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化学镀镍诱发过程催化活性的电化学本质 |
胡茂圃
王宝珏
沈卓身
潘金星
沈荣富
黄子勋
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《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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1998 |
13
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2
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化学镀铜过程混合电位本质的研究 |
谷新
胡光辉
王周成
林昌健
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《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
20
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3
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外电场对诱发化学镀镍过程的影响 |
王宝珏
沈卓身
胡茂圃
潘金星
黄子勋
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《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
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1996 |
9
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4
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镁合金表面化学镀镍前处理工艺的研究进展 |
宿辉
张春波
王作凯
丁大林
王文静
许天月
刘辉
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2017 |
12
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