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Poloidal magnetic field reconstruction by laser-driven ion-beam trace probe in spherical tokamak
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作者 Zuyu ZHANG Tianchao XU +4 位作者 Chijie XIAO Xianli HUANG Renchuan HE Ruixin YUAN Xiaoyi YANG 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第11期58-64,共7页
The poloidal magnetic field( B_(p)) plays a critical role in plasma equilibrium, confinement and transport of magnetic confinement devices. Multiple diagnostic methods are needed to complement each other to obtain a m... The poloidal magnetic field( B_(p)) plays a critical role in plasma equilibrium, confinement and transport of magnetic confinement devices. Multiple diagnostic methods are needed to complement each other to obtain a more accurate B_(p) profile. Recently, the laser-driven ion-beam trace probe(LITP) has been proposed as a promising tool for diagnosing B_(p) and radial electric field( E_(r)) profiles in tokamaks [Yang X Y et al 2014 Rev. Sci. Instrum. 85 11E429]. The spherical tokamak(ST) is a promising compact device with high plasma beta and naturally large elongation. However, when applying LITP to diagnosing B_(p) in STs, the larger B_(p) invalidates the linear reconstruction relationship for conventional tokamaks, necessitating the development of a nonlinear reconstruction principle tailored to STs. This novel approach employs an iterative reconstruction method based on Newton's method to solve the nonlinear equation. Subsequently,a simulation model to reconstruct the B_(p) profile of STs is developed and the experimental setup of LITP is designed for EXL-50, a middle-sized ST. Simulation results of the reconstruction show that the relative errors of B_(p) reconstruction are mostly below 5%. Moreover, even with 5 mm measurement error on beam traces or 1 cm flux surface shape error, the average relative error of reconstruction remains below 15%, initially demonstrating the robustness of LITP in diagnosing B_(p) profiles in STs. 展开更多
关键词 laser-driven ion-beam trace probe poloidal magnetic field diagnostic iterative reconstruction
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Effects of the ion-beam voltage on the properties of the diamond-like carbon thin film prepared by ion-beam sputtering deposition 被引量:1
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作者 孙鹏 胡明 +4 位作者 张锋 季一勤 刘华松 刘丹丹 冷健 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第6期581-585,共5页
Diamond-like carbon (DLC) thin film is one of the most widely used optical thin films. The fraction of chemical bondings has a great influence on the properties of the DLC film. In this work, DLC thin films are prep... Diamond-like carbon (DLC) thin film is one of the most widely used optical thin films. The fraction of chemical bondings has a great influence on the properties of the DLC film. In this work, DLC thin films are prepared by ion-beam sputtering deposition in Ar and CH4 mixtures with graphite as the target. The influences of the ion-beam voltage on the surface morphology, chemical structure, mechanical and infrared optical properties of the DLC films are investigated by atomic force microscopy (AFM), Raman spectroscopy, nanoindentation, and Fourier transform infrared (FTIR) spec- troscopy, respectively. The results show that the surface of the film is uniform and smooth. The film contains sp2 and sp3 hybridized carbon bondings. The film prepared by lower ion beam voltage has a higher sp3 bonding content. It is found that the hardness of DLC films increases with reducing ion-beam voltage, which can be attributed to an increase in the fraction of sp3 carbon bondings in the DLC film. The optical constants can be obtained by the whole infrared optical spectrum fitting with the transmittance spectrum. The refractive index increases with the decrease of the ion-beam voltage, while the extinction coefficient decreases. 展开更多
关键词 DLC thin film ion-beam sputtering deposition chemical bondings infrared optical and mechani-cal properties
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Bioeffects of Low Energy Ion-Beam Implantation and Vacuum Treatment on M_1 Arabidopsis Thaliana
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作者 杨根 卞坡 +3 位作者 张正红 任杰 吴李君 余增亮 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第2期242-246,共5页
Vacuum treatment and ion-beam bombardment are two major processes in the low energy ion-beam implantation. To accurately study the contributions of these two major factors to the bioeffects separately, the M1 generati... Vacuum treatment and ion-beam bombardment are two major processes in the low energy ion-beam implantation. To accurately study the contributions of these two major factors to the bioeffects separately, the M1 generation variation of Arabidopsis thaliana with ion-beam implantation and vacuum treatment were compared through a series of key plant development parameters including morphological observation, biochemical assay and RAPD (random amplified polymorphic DNA) analysis. The results showed that ion-beam implantation had obvious effect on almost all of these parameters, and the vacuum treatment had some impacts on several morphological parameters such as the bolting time and the length of the primary stem. Taking the results together, the indication is that vacuum treatment has some slight contributions to the bioeffects of ion-beam implantation while ion-beam bombardment itself is the major creator of the bioeffects. 展开更多
关键词 BIOEFFECTS ion-beam VACUUM Arabidopsis thaliana
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Ion-Beam Surface Modification of Strut Dowel Used in ITER PF Support
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作者 罗蓉蓉 李鹏远 +4 位作者 韩石磊 孙振超 潘传杰 沈丽茹 金凡亚 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期303-306,共4页
In this paper, surface modification of the strut dowel used in ITER PF support is reported. Different ions (nitrogen/titanium) with different doses are implanted into the surface of strut dowel. The result of Auger ... In this paper, surface modification of the strut dowel used in ITER PF support is reported. Different ions (nitrogen/titanium) with different doses are implanted into the surface of strut dowel. The result of Auger Electron Spectroscopy (AES) indicates that nitrogen can be implanted more deeply than titanium under the implantation condition of 60 kV accelerating voltage and a dose of 8×10^17/cm2 nitrogen. Surface Micro Hardness (SMH) and wear resistance are improved remarkably. Further SEM observation shows that there are no obvious scratches and damages after wear test. 展开更多
关键词 ITER PFCS dowel ion-beam implantation
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Observation of double pseudowaves in an ion-beam-plasma system
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作者 Zi-An Wei Jin-Xiu Ma Kai-Yang Yi 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第8期350-355,共6页
Pseudowaves, known as burst-ion signals, which are different from plasma normal modes, exist frequently in ion- wave excitation experiments when launching the waves by applying a pulsed voltage to a negatively biased ... Pseudowaves, known as burst-ion signals, which are different from plasma normal modes, exist frequently in ion- wave excitation experiments when launching the waves by applying a pulsed voltage to a negatively biased grid. In previous experiments, only one kind of the pseudowave was observed. In this paper, we report the observation and identification of double pseudowaves in an ion-beam-plasma system. These pseudowaves originate from two ion groups: the burst of the beam ions and the burst of the background ions. It was observed that the burst of the background ions was in the case of high ion beam energy, while the burst of the beam ions was in the case of low ion beam energy. By observing the dependence of the signal velocities on the characteristics of the excitation voltage, these pseudowaves can be identified. It was also observed that the burst ion signal originating from the background ions can interact with slow beam mode and that originating from the beam ions can interact with fast beam mode. 展开更多
关键词 ion-beam-plasma system normal modes pseudowaves wave-particle interaction
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Purification and Properties of a New L-Sorbose Dehydrogenase Accelerative Protein from Bacillus megaterium Bred by Ion-Beam Implantation 被引量:9
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作者 赵世光 姚黎明 +4 位作者 苏彩欣 王陶 王军 汤明礼 余增亮 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第3期398-402,共5页
Bacillus megaterium BM302 bred by ion-beam implantation produces L-sorbose dehydrogenase accelerative protein (SAP) to accelerate the activity of L-sorbose dehydrogenase (SDH) of Gluconobacter oxydans in the 2-ket... Bacillus megaterium BM302 bred by ion-beam implantation produces L-sorbose dehydrogenase accelerative protein (SAP) to accelerate the activity of L-sorbose dehydrogenase (SDH) of Gluconobacter oxydans in the 2-keto-L-gulonic acid (2KLG) fermentation from L-sorbose by the mixed culture of B. megaterium BM302 and G. oxydans. The SAP purified by three chromatographic steps gave 35-fold purification with a yield of 13% and a specific activity of 5.21 units/mg protein. The molecular weight of the purified SAP was about 58 kDa. The SDH accelerative activity of SAP at pH 7 and 50℃ was the highest. Additionally, it retained 60% activity at a pH range of 6.5 ~ 10 and was stable at 20℃ ~ 60℃. After 0.32-unit SAP was added to the single cultured G. oxydans strains, the SDH activity was apparently accelerated and the 2KLG yield of GO29, GO112, GO and GI13 was enhanced 2.1, 3.3, 3.5 and 2.9 folds respectively over that of the strains without the addition of SAP. 展开更多
关键词 bacillus megaterium BM302 ion beam implantation counterpart protein two-step fermentation of Vc
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Control of Beam Energy and Flux Ratio in an Ion-Beam-Background Plasma System Produced in a Double Plasma Device
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作者 WEI Zian MAJinxiu +2 位作者 LI Yuanrui SUN Yan JIANG Zhengqi 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第11期1076-1080,共5页
Plasmas containing ion beams have various applications both in plasma technology and in fundamental research. The ion beam energy and flux are the two factors characterizing the beam properties. Previous studies have ... Plasmas containing ion beams have various applications both in plasma technology and in fundamental research. The ion beam energy and flux are the two factors characterizing the beam properties. Previous studies have not achieved the independent adjustment of these two parameters. In this paper, an ion-beam-background-plasma system was produced with hotcathode discharge in a double plasma device separated by two adjacent grids, with which the beam energy and flux ratio (the ratio between the beam flux and total ion flux) can be controlled independently. It is shown that the discharge voltage (i.e., voltage across the hot-cathode and anode) and the voltage drop between the two separation grids can be used to effectively control the beam energy while the flux ratio is not affected by these voltages. The flux ratio depends sensitively on hot-filaments heating current whose influence on the beam energy is relatively weak, and thus enabling approximate control of the flux ratio 展开更多
关键词 ion beam background plasma beam energy flux ratio
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Research on the Distant Hybrids of Wheat Obtained via Low-Energy Ion-Beam Implantation
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作者 苌收伟 程玉红 +1 位作者 秦广雍 苏明杰 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第3期1821-1824,共4页
The whole DNA of soybean was implanted into four varieties of wheat of Zhongyu 5, Huaiyin 9628, Wenyou 1, Jimai 5 respectively via ion-beam mediation. There were 5 plants obtained whose protein content was higher than... The whole DNA of soybean was implanted into four varieties of wheat of Zhongyu 5, Huaiyin 9628, Wenyou 1, Jimai 5 respectively via ion-beam mediation. There were 5 plants obtained whose protein content was higher than 18.5 %, the highest one was 21.44 %. There were 3 plants obtained whose protein content was lower than 11.5%, the lowest one was 10.96%. We can see that the whole DNA of soybean transformed into wheat via ion beam implantation can induce the increase in wheat protein content dramatically. The result also shows that the transformation efficiency of different gene types of wheat receptor varies greatly that the implanting time has a certain effect on the efficiency of transformation. 展开更多
关键词 transformation via ion beam soy DNA distant hybrid
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离子束抛光对单晶硅表面质量影响的分子动力学模拟研究
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作者 赵仕燕 郭海林 +6 位作者 黄思玲 张旭 夏超翔 王大森 聂凤明 裴宁 李晓静 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第6期113-121,共9页
离子束抛光作为一种超精密加工技术,被应用于材料表面抛光的精抛阶段,而其原子量级的去除效果使得它的加工过程与加工效果难以直接观察,因此为了能够从微观尺度研究离子束抛光的加工效果以及加工参数对材料表面粗糙度与表面损伤的影响,... 离子束抛光作为一种超精密加工技术,被应用于材料表面抛光的精抛阶段,而其原子量级的去除效果使得它的加工过程与加工效果难以直接观察,因此为了能够从微观尺度研究离子束抛光的加工效果以及加工参数对材料表面粗糙度与表面损伤的影响,提出使用分子动力学模拟的方法研究离子束抛光过程,通过对氩离子轰击单晶硅的仿真模拟,分析加工参数对单晶硅表面粗糙度与晶格损伤的影响规律,指导实际的加工工艺设计.研究发现,在不同加工角度下,离子剂量对于表面粗糙度的影响规律不同,低角度(0°~40°)低剂量以及高角度(>50°)高剂量的加工有助于达到较低的表面粗糙度;随着加工角度的增加,离子束对晶体表面造成的损伤逐渐减少,当加工角度大于40°时能够大幅度减少晶格损伤.模拟结果显示在实际的离子束抛光过程中,为了得到高质量的表面,应该采取高角度高剂量的加工方式以达到既降低材料表面粗糙度又减小对材料表面晶格产生损伤的目的. 展开更多
关键词 离子束抛光 表面质量 分子动力学 单晶硅 加工角度
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负氦离子束产生技术研究
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作者 陈浩南 崔保群 +9 位作者 唐兵 陈立华 马瑞刚 马鹰俊 马燮 张一帆 赵建革 王云峰 杨超 于荣凯 《原子能科学技术》 北大核心 2025年第1期205-212,共8页
串列加速器可产生MeV级的正离子束,其中He离子束可用于离子束分析、离子注入等实验研究和工业应用,是串列加速器不可或缺的一种离子束流。串列加速器要求负离子注入,负氦离子束是串列加速器产生MeV级He离子束的关键。由于基态He原子电... 串列加速器可产生MeV级的正离子束,其中He离子束可用于离子束分析、离子注入等实验研究和工业应用,是串列加速器不可或缺的一种离子束流。串列加速器要求负离子注入,负氦离子束是串列加速器产生MeV级He离子束的关键。由于基态He原子电子亲合能小于0,无法直接在离子源中产生和引出He-离子束,只能通过连续两次的电荷交换产生,所以He^(-)离子束被认为是最难产生的负离子束之一。针对串列加速器He^(-)离子的注入需求,研究设计了一款负氦离子源,使用多峰会切场离子源电离产生He^(+)离子,注入电荷交换器中,通过电荷交换产生He^(-)离子束。模拟了多峰会切场离子源的磁场位形和粒子轨迹,验证了多峰场构型对电子约束的作用,能维持离子源稳定放电。设计了电荷交换器结构,考虑了热平衡状态时的温度分布,确保了金属Cs作为电荷交换介质的长期稳定运行。基于中国原子能科学研究院1.7 MV串列加速器低能束流线平台开展了产生负氦离子束的实验,优化了离子束的聚焦传输参数,测量了电荷交换器工作温度和He^(+)离子注入能量对He^(-)离子产率的影响。实验中测得最大He^(-)离子产率为1.76%±0.03%,调节离子源放电参数得到了最大1.5μA的He^(-)离子束流,基本满足串列加速器的注入需求。后续进一步改进离子源,增强放电强度,提高引出He^(+)离子流强,有望进一步提升He^(-)离子流强。该研究为国产负氦离子源的发展提供了重要技术支持,对实现串列加速器技术的自主可控具有重要意义。 展开更多
关键词 负氦离子束 离子源 电荷交换 负氦离子产率
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纳秒激光复合离子束刻蚀技术的CVD金刚石抛光研究
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作者 冯昱森 赵智炎 +3 位作者 于颜豪 徐颖 徐地华 李爱武 《激光杂志》 北大核心 2025年第1期214-221,共8页
高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光... 高表面平整度的CVD金刚石在微刀具、光学窗口、半导体等领域具有非常广阔的应用前景。然而,由于CVD金刚石具有的高硬度、高耐磨性和化学惰性等特性,使得CVD金刚石的高精度抛光成为一个巨大的挑战。针对金刚石抛光难度问题,使用纳秒激光复合离子束刻蚀技术抛光CVD金刚石,开展了多晶CVD金刚石激光抛光实验研究,针对激光功率和扫描速度两种激光参数研究其对CVD金刚石烧蚀深度和表面粗糙度的影响,在此基础上对激光抛光后的CVD金刚石进行离子束蚀刻抛光,研究了离子束抛光下的金刚石表面粗糙度变化,并对离子束抛光后的金刚石表面成分进行分析。通过所述方法实现了CVD金刚石样品表面粗糙度从6.687μm降到0.804μm的优异的抛光效果。此研究提供了一种旨在红外窗口、微型铣床和航天航空等领域具有应用价值的金刚石抛光方法。 展开更多
关键词 激光光学 纳秒激光抛光 离子束抛光 CVD金刚石 粗糙度
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基于聚焦离子束切割制样的热镀锌汽车钢板漏镀缺陷结构表征与成因分析
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作者 韦浪浪 田秀刚 +4 位作者 梁健 苗斌 杨峰 李扬 郑士建 《材料导报》 北大核心 2025年第4期172-178,共7页
漏镀缺陷易在先进高强汽车钢板的热镀锌过程中形成。一般认为合金元素的偏聚是几十到几百微米漏镀缺陷形成的原因,这些缺陷可以通过金相显微镜和SEM进行较好的表征分析以确定其形成原因。但是,针对几微米的针孔漏镀以及存在其他附生组... 漏镀缺陷易在先进高强汽车钢板的热镀锌过程中形成。一般认为合金元素的偏聚是几十到几百微米漏镀缺陷形成的原因,这些缺陷可以通过金相显微镜和SEM进行较好的表征分析以确定其形成原因。但是,针对几微米的针孔漏镀以及存在其他附生组织的漏镀缺陷,传统平面样和截面样的观察方法无法精细表征,对其形成机制的认知尚有不足。本研究针对广泛应用于汽车板的热镀锌780 MPa级双相钢,通过聚焦离子束切割技术对漏镀缺陷进行切割,制备了针对微米尺度漏镀缺陷的截面样品,并利用TEM对漏镀缺陷的结构及成分进行了表征。所得结果揭示了780 MPa级双相钢中存在的两种漏镀缺陷及其不同于一般认知的形成机制:第一种漏镀缺陷的形成是由于镀锌前钢基板表面存在坑状缺陷,这种漏镀缺陷内界面层物相和成分与未漏镀区域并无较大差异;第二种漏镀缺陷的形成是由于镀锌前钢基板表面存在铁颗粒,在镀锌过程中影响了正常的镀锌反应,这种漏镀缺陷内存在疏松的附生组织。为减少780 MPa级双相钢以及其他镀锌先进高强汽车钢板镀锌层中的这两种微米级漏镀缺陷,需要在钢板轧制阶段重点关注并减少表面坑状缺陷,并去除表面的多余铁颗粒。 展开更多
关键词 热镀锌 双相钢 聚焦离子束切割 透射电镜 漏镀缺陷结构
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离子液体离子源束流粒子模拟及束流调控
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作者 黄成金 林建辉 +3 位作者 张红平 屈曦 周沧涛 李牧 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第1期124-133,共10页
离子液体离子源可以提供种类丰富的大质量离子,在离子推力器等方面有重要应用。为了获得离子液体离子源束流品质参数并有效调控束流品质,使用粒子方法模拟了离子液体离子源束流加速过程,研究了束电流、加速电压和发射锥-引出电极轴向间... 离子液体离子源可以提供种类丰富的大质量离子,在离子推力器等方面有重要应用。为了获得离子液体离子源束流品质参数并有效调控束流品质,使用粒子方法模拟了离子液体离子源束流加速过程,研究了束电流、加速电压和发射锥-引出电极轴向间距等三个常用操作条件对束流发射度和Twiss参数的影响。研究表明:束流的归一化发射度随束电流的降低、发射锥-引出电极轴向间距的减小和加速电压的升高而降低。加速过程会造成动能分布展宽,束电流和加速电压对加速效率没有明显影响,而增加发射锥-引出电极轴向间距可以提高加速效率。进一步以加速过程模拟得到的束流参数集为输入,模拟了厘米级空间尺度束流的调控。研究表明通过一组三电极静电透镜,可以有效调控束流的发散、速度分布和比冲性能,而不增加对现有离子液体电推力器电源配置的要求。 展开更多
关键词 离子液体离子源 束流调控 推力器 发射度 粒子模拟
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VIISta HCS离子注入机在离子束优化与检测期间的金属污染探究及改善
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作者 李天清 《电子与封装》 2025年第2期74-78,共5页
针对半导体行业所面临的金属污染问题,VIISta HCS离子注入机虽已具备若干成熟的改进措施,然而在先进制程对离子注入工艺金属纯净度要求日益严格的当下,迫切需要明确该机型金属污染的其他潜在原因。该机型在进行离子束优化与检测的过程中... 针对半导体行业所面临的金属污染问题,VIISta HCS离子注入机虽已具备若干成熟的改进措施,然而在先进制程对离子注入工艺金属纯净度要求日益严格的当下,迫切需要明确该机型金属污染的其他潜在原因。该机型在进行离子束优化与检测的过程中,设备会进行气流、电压、电流以及其他硬件参数的调整。这些调整可能对机台的金属析出产生影响,从而导致污染。经验证,设备在对离子束参数进行检查后,注入的硅片中金属铝的含量有所上升。针对铝含量增加的问题进行了理论分析和实验验证。结果表明,通过多次手动移动图形法拉第杯,可以有效促进铝元素的提前析出。通过使用特定程序的挡片来执行离子束通道清洁作业,成功实现了铝洁净度34%的提升,显著缓解了在离子束参数检查过程中铝含量变差的问题,提高了工艺稳定性。 展开更多
关键词 离子注入 离子束 金属污染 法拉第杯
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束流剖面探测器多通道微电流数字化读出系统设计
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作者 张惊蛰 刘美洋 +3 位作者 赵兴荣 肖金凤 张博 王小睿 《电子科技大学学报》 北大核心 2025年第2期174-183,共10页
针对兰州重离子治癌装置束流诊断系统中束流剖面探测器分条电离室,研制了一套多通道微电流数字化读出系统,包括数据采集电路和上位机软件。数据采集电路基于电流数字转换芯片ADAS1128设计,具有256路模拟输入通道,接收分条电离室探测器... 针对兰州重离子治癌装置束流诊断系统中束流剖面探测器分条电离室,研制了一套多通道微电流数字化读出系统,包括数据采集电路和上位机软件。数据采集电路基于电流数字转换芯片ADAS1128设计,具有256路模拟输入通道,接收分条电离室探测器输出的微电流信号并将其转化为数字信号。采集数据通过FPGA处理后,由千兆以太网传输到上位机,上位机软件接收数据并进行存储、处理和显示。数据采集电路体积小,尺寸仅为14 cm×12 cm,便于和分条电离室探测器集成安装。通过测试,在43.5~691.25 nA工作范围内,通道噪声最大为3.8 nA,非线性误差小于0.3%,系统单通道最大功耗约为13 mW。系统经过长时间运行稳定可靠,满足分条电离室对数据采集系统高精度、高集成度和低功耗的需求。 展开更多
关键词 重离子治癌 束流诊断 数据采集 电流数字转换 FPGA
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高能束表面改性技术在航空领域的应用 被引量:2
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作者 陈军 李伟 郝胜智 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2024年第4期32-43,共12页
高能束表面改性适用于各种金属和合金,能够显著提升材料表面硬度、耐磨、耐蚀等性能指标,是航空部件实现性能提升的有效手段之一。本文总结了6种高能束表面改性技术的基本原理、设备构成和改性应用,其中激光相变硬化通过马氏体相变强化... 高能束表面改性适用于各种金属和合金,能够显著提升材料表面硬度、耐磨、耐蚀等性能指标,是航空部件实现性能提升的有效手段之一。本文总结了6种高能束表面改性技术的基本原理、设备构成和改性应用,其中激光相变硬化通过马氏体相变强化金属材料表面;激光熔覆通过选择不同粉末实现表面修复和表面性能提升,重点在于控制裂纹缺陷;激光冲击强化可有效解决航空发动机部件高周疲劳断裂问题;强流脉冲电子束和强流脉冲离子束一方面需要提高设备的性能和运行稳定性,另一方面要针对航空部件应用开展深入研究;而离子束辅助沉积则可以通过制备固体润滑涂层实现对微动磨损的有效防护。最后,提出对高能束表面改性机理深入研究、发展专业化智能化装备和实现多种束源复合与集成的发展方向。 展开更多
关键词 表面改性 激光相变硬化 激光熔覆 激光冲击强化 强流脉冲电子束 强流脉冲离子束 离子束辅助沉积
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碲镉汞红外探测器离子束刻蚀研究
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作者 宁提 何斌 +1 位作者 刘静 徐港 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2024年第9期1410-1416,共7页
电极成型技术是红外焦平面探测器的重要组成部分,离子束刻蚀技术由于具有高各向异性和高分辨率等诸多优点,适用于制备低损伤、高均匀性以及可生产性的电极体系。本文采用离子束刻蚀制备了平面型、台面型器件的电极结构,通过FIB和SEM表... 电极成型技术是红外焦平面探测器的重要组成部分,离子束刻蚀技术由于具有高各向异性和高分辨率等诸多优点,适用于制备低损伤、高均匀性以及可生产性的电极体系。本文采用离子束刻蚀制备了平面型、台面型器件的电极结构,通过FIB和SEM表征了不同刻蚀条件下的电极形貌和结构,研究了不同刻蚀角度、能量以及热处理对碲镉汞红外探测器的影响。结果表明,离子束刻蚀技术具有侧边平滑、均匀性高、稳定性强以及工艺重复性好等诸多优点。另外,离子束刻蚀可以实现台面结器件的电极隔离,但台面侧壁存在一定金属电极残留,需要进一步优化台面形貌和刻蚀角度。在热处理对刻蚀的影响上,低能量刻蚀形成的晶格损伤,经过高温可以修复;高能量刻蚀将同时造成晶格损伤和电学损伤,热处理只能一定程度上改善pn结性能,电学损伤将在刻蚀后表面形成严重的漏电效应,降低了探测器的品质因子R_(0)A。 展开更多
关键词 碲镉汞 离子束刻蚀 电极接触 热处理
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二维纳米栅格结构的聚焦离子束制备工艺
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作者 周莹 薛民杰 +1 位作者 郝玉红 陈永康 《上海计量测试》 2024年第6期15-18,共4页
采用聚焦离子束技术,制备了三个500 nm规格的二维纳米栅格结构样本。研究基底材料的再沉积、离子束在基底材料中的扩散、设备的机械误差等影响因素,优化了二维纳米栅格结构的聚焦离子束制备工艺。结果表明,三个二维纳米栅格结构x、y方... 采用聚焦离子束技术,制备了三个500 nm规格的二维纳米栅格结构样本。研究基底材料的再沉积、离子束在基底材料中的扩散、设备的机械误差等影响因素,优化了二维纳米栅格结构的聚焦离子束制备工艺。结果表明,三个二维纳米栅格结构x、y方向的实际尺寸与设计尺寸、三个样本之间对应的栅格周期尺寸具有高度的一致性,误差在±0.3%之内。该研究成果为纳米长度标准物质的研制、不同长度二维纳米栅格结构及其他复杂结构的FIB精密加工提供了重要的参考。 展开更多
关键词 二维纳米栅格 聚焦离子束 纳米尺度 再沉积 离子束束流
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长脉冲高功率负离子源实验平台量热靶研制
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作者 周红霞 万银祥 +3 位作者 周博文 余珮炫 唐珮钦 魏会领 《南方能源建设》 2024年第3期81-86,共6页
[目的]高能、强流、长脉冲中性束负离子源技术是磁约束聚变堆等离子体达到燃烧条件的核心技术之一。为满足长脉冲高功率负离子源实验平台200 kV/20 A参数下的束诊断需求,研制了用于截获负离子束或中性束、诊断两种束功率密度分布和束发... [目的]高能、强流、长脉冲中性束负离子源技术是磁约束聚变堆等离子体达到燃烧条件的核心技术之一。为满足长脉冲高功率负离子源实验平台200 kV/20 A参数下的束诊断需求,研制了用于截获负离子束或中性束、诊断两种束功率密度分布和束发散角以及负离子的中性化效率等性能参数的量热靶。[方法]根据现有的实验平台真空室结构和引出电极尺寸,利用matlab程序获得了该参数下,束发散角为1°时的负离子束在量热靶前端处的功率密度分布和束斑尺寸,进而设计了V字形靶板的量热靶物理结构;在此基础上采用Workbench软件对无氧铜V字形靶板结构进行满功率运行状态下的热负荷模拟计算,获得了水流量为80 m~3/h条件下的量热靶长脉冲运行时的温度分布,最高温度为610℃。[结果]根据模拟计算结果,结合实验平台工程结构和诊断需求,完成了量热靶的工程设计。[结论]量热靶采用磁流体真空密封,实现V字形靶板开合,靶板背面布置了热电偶阵列实时监测靶板温度。量热靶工程结构紧凑,安装尺寸能够兼容离子束流诊断真空室和中性束流诊断真空室,满足诊断需求,能够长脉冲安全运行。 展开更多
关键词 负离子源 中性束 量热靶 热负荷 核聚变
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混合基板表面前处理工艺研究
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作者 李浩 王济乾 +2 位作者 高浩 张伟强 崔凯 《电子机械工程》 2024年第6期56-59,64,共5页
基于氮化铝高温共烧陶瓷(High Temperature Co-fired Ceramics,HTCC)厚薄膜混合基板的结构特点和工艺流程,通过探究分析混合基板表面研磨抛光后的微观状态,文中揭示了抛光后基板表面富氮疏松层的存在及附着力下降的机理,研究和优化了氮... 基于氮化铝高温共烧陶瓷(High Temperature Co-fired Ceramics,HTCC)厚薄膜混合基板的结构特点和工艺流程,通过探究分析混合基板表面研磨抛光后的微观状态,文中揭示了抛光后基板表面富氮疏松层的存在及附着力下降的机理,研究和优化了氮化铝HTCC厚薄膜混合基板制造工艺,创新性地在前处理工艺中增加离子束刻蚀处理,从而有效消除了基板表面抛光引入的疏松层和表面残留的有机物污染,为表面薄膜布线提供了良好的界面。经过优化前处理工艺的基板表面导体附着力得到大幅提升,制作出的混合基板全部通过3M610附着力胶带考核,表面导体焊接拉脱附着力超过79.43 N,有效解决了混合基板工程化应用过程出现的导体膜层脱膜问题。 展开更多
关键词 厚薄膜 混合基板 离子束刻蚀 附着力
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