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一种新型高抗辐照可配置SOI器件技术 被引量:2
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作者 叶甜春 李博 +3 位作者 刘凡宇 李多力 李彬鸿 陈思远 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第12期2241-2253,共13页
本文介绍了一种新型的高抗辐照可配置SOI(configurable-SOI,CSOI)器件技术。CSOI器件在制备完成后,可以通过改变配置层电压,实现对总剂量辐照引起的性能退化进行补偿、对单粒子引起寄生晶体管放大进行抑制,从而提升器件的抗辐照性能。基... 本文介绍了一种新型的高抗辐照可配置SOI(configurable-SOI,CSOI)器件技术。CSOI器件在制备完成后,可以通过改变配置层电压,实现对总剂量辐照引起的性能退化进行补偿、对单粒子引起寄生晶体管放大进行抑制,从而提升器件的抗辐照性能。基于CSOI工艺,研制出了高抗辐照4kb SRAM验证芯片。辐照实验证实,该芯片的抗总剂量水平达到6 Mrad(Si)、单粒子翻转阈值大于118(MeV·cm^(2))/mg,达到国际先进水平,有望应用于深空探测、核应急等极端领域。 展开更多
关键词 可配置SOI 抗辐照 总剂量效应 单粒子效应
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DCIV技术提取辐照前后PDSOI器件背栅界面态密度
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作者 王芳芳 曾传滨 +3 位作者 李晓静 高林春 罗家俊 韩郑生 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2018年第7期92-96,共5页
直流电流电压(DCIV)技术受应用于智能剥离技术制造的PDSOI中硅/二氧化硅界面质量的研究.本文通过将样品进行钴60伽马射线辐照,用以监测PDSOI器件背沟道界面在总剂量辐照前后的变化情况.本文给出了完整的测试原理、实验流程和结果分析,... 直流电流电压(DCIV)技术受应用于智能剥离技术制造的PDSOI中硅/二氧化硅界面质量的研究.本文通过将样品进行钴60伽马射线辐照,用以监测PDSOI器件背沟道界面在总剂量辐照前后的变化情况.本文给出了完整的测试原理、实验流程和结果分析,不仅提取了辐照前后PDSOI器件的背界面陷阱密度以及它所在的等效能级,而且得到了界面陷阱能级密度在硅禁带中随能级变化的U型分布图(以禁带中央附近为主),为后续PDSOI器件的抗辐照加固提供了参考. 展开更多
关键词 直流电流电压方法 PDSOI器件 总剂量效应 背沟道 界面态 钴60伽马射线
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瞬时剂量率效应激光模拟测试技术 被引量:2
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作者 倪涛 杜川华 +5 位作者 曾传滨 高林春 王娟娟 高见头 赵发展 罗家俊 《太赫兹科学与电子信息学报》 北大核心 2020年第6期1157-1161,共5页
瞬时剂量率辐射效应模拟测试存在着试验资源有限、环境电磁干扰强、重复性不高等不利因素。本文开发了瞬时剂量率效应脉冲激光模拟测试技术,以1064 nm激光构建完整精细的剂量率效应地面模拟测试系统。利用此系统开展了不同工艺节点、不... 瞬时剂量率辐射效应模拟测试存在着试验资源有限、环境电磁干扰强、重复性不高等不利因素。本文开发了瞬时剂量率效应脉冲激光模拟测试技术,以1064 nm激光构建完整精细的剂量率效应地面模拟测试系统。利用此系统开展了不同工艺节点、不同沟道类型、不同衬底形式的瞬时剂量率效应实验研究。仿真实验结果表明相同条件下,体硅器件光电流比绝缘衬底上的硅(SOI)器件大10倍以上,光电流受源漏电压影响也大于SOI器件。 展开更多
关键词 剂量率效应 激光模拟 体硅器件 SOI器件
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体硅nFinFET总剂量效应三维TCAD仿真研究 被引量:4
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作者 黄云波 李博 +3 位作者 杨玲 郑中山 李彬鸿 罗家俊 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2018年第8期42-47,共6页
本文利用Sentaurus TCAD仿真软件对体硅鳍形场效应晶体管(FinFET)的总剂量效应(TID)进行了详细的数值模拟研究.基于良好校准后的器件模型,仿真结果表明:高沟道阻挡层掺杂浓度,大鳍宽,锥形鳍截面形状的FinFET器件对总剂量效应有良好的抑... 本文利用Sentaurus TCAD仿真软件对体硅鳍形场效应晶体管(FinFET)的总剂量效应(TID)进行了详细的数值模拟研究.基于良好校准后的器件模型,仿真结果表明:高沟道阻挡层掺杂浓度,大鳍宽,锥形鳍截面形状的FinFET器件对总剂量效应有良好的抑制作用.进一步的Gamma总剂量辐射仿真展示了辐照过程中浅槽隔离(STI)氧化层中陷阱空穴的形成.最后,利用Sentaurus TCAD软件混合仿真模式对电路级别的总剂量响应进行了模拟分析,结果表明电路的性能和可靠性在总剂量辐照之后均受到了极大的影响. 展开更多
关键词 鳍形场效应晶体管 总剂量效应(TID) 浅槽隔离(STI) TCAD
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用于ESD防护的PDSOI NMOS器件高温特性 被引量:1
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作者 王加鑫 李晓静 +4 位作者 赵发展 曾传滨 李博 韩郑生 罗家俊 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第3期210-215,共6页
研究了基于0.18μm部分耗尽型绝缘体上硅(PDSOI)工艺的静电放电(ESD)防护NMOS器件的高温特性。借助传输线脉冲(TLP)测试系统对该ESD防护器件在30~195℃内的ESD防护特性进行了测试。讨论了温度对ESD特征参数的影响,发现随着温度升高,该ES... 研究了基于0.18μm部分耗尽型绝缘体上硅(PDSOI)工艺的静电放电(ESD)防护NMOS器件的高温特性。借助传输线脉冲(TLP)测试系统对该ESD防护器件在30~195℃内的ESD防护特性进行了测试。讨论了温度对ESD特征参数的影响,发现随着温度升高,该ESD防护器件的一次击穿电压和维持电压均降低约11%,失效电流也降低近9.1%,并通过对器件体电阻、源-体结开启电压、沟道电流、寄生双极结型晶体管(BJT)的增益以及电流热效应的分析,解释了ESD特征参数发生上述变化的原因。研究结果为应用于高温电路的ESD防护器件的设计与开发提供了有效参考。 展开更多
关键词 静电放电(ESD) 绝缘体上硅(SOI) NMOSFET 高温 传输线脉冲(TLP)
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eFuse器件的电迁移三维有限元仿真
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作者 王锦任 王家佳 +2 位作者 赵晨阳 刘海南 李多力 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第7期577-584,599,共9页
应用有限元分析软件建立了电可编程熔丝(eFuse)器件的三维有限元模型,通过离子流通量散度法和最小原子浓度法对eFuse器件的电迁移熔断过程进行了多物理场耦合有限元仿真,仿真结果能够较好地拟合器件的实际熔断效果。通过仿真对比了不同... 应用有限元分析软件建立了电可编程熔丝(eFuse)器件的三维有限元模型,通过离子流通量散度法和最小原子浓度法对eFuse器件的电迁移熔断过程进行了多物理场耦合有限元仿真,仿真结果能够较好地拟合器件的实际熔断效果。通过仿真对比了不同阴极面积和不同编程电压条件下的电迁移过程及熔断效果。结果表明,更大的阴极面积能够提高熔丝局部的温度梯度,从而提高熔断效率;更高的编程电压能够提供更高的电流密度和温度,从而加速电迁移的发生并增大了eFuse熔断区的面积。提出了一种具有外部辅助加热功能的eFuse器件结构,并在不同条件下进行了电迁移熔断仿真,结果表明该结构能够显著提高eFuse器件局部的离子流通量散度,从而提高eFuse存储单元的熔断效率和编程良率。 展开更多
关键词 电可编程熔丝(eFuse) 电迁移 有限元仿真 离子流通量散度 热断裂
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硅基OLED数字型像素驱动电路MOS管尺寸对数据写入的影响 被引量:4
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作者 徐勇 祁鹏赫 +3 位作者 黄苒 赵博华 刘梦新 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第5期680-686,共7页
以传统的6T SRAM(5T+1MOS驱动管)结构硅基OLED像素电路为例,分析了开关管尺寸对数据写入的影响。提出了一种新型数字型硅基OLED像素电路,用5T(4T+1MOS驱动管)实现与6T SRAM(5T+1MOS驱动管)结构相同的功能。另外新型的像素电路与传统的S... 以传统的6T SRAM(5T+1MOS驱动管)结构硅基OLED像素电路为例,分析了开关管尺寸对数据写入的影响。提出了一种新型数字型硅基OLED像素电路,用5T(4T+1MOS驱动管)实现与6T SRAM(5T+1MOS驱动管)结构相同的功能。另外新型的像素电路与传统的SRAM结构相比,其数据写入不受开关管尺寸的影响,可以采用最小尺寸的开关管。基于SMIC 0.18μm 1.8 V/5 V混合信号工艺设计,通过仿真得出6T SRAM结构像素电路能正常写入的开关管最小尺寸为540 nm/600 nm,像素单元版图面积为4.3μm×4.3μm;新型5T结构像素电路中的开关管尺寸可以为工艺最小尺寸,即300 nm/600 nm,版图面积为3.91μm×3.91μm,相比之下单个像素单元版图面积缩小了17.3%。 展开更多
关键词 硅基OLED 像素电路 SRAM 数字驱动 开关管尺寸
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“后摩尔时代”芯片互连方法简析 被引量:2
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作者 张墅野 初远帆 +6 位作者 李振锋 鲍俊辉 张雨杨 刘一甫 易庆鸿 崔澜馨 何鹏 《材料导报》 CSCD 北大核心 2023年第15期121-130,共10页
随着半导体制程接近工艺物理极限,半导体工业进入“后摩尔时代”,集成技术成为继续提高电子产品性能的重要途径。现存的实现高度集成的关键技术都对更小尺寸的连接提出了要求。同时随着连接尺寸的减小,封装体在连接工艺中受到的影响导... 随着半导体制程接近工艺物理极限,半导体工业进入“后摩尔时代”,集成技术成为继续提高电子产品性能的重要途径。现存的实现高度集成的关键技术都对更小尺寸的连接提出了要求。同时随着连接尺寸的减小,封装体在连接工艺中受到的影响导致器件在使用温度下失效的问题越来越严重。封装内的互连部分是芯片热传导、电气连接的重要结构,也是器件失效的重要部位,在互连接头尺寸不断减小的背景下,互连部分的失效在器件整体失效的情况中占据着越来越重要的地位,研究高导热、低工艺影响的微纳连接技术有望解决高功率密度器件的可靠性问题。本文总结了微纳连接技术在新型焊料、能量传递方式两方面的发展,简单介绍了表面活化技术并讨论其应用在电子封装中的可能性,在此基础上讨论了微纳连接技术的发展方向。 展开更多
关键词 微纳连接 表面活化键合 低温焊料 纳米焊料 电子束辐照 超声连接
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一种新型隧穿场效应晶体管
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作者 卜建辉 许高博 +4 位作者 李多力 蔡小五 王林飞 韩郑生 罗家俊 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第3期185-188,共4页
提出了一种新型隧穿场效应晶体管(TFET)结构,该结构通过在常规TFET靠近器件栅氧化层一侧的漏-体结界面引入一薄层二氧化硅(隔离区),从而减小甚至阻断反向栅压情况下漏端到体端的带带隧穿(BTBT),减弱TFET的双极效应,实现大幅度降低器件... 提出了一种新型隧穿场效应晶体管(TFET)结构,该结构通过在常规TFET靠近器件栅氧化层一侧的漏-体结界面引入一薄层二氧化硅(隔离区),从而减小甚至阻断反向栅压情况下漏端到体端的带带隧穿(BTBT),减弱TFET的双极效应,实现大幅度降低器件泄漏电流的目的。利用TCAD仿真工具对基于部分耗尽绝缘体上硅(PDSOI)和全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)的TFET和新型TFET结构进行了仿真与对比。仿真结果表明,当隔离区宽度为2 nm,高度大于10 nm时,可阻断PDSOI TFET的BTBT,其泄漏电流下降了4个数量级;而基于FDSOI的TFET无法彻底消除BTBT和双极效应,其泄漏电流下降了2个数量级。因此新型结构更适合于PDSOI TFET。 展开更多
关键词 隧穿场效应晶体管(TFET) 绝缘体上硅(SOI) 泄漏电流 带带隧穿(BTBT) 双极效应
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一种基于V58300平台的集成电路功能测试系统设计 被引量:6
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作者 田强 杨婉婉 +4 位作者 李力南 郭刚 蔡莉 刘海南 罗家俊 《太赫兹科学与电子信息学报》 2021年第3期537-540,共4页
基于中科院微电子所自主研发的V58300硬件平台,设计实现了一种集成电路功能测试系统。该系统包含上位机与下位机两部分,通过在上位机实时更改测试系统相关I/O的定义和输入的测试向量文件,即可自动完成对各种运行频率在25 MHz及以下,I/O... 基于中科院微电子所自主研发的V58300硬件平台,设计实现了一种集成电路功能测试系统。该系统包含上位机与下位机两部分,通过在上位机实时更改测试系统相关I/O的定义和输入的测试向量文件,即可自动完成对各种运行频率在25 MHz及以下,I/O数量在48位及以下双列直插(DIP)封装集成电路的功能测试,实现了测试系统的通用化和低成本化。最后通过实验证明本测试系统可以有效地对相关芯片进行功能测试。 展开更多
关键词 现场可编程门阵列 集成电路测试 测试向量 功能测试
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一种用于磁隔离驱动电路的编解码方案设计 被引量:3
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作者 彭锐 蔡小五 +3 位作者 刘海南 罗家俊 赵海涛 吴秀龙 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2018年第9期42-46,共5页
采用体硅0.25μm BCD工艺,设计了一种用于磁隔离驱动电路的编解码方案,将需要传输的数字信号编码成两个不同宽度的高频脉冲,这些高频脉冲从变压器初级线圈耦合到次级线圈,并且由次级端电路检测,最后在输出端重新恢复成输入的信号.相对... 采用体硅0.25μm BCD工艺,设计了一种用于磁隔离驱动电路的编解码方案,将需要传输的数字信号编码成两个不同宽度的高频脉冲,这些高频脉冲从变压器初级线圈耦合到次级线圈,并且由次级端电路检测,最后在输出端重新恢复成输入的信号.相对于传统的磁隔离驱动电路的编解码方案,本文设计的磁隔离驱动电路的编码和解码方式新颖,电路实现简单,使传输的信号延迟时间大大减小,并且工作频率更高.仿真结果表明,电路在3~5V的电压下能正常工作,可以实现最大数据隔离传输速率达到125 Mbps,延迟时间最大仅有8ns,静态电流1.64mA,动态功耗0.37mA/Mbps. 展开更多
关键词 磁隔离 高频脉冲 还迟时间 功耗
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SOI工艺抗辐照SRAM型FPGA设计与实现 被引量:2
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作者 郝宁 罗家俊 +8 位作者 刘海南 李彬鸿 吴利华 于芳 刘忠利 高见头 孟祥鹤 邢龙 韩郑生 《宇航学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期1046-1052,共7页
为提升SRAM型FPGA电路块存储器和配置存储器抗单粒子翻转性能,本文提出一种脉冲屏蔽SRAM单元结构。该结构通过在标准的六管单元中加入延迟结构,增大单元对单粒子事件响应时间,实现对粒子入射产生的脉冲电流屏蔽作用。以64k SRAM作为验... 为提升SRAM型FPGA电路块存储器和配置存储器抗单粒子翻转性能,本文提出一种脉冲屏蔽SRAM单元结构。该结构通过在标准的六管单元中加入延迟结构,增大单元对单粒子事件响应时间,实现对粒子入射产生的脉冲电流屏蔽作用。以64k SRAM作为验证电路进行单粒子翻转性能对比,电路的抗单粒子翻转阈值由采用标准六管单元的抗单粒子翻转阈值大于25 Me V·cm2·mg-1提升至大于45 Me V·cm2·mg-1,加固单元面积较标准六管单元增大约21.3%。30万门级抗辐照FPGA电路通过脉冲屏蔽单元结合抗辐照SOI工艺实现,其抗辐照指标分别为:抗单粒子翻转阈值大于37.3 Me V·cm2·mg-1,抗单粒子锁定阈值大于99.8 Me V·cm2·mg-1,抗电离总剂量能力大于200 krad(Si)。 展开更多
关键词 FPGA SRAM单元 SOI工艺 辐照加固 单粒子翻转
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一种用于智能高边功率IC的负载开路检测电路 被引量:5
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作者 张小琴 蔡小五 +4 位作者 曾传滨 闫薇薇 赵海涛 刘海南 罗家俊 《微电子学与计算机》 北大核心 2020年第12期17-21,共5页
基于BCD工艺,设计了一种用于智能高边功率开关的新型开态负载开路检测电路.采用双重判决电路,解决了传统检测方法所带来的额外电压降和小电流检测误差太大的问题,提高了负载开路检测的精度和可靠性,且能实现1 mA^10 mA的低阈值电流检测.... 基于BCD工艺,设计了一种用于智能高边功率开关的新型开态负载开路检测电路.采用双重判决电路,解决了传统检测方法所带来的额外电压降和小电流检测误差太大的问题,提高了负载开路检测的精度和可靠性,且能实现1 mA^10 mA的低阈值电流检测.Cadence Spectre仿真表明,在开路检测阈值电流为3 mA的情况下,检测精度达98%;在电源电压为24 V的情况下,电荷泵输出电压为27.67 V,充电时间为16.89μs,放电时间为20.3μs,此智能高边功率电路开关时间远远小于英飞凌同类型产品100μs左右的开关时间. 展开更多
关键词 智能功率集成电路 驱动电路 电平移位 开路检测
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一种宽电源电压输入多通道振荡器的电路设计 被引量:3
14
作者 智玉欣 蔡小五 +3 位作者 赵海涛 夏瑞瑞 刘海南 罗家俊 《微电子学与计算机》 北大核心 2020年第9期1-5,共5页
采用BCD工艺设计了一中宽电源电压输入、多通道张弛振荡器电路,文中提出的一种片上电源变换电路以及一种基于张弛振荡器的时钟产生电路,克服了宽电源范围供电情况下对低压振荡器的要求,在降低电压变换电路复杂性的同时降低了频率对电压... 采用BCD工艺设计了一中宽电源电压输入、多通道张弛振荡器电路,文中提出的一种片上电源变换电路以及一种基于张弛振荡器的时钟产生电路,克服了宽电源范围供电情况下对低压振荡器的要求,在降低电压变换电路复杂性的同时降低了频率对电压的敏感性,可应用于单电源高压供电芯片.在电源电压VDDH为典型值24V情况下,逻辑低电平VDDL温度系数为290ppm/℃;电源电压从0跳变到24V时,VDDL稳定5V仅需0.16μs;27℃情况下,电源电压VDDH从7V到40V变换情况下,VDDL电平变化1.72%.27℃情况下,在7V供电电压时,最大时钟偏移0.20%;在24V供电电压时,最大时钟偏移0.21%.电路采用0.25μm工艺实现,在电源电压24 V,工作频率25MHz时,电流消耗仅为150μA. 展开更多
关键词 宽电源电压 多通道张弛振荡器 电压敏感性 功率集成电路
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一种提升抗单粒子能力的新型超结结构 被引量:3
15
作者 王琳 宋李梅 +2 位作者 王立新 罗家俊 韩郑生 《微电子学与计算机》 北大核心 2019年第9期84-88,共5页
为了提升超结器件在空间辐照环境下的可靠性,针对额定电压为700 V的超结器件提出了一种新型结构.加固的结构在标准SJVDMOS平面栅的基础上刻蚀掉部分栅极,同时引入了一个肖特基接触来提升器件的抗单粒子能力.2D synopsyssentaurus TCAD... 为了提升超结器件在空间辐照环境下的可靠性,针对额定电压为700 V的超结器件提出了一种新型结构.加固的结构在标准SJVDMOS平面栅的基础上刻蚀掉部分栅极,同时引入了一个肖特基接触来提升器件的抗单粒子能力.2D synopsyssentaurus TCAD对器件进行了仿真建模,并通过单粒子的瞬态仿真来评估器件的SEE性能,仿真结果表明加固之后的器件在单粒子效应下的整体安全工作区大幅增加,器件抗单粒子烧毁和抗单粒子栅穿的能力都明显提升,同时新型结构的电学性能也维持了良好的水平. 展开更多
关键词 超结器件 单粒子烧毁 单粒子栅穿 线性能量传输函数 单粒子效应
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瞬态电压抑制二极管的概述和展望 被引量:16
16
作者 杨尊松 王立新 +2 位作者 肖超 陆江 李彬鸿 《电子设计工程》 2016年第24期108-112,共5页
文中基于推进我国瞬态电压抑制二极管(TVS)自主研发能力的目的,通过调研TVS的发展历程及近年的研究热点,综述了TVS的制备工艺和主要结构。同时,介绍了TVS的工作机制和主要参数,并重点描述了近年来国际上TVS在低压低电容和低漏电流方面... 文中基于推进我国瞬态电压抑制二极管(TVS)自主研发能力的目的,通过调研TVS的发展历程及近年的研究热点,综述了TVS的制备工艺和主要结构。同时,介绍了TVS的工作机制和主要参数,并重点描述了近年来国际上TVS在低压低电容和低漏电流方面所取得的理论和技术突破。最后提出了TVS的低压集成化等发展趋势。 展开更多
关键词 瞬态电压抑制二极管 TVS 研究现状
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一种应用于单光子测距的去噪算法及电路 被引量:2
17
作者 程帅 刘兴辉 +3 位作者 赵宏亮 赵野 李博 赵发展 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2022年第8期1051-1055,1065,共6页
随着高级驾驶员辅助系统(advanced driver assistance systems, ADAS)中对高分辨率光检测和测距(light detection and ranging, LIDAR)技术的需求越来越高,文章提出一种应用于激光测距技术的去噪算法,该算法是一种完整的数字信号处理方... 随着高级驾驶员辅助系统(advanced driver assistance systems, ADAS)中对高分辨率光检测和测距(light detection and ranging, LIDAR)技术的需求越来越高,文章提出一种应用于激光测距技术的去噪算法,该算法是一种完整的数字信号处理方法,用时间相关的单光子计数来进行飞行时间(time-of-flight, TOF)测距,该方法的核心是将原始光子存储在一个m×n的阵列中。该算法包括粗滤波、细滤波2个过程,在粗滤波中,将每16个光子作为一个组,首先编程为4×4子阵列,在子阵列块中,将汇总所有光子;然后逐块进行筛选。在细滤波中,对通过粗滤波选择的3个子阵列中的每个子阵列的16个数据进行卷积;然后在每个子阵列中逐个滤波来确定最大数量的光子。与在单光子统计直方图中执行逐条滤波的传统算法相比,该算法的效率提高了10倍以上。仿真实验结果表明,文中提出的方法大大提高了运算速度,同时精度仍然很高,可用于激光雷达芯片的实时信号处理。 展开更多
关键词 去噪算法 单光子计数 激光测距
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一种基于浮地结构的高边驱动电路 被引量:3
18
作者 智玉欣 蔡小五 +4 位作者 赵海涛 夏瑞瑞 刘海南 罗家俊 叶甜春 《微电子学与计算机》 2021年第1期7-11,共5页
本文介绍了一种采用浮地结构的高边功率驱动电路,包括输入级电路、稳压电路、浮地产生电路以及基于电荷泵驱动电路.针对传统驱动电路中存在的地信号干扰,信号串扰问题、栅击穿以及稳压源电路提出了一种新的解决方法以及电路设计方法,极... 本文介绍了一种采用浮地结构的高边功率驱动电路,包括输入级电路、稳压电路、浮地产生电路以及基于电荷泵驱动电路.针对传统驱动电路中存在的地信号干扰,信号串扰问题、栅击穿以及稳压源电路提出了一种新的解决方法以及电路设计方法,极大提高了高边功率驱动电路的稳定性.基于BCD工艺,单电源电压7V~40V情况下的仿真结果表明:在2MHz振荡器频率下,浮地电路可正常工作,浮地上的纹波电压变化小于0.03V;可以对干扰信号进行有效过滤,具有较强的防误触发能力.此新型浮地电路以及稳压源电路可很好的应用于高边功率驱动电路. 展开更多
关键词 浮地结构 片内稳压源 驱动电路 信号串扰
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28nm超薄体FD-SOI高温输出电流特性研究 被引量:4
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作者 张颢译 曾传滨 +6 位作者 李晓静 闫薇薇 倪涛 高林春 罗家俊 赵发展 韩郑生 《微电子学与计算机》 2021年第12期75-79,共5页
针对高温引起MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)器件饱和输出电流值发生退化的问题,开展了对SOI(绝缘体上硅)工艺器件的高温特性分析.结果表明FDSOI的饱和输出电流随温度变化值ΔI/I=1.9%,远小于PDSOI的ΔI/I=24.1%.其原因是超薄体... 针对高温引起MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)器件饱和输出电流值发生退化的问题,开展了对SOI(绝缘体上硅)工艺器件的高温特性分析.结果表明FDSOI的饱和输出电流随温度变化值ΔI/I=1.9%,远小于PDSOI的ΔI/I=24.1%.其原因是超薄体FD(全耗尽)SOI的结构优势使其和PD(部分耗尽)SOI相比拥有更,低的阈值电压温度漂移率和更小的载流子迁移率改变量. 展开更多
关键词 高温器件 超薄体FDSOI 输出电流 载流子迁移率
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金属氧化物半导体控制晶闸管的di/dt优化 被引量:2
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作者 胡飞 宋李梅 韩郑生 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期274-279,320,共7页
金属氧化物半导体控制晶闸管(MCT)相比于绝缘栅双极型晶体管(IGBT)具有高电流密度、低导通压降和快速开启等优势,在高压脉冲功率领域具有广阔的应用前景。作为脉冲功率开关,MCT开启过程对输出脉冲信号质量有很大影响。采用理论分析... 金属氧化物半导体控制晶闸管(MCT)相比于绝缘栅双极型晶体管(IGBT)具有高电流密度、低导通压降和快速开启等优势,在高压脉冲功率领域具有广阔的应用前景。作为脉冲功率开关,MCT开启过程对输出脉冲信号质量有很大影响。采用理论分析并结合仿真优化重点研究了MCT开启瞬态特性。通过对MCT开启过程进行详细地理论分析推导,给出了MCT开启过程中阳极电流和上升时间的表达式。结合Sentaurus TCAD仿真优化,将MCT开启过程中电流上升速率(di/dt)由40 kA/s提升至80 kA/s,极大地改善了器件开启瞬态特性。最后,总结提出了提高器件开启瞬间di/dt的设计途径。 展开更多
关键词 MOS控制晶闸管(MCT) 电流上升速率(di/dt) 脉冲功率开关 开启瞬态 上升时间
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