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外电场对诱发化学镀镍过程的影响 被引量:9
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作者 王宝珏 沈卓身 +2 位作者 胡茂圃 潘金星 黄子勋 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 1996年第4期33-36,共4页
采用计算机采样等实验手段,研究了外电场在诱发非催化活性金属铜表面产生化学镀镍过程中的作用。研究结果表明,当铜基体电位等于或低于临界诱发电位时才有可能引发化学镀自催化沉积。试样的表面状况、溶液条件和通电电流密度都对临界... 采用计算机采样等实验手段,研究了外电场在诱发非催化活性金属铜表面产生化学镀镍过程中的作用。研究结果表明,当铜基体电位等于或低于临界诱发电位时才有可能引发化学镀自催化沉积。试样的表面状况、溶液条件和通电电流密度都对临界诱发时间有影响。铜基体达到临界诱发电位-0.520V(vsSCE)和临界诱发时间是引发化学镀镍成功的必要和充分条件。计算表明,新生的镍原子如果以单原子层覆盖铜表面。 展开更多
关键词 电场诱发 化学镀镍 诱发过程 外电场
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化学镀镍诱发过程催化活性的电化学本质 被引量:13
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作者 胡茂圃 王宝珏 +3 位作者 沈卓身 潘金星 沈荣富 黄子勋 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期673-677,共5页
XPS电子能谱技术的测定表明,化学镀诱发伊始,先只有镍的沉积,然后才有NiP的共沉积出现。结合铜基试样在所设计的4种溶液体系中动电位扫描伏安曲线的结果,初步显示,对化学镀镍具有催化特性的金属,从电化学本质上来说,就... XPS电子能谱技术的测定表明,化学镀诱发伊始,先只有镍的沉积,然后才有NiP的共沉积出现。结合铜基试样在所设计的4种溶液体系中动电位扫描伏安曲线的结果,初步显示,对化学镀镍具有催化特性的金属,从电化学本质上来说,就是一种自身能提供到达或超过镍的析出电位的金属。通过电极电位的理论计算及混合电位的测定,说明了化学镀镍首先是镍析出。 展开更多
关键词 化学镀镍 诱发过程 催化活性 电化学本质
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