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磁控溅射低温制备ZnO∶Al透明导电膜及其特性研究 被引量:21
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作者 王涛 刁训刚 +2 位作者 丁芃 舒远杰 武哲 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期511-516,共6页
采用锌、铝(Al 2 wt.%)合金靶,真空腔温度保持在50℃,运用直流反应磁控溅射法制得系列的ZnO∶Al(ZAO)薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、半导体霍尔效应测试、红外发射率测试仪等手段对薄膜进行了表征。薄膜... 采用锌、铝(Al 2 wt.%)合金靶,真空腔温度保持在50℃,运用直流反应磁控溅射法制得系列的ZnO∶Al(ZAO)薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、半导体霍尔效应测试、红外发射率测试仪等手段对薄膜进行了表征。薄膜呈C轴择优取向的六角纤锌矿结构;具有致密平滑的表面形貌;最佳工艺下样品在550 nm波长处透过率达93%;最低电阻率为4.99×10-4Ω.cm;8μm^14μm波段平均红外发射率在0.3~0.54之间。分析了溅射过程中氧流量百分比和功率对上述特性的影响及各特性间的关系,讨论了薄膜在8μm^14μm波段平均红外发射率与其方块电阻的关系。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 低温 磁控溅射 红外发射率
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磁控溅射低温制备ZnO:Al透明导电薄膜的正交设计 被引量:5
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作者 王涛 刁训刚 +1 位作者 舒远杰 武哲 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期369-372,共4页
采用锌铝(2%(质量分数))合金靶,保持真空腔在50℃低温下,结合正交试验表,运用直流反应磁控溅射法制得ZnO∶Al(ZAO)薄膜。通过分光光度计、半导体霍尔效应测试等手段对薄膜各项性能进行了表征。通过正交分析法对所得样品相关特征指标进... 采用锌铝(2%(质量分数))合金靶,保持真空腔在50℃低温下,结合正交试验表,运用直流反应磁控溅射法制得ZnO∶Al(ZAO)薄膜。通过分光光度计、半导体霍尔效应测试等手段对薄膜各项性能进行了表征。通过正交分析法对所得样品相关特征指标进行分析,在少量的9组实验下,得到溅射功率、时间、靶基距和氧流量百分比4个独立工艺参数对薄膜特性影响的同时,得出直流反应磁控溅射法制备ZAO薄膜的最优组合工艺为:溅射时间20min,靶基距6cm,溅射功率80W,氧流量百分比7%;对应样品的iФc值达4.1050×10-2/Ω,电阻率为3.9×10-4Ω.cm,载流子浓度达1.09×1021/cm3。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 正交设计 低温 磁控溅射
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直升机飞行动作时间比例改变对动部件疲劳损伤影响分析 被引量:5
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作者 柳文林 穆志韬 金平 《机械强度》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期789-793,共5页
建立分析飞行动作时间比例改变对动部件疲劳损伤影响的数学分析模型,引入"疲劳损伤放大系数"的概念,通过计算只有一个飞行动作时间比例改变和只有一个飞行动作时间比例未改变得到的放大系数,可以定性和定量分析各种飞行动作... 建立分析飞行动作时间比例改变对动部件疲劳损伤影响的数学分析模型,引入"疲劳损伤放大系数"的概念,通过计算只有一个飞行动作时间比例改变和只有一个飞行动作时间比例未改变得到的放大系数,可以定性和定量分析各种飞行动作时间比例改变对动部件疲劳损伤的影响程度。依据某型直升机的实测飞行谱和主、尾桨叶的疲劳载荷频数均值谱,运用所建立的模型进行分析。研究表明,对某型直升机的关键动部件,所有的48种飞行动作中只有三种飞行动作造成的损伤在飞行动作时间比例变化0.1时疲劳损伤变化超过0.01,同时飞行动作的敏感性具有很大的部件依赖性,巡航平飞状态是最敏感的飞行动作。最后通过运输直升机改为反潜直升机的谱型变换实例(只有一个飞行动作未改变时),说明用文中得到的疲劳损伤放大系数进行不同谱型疲劳损伤计算的适用性。 展开更多
关键词 直升机 飞行谱 动部件 疲劳损伤
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基底温度对NiOx薄膜性质的影响及其电致变色机理研究 被引量:2
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作者 张金伟 刁训刚 +3 位作者 王怀义 王天民 武哲 舒远杰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期189-193,共5页
采用磁控溅射法在不同基底温度的条件下制备NiOx薄膜。对制备的薄膜采用XRD、SEM、Raman、XPS、可见光分光光度计及循环伏安曲线等测试手段进行对比分析。结果表明,在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2+离子参... 采用磁控溅射法在不同基底温度的条件下制备NiOx薄膜。对制备的薄膜采用XRD、SEM、Raman、XPS、可见光分光光度计及循环伏安曲线等测试手段进行对比分析。结果表明,在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni2+离子参与变色反应,同时薄膜中疏松的孔洞有利于离子进出。SEM图中可以看出液氮流量越大,温度越低则晶粒越小,会造成沉积组织明显疏松,这些孔隙非常有利于H+的拉入抽出。通过Raman测试发现,低温沉积的薄膜可以提供更多的Ni2+空位。XPS测试发现NiOx薄膜在KOH溶液中的变色是由H+引起的,反应机理为:Ni(OH)2 NiOOH+H++e-。循环伏安测试发现173 K条件下制备的NiOx薄膜(η=38.2 cm2/C,λ=550 nm)比室温制备的NiOx薄膜(η=16.3 cm2/C,λ=550 nm)有更高的着色系数,表现出更好的变色效率。 展开更多
关键词 液氮 低温 NIOX 电致变色
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氮化处理对ITO薄膜光电特性影响 被引量:1
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作者 杨盟 刁训刚 +2 位作者 刘海鹰 武哲 舒远杰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1518-1521,共4页
利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,分别采用两种方法对薄膜进行氮化处理,即:(1)利用氩气溅射在室温下制备薄膜,随后在氮气和氨气气氛下对薄膜进行热处理;(2)利用氩气/氮气共溅射成膜。利用X射线衍射、霍尔效应、UV-... 利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,分别采用两种方法对薄膜进行氮化处理,即:(1)利用氩气溅射在室温下制备薄膜,随后在氮气和氨气气氛下对薄膜进行热处理;(2)利用氩气/氮气共溅射成膜。利用X射线衍射、霍尔效应、UV-vis-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,对比研究了两种氮化处理方法对ITO薄膜光电特性的影响。结果发现对于低温生长的薄膜,两种方法均能明显提高其在可见光区的透过率。氩气/氮气共溅射的方法会降低薄膜的结晶程度,降低载流子浓度,但使得其紫外/可见/近红外光谱发生明显红移;而热处理方法则能增加薄膜的结晶程度,提高其导电能力。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 氨气和氮气气氛下热处理 氮气共溅射 ITO薄膜
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聚苯胺-普鲁士蓝全固态电致变色器件的制备及特性 被引量:1
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作者 马荣 刁训刚 +3 位作者 张金伟 张鲁玉 武哲 舒远杰 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期723-726,共4页
电沉积法制备的聚苯胺-普鲁士蓝(PANI-PB)电致变色层与KCl掺杂的聚2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(PAMPS)的离子导电层相结合,组装制得8.5×12.5cm2全固态电致变色器件。该器件只需1~2V的驱动电压,即可显示出良好的着、退色性能,当驱动电... 电沉积法制备的聚苯胺-普鲁士蓝(PANI-PB)电致变色层与KCl掺杂的聚2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(PAMPS)的离子导电层相结合,组装制得8.5×12.5cm2全固态电致变色器件。该器件只需1~2V的驱动电压,即可显示出良好的着、退色性能,当驱动电压为零,器件自身着色。紫外-可见分光光度计表征表明,该器件在600nm处的光可调节范围达到60%,具有较好的应用前景。 展开更多
关键词 全固态 电致变色器件 电沉积 PAMPS
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