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衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响被引量：2: 1; 作者彭柳军杨雯 +3 位作者陈小波自兴发杨培志宋肇宁《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期38-42,54,共6页; 采用磁控共溅射沉积法,以氧化锌和硫化锌为靶材,在不同衬底温度下制备了Zn(O,S)薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计、霍尔测试仪和拉曼光谱测试仪对Zn(O,S)薄膜进行了结构和光电特性研究。结果表明:Zn(O... 展开更多; 关键词 Zn(O S)薄膜磁控共溅射衬底温度光电性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

铜基薄膜太阳电池无镉缓冲层的研究进展被引量：2: 2; 作者彭柳军杨培志 +1 位作者自兴发宋肇宁《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第13期131-135,共5页; 铜基太阳电池是以具有含铜的黄铜矿结构化合物或其衍生物为吸收层的太阳电池,其中以CIGS为吸收层的薄膜太阳电池是目前效率最高的铜基太阳电池。典型的铜基太阳电池通常在窗口层和吸收层间加一层CdS缓冲层作为窗口过渡层,但由于Cd有毒,... 展开更多; 关键词无镉缓冲层铜基薄膜太阳电池制备方法; 在线阅读下载PDF 职称材料

衬底温度对氢化非晶硅薄膜特性的影响被引量：1: 3; 作者袁俊宝杨雯 +2 位作者陈小波杨培志宋肇宁《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期417-423,共7页; 采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统,以乙硅烷和氢气为气源,石英玻璃和单晶硅片为衬底制备了氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜。采用扫描电子显微镜、X-射线衍射仪、台阶仪、紫外可见分光光度计、傅里叶变换红外光谱仪和电子能谱仪等分别表... 展开更多; 关键词 PECVD 衬底温度沉积速率光学带隙键合方式化合态; 在线阅读下载PDF 职称材料

氧氩比及基底温度对脉冲磁控溅射Cu2O薄膜结构和光学性能的影响被引量：1: 4; 作者自兴发杨雯 +3 位作者杨培志段良飞张力元无《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期1802-1807,共6页; 利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下在石英玻璃基底上制备Cu2O薄膜,研究了O2和Ar流量比(O2/Ar)及基底温度对沉积的Cu2O薄膜结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明:在O2/Ar为30... 展开更多; 关键词脉冲磁控溅射 Cu2O薄膜氧氩比基底温度光学特性; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响被引量：2: 1; 作者彭柳军杨雯陈小波自兴发杨培志宋肇宁; 机构云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室云南师范大学太阳能研究所美国托莱多大学物理与天文系; 出处《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期38-42,54,共6页; 基金国家自然科学基金(U1037604); 文摘采用磁控共溅射沉积法,以氧化锌和硫化锌为靶材,在不同衬底温度下制备了Zn(O,S)薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计、霍尔测试仪和拉曼光谱测试仪对Zn(O,S)薄膜进行了结构和光电特性研究。结果表明:Zn(O,S)薄膜具有六方纤锌矿结构,属于二模混晶;在可见-近红外波段的吸收率小于5%;其为N型半导体,电学特性随衬底温度的变化而变化;衬底温度为200℃时制备的厚度为167 nm的Zn(O,S)薄膜的载流子浓度达到8.82×1019cm-3,迁移率为19.3 cm2/V·s,表面呈金字塔结构。; 关键词 Zn(O S)薄膜磁控共溅射衬底温度光电性能; Keywords Zn（O S） thin film magnetron co-sputtering substrate temperature photoelectric property; 分类号 O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名铜基薄膜太阳电池无镉缓冲层的研究进展被引量：2: 2; 作者彭柳军杨培志自兴发宋肇宁; 机构云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室云南师范大学太阳能研究所美国托莱多大学物理与天文系; 出处《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第13期131-135,共5页; 基金国家自然科学基金云南联合基金(U1037604); 文摘铜基太阳电池是以具有含铜的黄铜矿结构化合物或其衍生物为吸收层的太阳电池,其中以CIGS为吸收层的薄膜太阳电池是目前效率最高的铜基太阳电池。典型的铜基太阳电池通常在窗口层和吸收层间加一层CdS缓冲层作为窗口过渡层,但由于Cd有毒,CdS带隙较小,因此人们对无镉缓冲层材料进行了广泛的探索研究。综述了铜基薄膜太阳电池无镉缓冲层研究进展,指出了作为缓冲层的结构和光电特性要求,比较了各类无镉缓冲层的不同制备方法,讨论了无镉缓冲层研究中存在的问题和今后发展的方向,特别指出锌基化合物是最有潜力的无镉缓冲层材料。; 关键词无镉缓冲层铜基薄膜太阳电池制备方法; Keywords Cd-free buffer layers, Cu-based solar cells, preparation methods; 分类号 TM914.42 [电气工程—电力电子与电力传动]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名衬底温度对氢化非晶硅薄膜特性的影响被引量：1: 3; 作者袁俊宝杨雯陈小波杨培志宋肇宁; 机构云南师范大学可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室四川文理学院物理与机电工程学院美国托莱多大学物理与天文系; 出处《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期417-423,共7页; 基金国家自然科学基金(51362031 U1037604) 四川省教育厅资助科研项目(15ZB0317)资助; 文摘采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统,以乙硅烷和氢气为气源,石英玻璃和单晶硅片为衬底制备了氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜。采用扫描电子显微镜、X-射线衍射仪、台阶仪、紫外可见分光光度计、傅里叶变换红外光谱仪和电子能谱仪等分别表征了a-Si:∶H薄膜的表面形貌、结晶特性、沉积速率,光学带隙,键合结构和Si化合态等特性。结果表明:随着衬底温度的增加,a-Si∶H薄膜表面的颗粒尺寸减小,均匀性增加,沉积速率则逐渐降低;衬底温度从80℃增加到130℃时,光学带隙显著增加,而在130℃至230℃范围内,光学带隙基本不随衬底温度变化;以Si H键对应的伸缩振动的相对峰强度逐渐增加,而以Si H2或(Si H2)n键对应的伸缩振动的相对强度逐渐减小;a-Si∶H薄膜中Si0+态的相对含量增加。因此,衬底温度大于130℃有利于制备优质a-Si∶H薄膜,230℃是沉积a-Si∶H薄膜的最佳衬底温度。; 关键词 PECVD 衬底温度沉积速率光学带隙键合方式化合态; Keywords PECVD deposition temperature deposition rate optical band gap structure factor chemical phases; 分类号 TM910 [电气工程—电力电子与电力传动] TQ131.11 [化学工程—无机化工]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名氧氩比及基底温度对脉冲磁控溅射Cu2O薄膜结构和光学性能的影响被引量：1: 4; 作者自兴发杨雯杨培志段良飞张力元无; 机构云南师范大学可再生能源材料先进技术及制备教育部重点实验室楚雄师范学院物理与电子科学系托莱多大学物理与天文系; 出处《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期1802-1807,共6页; 基金国家自然科学基金联合资助基金项目(U1037604); 文摘利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下在石英玻璃基底上制备Cu2O薄膜,研究了O2和Ar流量比(O2/Ar)及基底温度对沉积的Cu2O薄膜结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明:在O2/Ar为30∶80的气氛条件下,基底温度在室温(RT)和100℃时均可获得单相的Cu2O<111>薄膜;薄膜表面致密、颗粒呈球状,粗糙度的均方根(RMS)值随基底温度增加而增大;薄膜的光谱吸收范围为300～650 nm,紫外区吸收较强,可见光区吸收强度较弱,吸收强度隨基底温度的增加而增强,光学带隙(E g)随基底温度的增加而减小。; 关键词脉冲磁控溅射 Cu2O薄膜氧氩比基底温度光学特性; Keywords pulse magnetron sputtering Cu2O thin film O2/Ar ratio substrate temperature optical property; 分类号 TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	衬底温度对磁控共溅射制备的Zn(O,S)薄膜结构和光电性能的影响	彭柳军杨雯陈小波自兴发杨培志宋肇宁	《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2015	2	在线阅读下载PDF 职称材料
2	铜基薄膜太阳电池无镉缓冲层的研究进展	彭柳军杨培志自兴发宋肇宁	《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心	2014	2	在线阅读下载PDF 职称材料
3	衬底温度对氢化非晶硅薄膜特性的影响	袁俊宝杨雯陈小波杨培志宋肇宁	《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2016	1	在线阅读下载PDF 职称材料
4	氧氩比及基底温度对脉冲磁控溅射Cu2O薄膜结构和光学性能的影响	自兴发杨雯杨培志段良飞张力元无	《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2013	1	在线阅读下载PDF 职称材料