目的评估XP-endo Finisher(XPF)锉与被动超声冲洗(PUI)对根管内壁玷污层的清除效果。方法选择60颗离体单直根管下颌前磨牙,距根尖16 mm处截冠,采用S3镍钛锉预备到3S,根据终末处理方式不同将样本随机分成6组。A组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联...目的评估XP-endo Finisher(XPF)锉与被动超声冲洗(PUI)对根管内壁玷污层的清除效果。方法选择60颗离体单直根管下颌前磨牙,距根尖16 mm处截冠,采用S3镍钛锉预备到3S,根据终末处理方式不同将样本随机分成6组。A组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合XPF处理1 min;B组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合XPF处理1 min,再用4 mL 17%乙二胺四乙酸(EDTA)溶液冲洗1 min;C组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合PUI处理1 min;D组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合PUI处理1 min,再用4 mL 17%EDTA溶液冲洗1 min;E组:3 mL 3%次氯酸钠溶液30号侧方冲洗针冲洗1 min;F组:3 mL 3%次氯酸钠溶液30号侧方冲洗针冲洗1 min,再用4 mL 17%EDTA溶液冲洗1 min。采用扫描电子显微镜观察玷污层形态,并比较根尖1/3区、根中1/3区牙本质小管开口数。结果 A、C、E组实验样本整个根管壁都有玷污层覆盖,A组与C组牙本质小管开口数明显高于E组(P<0.05),而A组与C组的差异无统计学意义(P>0.05);F组根中区、B组和D组根尖区有少量玷污层覆盖,牙本质小管开放或半开放;F组根尖区可见玷污层,牙本质小管封闭或半封闭;B和D组根中区根管壁玷污层均被有效去除;在根尖1/3区和根中1/3区,B组与D组牙本质小管开口数高于其他4组(P<0.05),而B组和D组间的差异无统计学意义(P>0.05)。结论 XPF锉对根管内壁玷污层的清洁效果与PUI无明显差异,可用于根管预备后提高根管清洁效果。展开更多
文摘目的评估XP-endo Finisher(XPF)锉与被动超声冲洗(PUI)对根管内壁玷污层的清除效果。方法选择60颗离体单直根管下颌前磨牙,距根尖16 mm处截冠,采用S3镍钛锉预备到3S,根据终末处理方式不同将样本随机分成6组。A组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合XPF处理1 min;B组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合XPF处理1 min,再用4 mL 17%乙二胺四乙酸(EDTA)溶液冲洗1 min;C组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合PUI处理1 min;D组:3 mL 3%次氯酸钠溶液联合PUI处理1 min,再用4 mL 17%EDTA溶液冲洗1 min;E组:3 mL 3%次氯酸钠溶液30号侧方冲洗针冲洗1 min;F组:3 mL 3%次氯酸钠溶液30号侧方冲洗针冲洗1 min,再用4 mL 17%EDTA溶液冲洗1 min。采用扫描电子显微镜观察玷污层形态,并比较根尖1/3区、根中1/3区牙本质小管开口数。结果 A、C、E组实验样本整个根管壁都有玷污层覆盖,A组与C组牙本质小管开口数明显高于E组(P<0.05),而A组与C组的差异无统计学意义(P>0.05);F组根中区、B组和D组根尖区有少量玷污层覆盖,牙本质小管开放或半开放;F组根尖区可见玷污层,牙本质小管封闭或半封闭;B和D组根中区根管壁玷污层均被有效去除;在根尖1/3区和根中1/3区,B组与D组牙本质小管开口数高于其他4组(P<0.05),而B组和D组间的差异无统计学意义(P>0.05)。结论 XPF锉对根管内壁玷污层的清洁效果与PUI无明显差异,可用于根管预备后提高根管清洁效果。
