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真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性被引量：15: 1; 作者薛春荣易葵 +2 位作者魏朝阳邵建达范正修《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期287-290,共4页; 研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料，给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长，测量了这些材料在120～500nm的透过率，给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法，并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶... 展开更多; 关键词深紫外真空紫外弱吸收基底透过率消光系数; 在线阅读下载PDF 职称材料

几种氟化物薄膜材料的光学特性被引量：7: 2; 作者薛春荣易葵 +1 位作者邵建达范正修《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1507-1512,共6页; 为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底... 展开更多; 关键词真空紫外同步辐射氟化物材料光学特性; 在线阅读下载PDF 职称材料

193nm氟化物增透膜的特性被引量：2: 3; 作者薛春荣易葵邵建达《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期675-680,共6页; 为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等... 展开更多; 关键词氟化物薄膜 193nm增透膜预镀层基底剩余反射率; 在线阅读下载PDF 职称材料

157nm氟化物光学薄膜制备被引量：2: 4; 作者薛春荣易葵邵建达《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1961-1966,共6页; 为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、... 展开更多; 关键词氟化物材料 157nm 高反膜增透膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性被引量：15: 1; 作者薛春荣易葵魏朝阳邵建达范正修; 机构常熟理工学院江苏新型功能材料实验室中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学技术大学国家同步辐射实验室; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期287-290,共4页; 基金国家自然科学基金项目(60678004); 文摘研究了真空紫外到深紫外波段常用的基底材料，给出了常用基底材料的光学特性和在真空紫外波段的截止波长，测量了这些材料在120～500nm的透过率，给出了通过透过率计算弱吸收基底光学常数的计算方法，并用该方法得到了熔石英、氟化镁晶体、氟化钙晶体、氟化锂晶体在120～500nm的折射率和消光系数，对这些常用基底的使用范围和特点进行了一定的比较和分析，并将所得基底的光学常数与公开发表的文献进行了比较，证明了所得结果的可靠性。; 关键词深紫外真空紫外弱吸收基底透过率消光系数; Keywords deep ultraviolet vacuum ultraviolet weak absorption substrates transmittance exitnction coefficient; 分类号 TB43 [一般工业技术]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名几种氟化物薄膜材料的光学特性被引量：7: 2; 作者薛春荣易葵邵建达范正修; 机构中国科学院上海光学精密机械研究所常熟理工学院江苏新型功能材料实验室中国科技大学国家同步辐射实验室; 出处《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1507-1512,共6页; 基金国家自然科学基金资助项目(No.60678004); 文摘为了进一步明确氟化薄膜材料在紫外(UV)-真空紫外(VUV)波段的光学常数,研究了真空紫外领域常用的基底材料和6种大带隙的氟化物薄膜材料的光学特性。分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发法以不同的沉积速率和不同的基底温度镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3、NdF3、GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2、AlF3、Na3AlF6;在国家同步辐射真空紫外实验站测定了它们120～300nm的透射光谱曲线,用商用lambda900光谱仪测量了它们190～500nm的透射光谱曲线,两者相结合标定了透射率的准确值。用包络法和模拟退火相结合研究了它们在120～500nm的折射率和消光系数,给出了6种氟化物材料的光谱色散曲线。结果显示,3种高折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.77～1.89,而3种低折射率薄膜的折射率在157nm处约为1.44～1.48;研究表明,选用折射率相差较大的高、低折射率氟化物薄膜,可在膜系设计中组成高低折射率材料对,用于设计各种实用的薄膜器件。; 关键词真空紫外同步辐射氟化物材料光学特性; Keywords vacuum ultraviolet synchrotron radiation fluoride materials optical properties; 分类号 O484.41 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名193nm氟化物增透膜的特性被引量：2: 3; 作者薛春荣易葵邵建达; 机构常熟理工学院江苏新型功能材料实验室中国科学院上海光学精密机械研究所; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期675-680,共6页; 基金国家自然科学基金项目(60678004); 文摘为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响。在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较。在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%。要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底。; 关键词氟化物薄膜 193nm增透膜预镀层基底剩余反射率; Keywords fluoride films 193 nm antireflection coatings pre-coating substrate residual reflectivity; 分类号 O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名157nm氟化物光学薄膜制备被引量：2: 4; 作者薛春荣易葵邵建达; 机构中国科学院上海光学精密机械研究所常熟理工学院江苏新型功能材料实验室; 出处《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1961-1966,共6页; 基金国家自然科学基金(60678004)资助; 文摘为了研制低损耗、高性能的157nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、透射率、光学损耗等特性.结果表明,采用NdF3/AlF3材料对设计制备的157nm高反膜的透过率为1.7%,反射率接近93%,散射损耗为2.46%,已经与吸收损耗相当;以AlF3/LaF3材料对设计制备的157nm增透膜的剩余反射率低于0.17%.; 关键词氟化物材料 157nm 高反膜增透膜; Keywords Fluoride material 157 nm HR mirrors Anti-reflection coatings; 分类号 O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	真空紫外到深紫外波段基底材料的光学特性	薛春荣易葵魏朝阳邵建达范正修	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2009	15	在线阅读下载PDF 职称材料
2	几种氟化物薄膜材料的光学特性	薛春荣易葵邵建达范正修	《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心	2009	7	在线阅读下载PDF 职称材料
3	193nm氟化物增透膜的特性	薛春荣易葵邵建达	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2011	2	在线阅读下载PDF 职称材料
4	157nm氟化物光学薄膜制备	薛春荣易葵邵建达	《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2010	2	在线阅读下载PDF 职称材料