了在相同的抛光条件下不同硬度的纳米磨料具有不同的抛光表面粗糙度的原因。 展开更多

关键词 纳米磨料 硬度 粗糙度 超光滑表面 抛光

在线阅读 下载PDF 职称材料

纳米CeO_2磨料对GaAs晶片的CMP性能研究 被引量：14

9

作者 陈杨 李霞章 陈志刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期253-256,267,共5页

通过均相沉淀法制备了不同粒径的CeO2超细粉体,并配制成不同氧化剂浓度和pH值的抛光液对GaAs晶片进行化学机械抛光。研究了不同粒径CeO2磨料对GaAs晶片的抛光效果,并对GaAs晶片化学机械抛光材料去除机理进行了探讨。结果表明,使用超细C... 通过均相沉淀法制备了不同粒径的CeO2超细粉体,并配制成不同氧化剂浓度和pH值的抛光液对GaAs晶片进行化学机械抛光。研究了不同粒径CeO2磨料对GaAs晶片的抛光效果,并对GaAs晶片化学机械抛光材料去除机理进行了探讨。结果表明,使用超细CeO2磨料最终在1μm×1μm的范围内达到了微观表面粗糙度Ra值为0.740nm的超光滑表面,而且抛光后表面的微观起伏更趋于平缓。实验证明,超细CeO2磨料对GaAs晶片具有良好的抛光效果。 展开更多

关键词 CeO2磨料 GAAS晶片 抛光

在线阅读 下载PDF 职称材料

硅晶片化学机械抛光中的化学作用机理 被引量：12

10

作者 陈志刚 陈杨 陈爱莲 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第2期112-114,126,共4页

通过分析硅晶片化学机械抛光过程中软质层的形成及其对材料去除过程的影响,研究了使用纳米CeO2磨料进行化学机械抛光中的化学作用机理。分析表明,软质层是抛光液与硅晶片反应形成的一层覆盖在硅基体表面的腐蚀层,其硬度比基材小,厚度大... 通过分析硅晶片化学机械抛光过程中软质层的形成及其对材料去除过程的影响,研究了使用纳米CeO2磨料进行化学机械抛光中的化学作用机理。分析表明,软质层是抛光液与硅晶片反应形成的一层覆盖在硅基体表面的腐蚀层,其硬度比基材小,厚度大约在几个纳米。软质层的存在一方面增大单个磨料所去除材料的体积,增加材料去除速率;另一方面减小了磨料嵌入硅晶片基体的深度,这对于实现塑性磨削,降低抛光表面粗糙度,都起着重要的作用。 展开更多

关键词 化学机械抛光 软质层 化学作用

在线阅读 下载PDF 职称材料

纳米CeO_2磨料在硅晶片化学机械抛光中的化学作用机制 被引量：5

11

作者 陈杨 陈志刚 陈爱莲 《润滑与密封》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期67-69,72,共4页

通过分析化学机械抛光过程中软质层的形成及其作用过程,研究了使用纳米CeO2磨料进行化学机械抛光时化学作用的机制。分析表明,软质层是抛光液与硅晶片反应形成的一层覆盖在基体表面的腐蚀层,其硬度比基材小,厚度在几个纳米左右。软质层... 通过分析化学机械抛光过程中软质层的形成及其作用过程,研究了使用纳米CeO2磨料进行化学机械抛光时化学作用的机制。分析表明,软质层是抛光液与硅晶片反应形成的一层覆盖在基体表面的腐蚀层,其硬度比基材小,厚度在几个纳米左右。软质层的存在一方面增大单个磨料的去除体积,增加材料去除速率;另一方面能减小磨料嵌入硅晶片基体的深度,这对于实现塑性磨削,降低抛光表面粗糙度,提高抛光质量,以及改善抛光效果都有着重要的作用。 展开更多

关键词 化学机械抛光 CEO2 磨料 软质层 化学作用

在线阅读 下载PDF 职称材料

锌铌酸铅-锆钛酸铅(PZN-PZT)压电陶瓷和陶瓷纤维的制备 被引量：3

12

作者 李坤 曹大呼 +1 位作者 李金华 陈王丽华 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期1099-1105,共7页

以乙酸铅、丙酸锌、五乙氧基铌、四丙氧基锆和四正丁氧基钛为原料,用溶胶-凝胶法制备了锌铌酸铅-锆钛酸铅(PZN-PZT)凝胶纤维.该纤维经热解、烧结后成为直径约25μm的陶瓷纤维.陶瓷纤维的表面和断面形貌的电子扫描图像显示:该陶瓷纤维均... 以乙酸铅、丙酸锌、五乙氧基铌、四丙氧基锆和四正丁氧基钛为原料,用溶胶-凝胶法制备了锌铌酸铅-锆钛酸铅(PZN-PZT)凝胶纤维.该纤维经热解、烧结后成为直径约25μm的陶瓷纤维.陶瓷纤维的表面和断面形貌的电子扫描图像显示:该陶瓷纤维均匀致密,呈圆柱形.X射线分析表明:烧结温度影响陶瓷的晶相纯度.当烧结温度高于1250℃时,该陶瓷及陶瓷纤维呈现纯净的钙钛矿晶相.阿基米德法测得陶瓷和陶瓷纤维的密度分别为7.70×103kg/m3和7.80×103kg/m3.对陶瓷含量为63%的PZN-PZT陶瓷纤维/环氧树脂1-3复合材料压电片,测得其机电转换常数kt、压电常数d33和相对介电常数ε分别为:0.65、403pC/N和1300.以溶胶-凝胶法制备的超细粉体为原料烧结成的PZN-PZT陶瓷,其kt、d33和ε分别为0.48、600pC/N和2627. 展开更多

关键词 陶瓷纤维 1-3复合材料 溶胶-凝胶法 锆钛酸铅

在线阅读 下载PDF 职称材料

硅烷接枝聚乙烯的表征 被引量：5

13

作者 龚方红 蒋必彪 +3 位作者 刘春林 汪信 陆路德 杨绪杰 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期173-176,共4页

采用红外光谱（IR）测定了乙烯基三甲氧基硅烷（A171）接枝聚乙烯的硅烷特征吸收峰的吸光比，使用电感藕合等离子发射光谱仪（ICP—AES）测得硅炕接枝LLDPE、LDPE和HDPE的接枝率分别为0．671％～0．988％、0．349％～0．972％和0．254％... 采用红外光谱（IR）测定了乙烯基三甲氧基硅烷（A171）接枝聚乙烯的硅烷特征吸收峰的吸光比，使用电感藕合等离子发射光谱仪（ICP—AES）测得硅炕接枝LLDPE、LDPE和HDPE的接枝率分别为0．671％～0．988％、0．349％～0．972％和0．254％～0．750％．与IR谱图结合，得到了吸光比与接枝率的标准工作曲线；采用核磁共振仪（NMR）测定了硅烷接技聚乙烯的^1H和^13C谱图，测算了接枝率和结构变化．验证了IR和ICP—AES的结果。 展开更多

关键词 聚乙烯 硅烷 接枝 电感藕合等离子发射光谱仪

在线阅读 下载PDF 职称材料

醇水法制备纳米粉体原理及应用 被引量：14

14

作者 李霞章 陈志刚 +1 位作者 陈建清 陈杨 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第2期82-85,97,共5页

传统液相法制备纳米粉体遇到的普遍性问题是粒径尺寸难控制,颗粒易团聚,而将醇水法引入到液相合成过程中不仅可以降低粒径而且能大大改善其分散性,本文从热力学的角度分析了醇水法的理论根据,对其在液相法中应用的国内外报道进行了介绍... 传统液相法制备纳米粉体遇到的普遍性问题是粒径尺寸难控制,颗粒易团聚,而将醇水法引入到液相合成过程中不仅可以降低粒径而且能大大改善其分散性,本文从热力学的角度分析了醇水法的理论根据,对其在液相法中应用的国内外报道进行了介绍,并提出了存在的问题和研究展望。 展开更多

关键词 醇水法 纳米 粒径 分散性 介电常数

在线阅读 下载PDF 职称材料

PC/ABS共混合金相容性的研究 被引量：4

15

作者 张伟 俞强 《现代塑料加工应用》 CAS 北大核心 2005年第4期20-23,共4页

使用差示扫描量热仪(DSC)和扫描电子显微镜(SEM)研究了丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)树脂中丙烯腈(AN)、顺丁橡胶(PB)含量变化对聚碳酸酯(PC)/ABS合金相容性的影响,并且通过计算合金体系中两组分的相互作用参数X12对PC/ABS合金的相... 使用差示扫描量热仪(DSC)和扫描电子显微镜(SEM)研究了丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)树脂中丙烯腈(AN)、顺丁橡胶(PB)含量变化对聚碳酸酯(PC)/ABS合金相容性的影响,并且通过计算合金体系中两组分的相互作用参数X12对PC/ABS合金的相容性进行了表征和评价。结果表明,当苯乙烯-丙烯腈共聚物(SAN)中AN质量分数为24%左右时,X12值最低,合金相容性最好;此时合金中分散相尺寸仅为0.5μm左右,且ABS均匀分布于PC基体中,ABS中PB含量变化对合金相容性的影响不明显。 展开更多

关键词 聚碳酸酯 丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物 相容性 聚合物相互作用参数 共混 PC/ABS合金 共混合金 扫描电子显微镜 差示扫描量热仪 相互作用参数

在线阅读 下载PDF 职称材料

磺酸甜菜碱共聚物水溶液的黏度性质 被引量：1

16

作者 孔立智 任涛 +2 位作者 黄佳黎 芦鹏飞 翟光群 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期65-68,共4页

通过自由基聚合制备了N,N-二甲基-N-甲基丙烯酰氧乙基-N-丁基磺酸铵(DMABS)及其与丙烯酸钠(NaAAc)、对乙烯基苯磺酸钠(NaSS)的均/共聚物。探讨了共聚物溶液的黏度行为随单体组成、聚合物浓度、离子强度与离子种类的变化关系,发现少量阴... 通过自由基聚合制备了N,N-二甲基-N-甲基丙烯酰氧乙基-N-丁基磺酸铵(DMABS)及其与丙烯酸钠(NaAAc)、对乙烯基苯磺酸钠(NaSS)的均/共聚物。探讨了共聚物溶液的黏度行为随单体组成、聚合物浓度、离子强度与离子种类的变化关系,发现少量阴离子单体的引入可显著提高共聚物在水溶液中的比浓黏度;对于阴离子单体含量较低的共聚物,共聚物水溶液的特性黏数随着离子强度的增加而逐渐上升;而对于阴离子单体含量较高的共聚物,特性黏数随着离子强度的增加而迅速下降。 展开更多

关键词 聚电解质 磺酸甜菜碱 阴离子单体 溶液性质 特性黏数

在线阅读 下载PDF 职称材料

晶态骨架介孔CeO2和CeO2-ZrO2的合成与结构表征 被引量：4

17

作者 李霞章 NI Chao-Ying 陈志刚 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期986-990,共5页

以乙酸铈、乙酸锫为无机源,嵌段共聚物P123为模版剂,采用溶胶-凝胶法合成了介孔CeO_2及CeO_2-ZrO_2复合体,用XRD、氮气吸附脱附、TEM、HRTEM、SAED等对材料进行了表征.结果表明,所得介孔CeO_2具有规则的晶态孔道结构,孔径约在10nm左右,... 以乙酸铈、乙酸锫为无机源,嵌段共聚物P123为模版剂,采用溶胶-凝胶法合成了介孔CeO_2及CeO_2-ZrO_2复合体,用XRD、氮气吸附脱附、TEM、HRTEM、SAED等对材料进行了表征.结果表明,所得介孔CeO_2具有规则的晶态孔道结构,孔径约在10nm左右,特别是其孔壁晶粒高度定向排列且平行于孔道方向.原位高温TEM观测表明,该介孔CeO_2在800℃仍具有很高的孔道完整性.掺杂ZrO_2后发现,在ZrO_2摩尔含量低于30%时仍具备高度定向排列结构,高于30%时骨架晶粒取向逐渐趋向无序化. 展开更多

关键词 高度定向排列 介孔CeO2 原位TEM 热稳定性

在线阅读 下载PDF 职称材料

聚乙烯蜡的羧基化及其应用 被引量：3

18

作者 龚方红 徐建平 +1 位作者 殷大斌 汪信 《石油炼制与化工》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期18-22,共5页

研究了聚乙烯蜡（PEW）与马来酸酐（MAH）熔融接枝反应，在PEW分子链上引入了极性基团。采用红外光谱（IR）和核磁共振谱（NMR）表征了接枝物的结构，采用滴定法测得接枝物的酸值在25～60mgKOH／g之间。研究了接枝单体MAH、引发剂过氧... 研究了聚乙烯蜡（PEW）与马来酸酐（MAH）熔融接枝反应，在PEW分子链上引入了极性基团。采用红外光谱（IR）和核磁共振谱（NMR）表征了接枝物的结构，采用滴定法测得接枝物的酸值在25～60mgKOH／g之间。研究了接枝单体MAH、引发剂过氧化二异丙苯（DCP）和抗氧剂1010用量对接枝物酸值的影响。结果表明，当反应温度为140℃，MAH、DCP和抗氧剂1010用量分别为10．71％，1．96％，0．40％时，接枝产物的综合性能较好。接枝产物制成的填充母料应用于LDPE／CaCO3体系，可以起到较好的偶联作用，改善填充体系的力学性质。 展开更多

关键词 聚乙烯蜡 马来酸酐 接枝 偶联剂

在线阅读 下载PDF 职称材料

反应挤出就地增容HDPE/PS合金 被引量：2

19

作者 徐建平 承民联 《合成树脂及塑料》 EI CAS 北大核心 2005年第6期9-12,共4页

在单螺杆挤出机上,利用路易斯酸实现了大分子间的Friedel-Crafts烷基化反应。考察了不同催化剂体系、催化剂用量及工艺条件对合金性能的影响。结果显示对于质量比为70.0∶30.0的高密度聚乙烯/聚苯乙烯合金体系,通过反应挤出,可以就地生... 在单螺杆挤出机上,利用路易斯酸实现了大分子间的Friedel-Crafts烷基化反应。考察了不同催化剂体系、催化剂用量及工艺条件对合金性能的影响。结果显示对于质量比为70.0∶30.0的高密度聚乙烯/聚苯乙烯合金体系,通过反应挤出,可以就地生成接枝共聚物;苯乙烯单体的加入有利于接枝物的形成;加入0.8份AlCl3、0.5份苯乙烯单体,控制合适的螺杆温度以及螺杆转速为60r/min时,合金的综合性能较好。 展开更多

关键词 高密度聚乙烯 聚苯乙烯 反应挤出 烷基化反应

在线阅读 下载PDF 职称材料

醇水均匀沉淀法制备纳米CeO_2粉体工艺及机理研究 被引量：3

20

作者 李霞章 陈志刚 +1 位作者 陈建清 陈杨 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期68-70,共3页

在醇-水体系中以六亚甲基四胺(HMT)为缓释沉淀剂制备了纳米CeO_2粉体,并用TEM和BET对其进行了表征,考察了制备过程中工艺参数对CeO_2粉体颗粒大小及团聚的影响,并对影响机理进行了探讨。结果表明：在较佳工艺条件下制备的纳米CeO_2平均... 在醇-水体系中以六亚甲基四胺(HMT)为缓释沉淀剂制备了纳米CeO_2粉体,并用TEM和BET对其进行了表征,考察了制备过程中工艺参数对CeO_2粉体颗粒大小及团聚的影响,并对影响机理进行了探讨。结果表明：在较佳工艺条件下制备的纳米CeO_2平均尺寸约为8nm,与传统的水溶液均匀沉淀法相比较,该方法得到的粉体粒径更小,且分散性好。 展开更多

关键词 醇水溶液 纳米CEO2 透光率 沉淀法

在线阅读 下载PDF 职称材料