期刊文献+
共找到10篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Dynamic heating and thermal destruction conditions of quartz particles in polydisperse plasma flow of RF-ICP torch system
1
作者 L MIAO Yu M GRISHIN 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第11期114-126,共13页
Numerical simulation of turbulent mixing process of polydisperse quartz particle(particle size distribution in the range of 0.1-0.4 mm)flow with Ar and Ar-H2 plasma generated by radio frequency inductively coupled pla... Numerical simulation of turbulent mixing process of polydisperse quartz particle(particle size distribution in the range of 0.1-0.4 mm)flow with Ar and Ar-H2 plasma generated by radio frequency inductively coupled plasma(RF-ICP)torch has been made.An approximate two-stage approach has been proposed to calculate the spatial-temporal distributions of temperature and resulting thermal stress in quartz particles during dynamic heating in polydisperse plasma flow.The influence of working gas compositions,particle size distributions,injection angle and flow rate of carrier gas on the thermal destruction conditions of quartz particles has been determined under different particle feed rates.It is found that all the solid quartz particles(0.1-0.4 mm)could be thermal destructed without overheating in RF-ICP torch system,when the hydrogen volume fraction in working gases is more than 1.5%-2%and particle feed rate is in a certain range.The values of the maximum and minimum feed rates have been determined under different hydrogen volume fractions.An optimal particle injection angle and flow rate of carrier gas is found around 50°-60°and 160-220 slpm,under which the value of maximum equivalent thermal stress in quartz particles is highest. 展开更多
关键词 rf-icp torch dynamic heating thermal destruction hydrogen volume fraction optimal injection conditions
在线阅读 下载PDF
基于ICP的Ar等离子体干法刻蚀Ti/Ni/Ag薄膜
2
作者 黄梦茹 卢林红 +2 位作者 郭丰杰 马奎 杨发顺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第10期893-898,共6页
在电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺中,选择合适的刻蚀条件对Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀至关重要。使用氩气(Ar)作为刻蚀气体,研究了射频偏压功率、气体体积流量、腔体压强、刻蚀时间等多个参数对功率芯片背面Ti/Ni/Ag薄膜刻蚀深度的影响,并优化... 在电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺中,选择合适的刻蚀条件对Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀至关重要。使用氩气(Ar)作为刻蚀气体,研究了射频偏压功率、气体体积流量、腔体压强、刻蚀时间等多个参数对功率芯片背面Ti/Ni/Ag薄膜刻蚀深度的影响,并优化刻蚀工艺参数。实验结果表明,调节射频偏压功率和Ar体积流量可以显著影响刻蚀速率,进而对薄膜的微结构进行有效调控。通过优化工艺参数,在射频偏压功率300 W、Ar体积流量40 cm^(3)/min、腔体压强1.2 Pa、刻蚀时间50 min下,芯片Ti/Ni/Ag薄膜的刻蚀深度达到283.25μm,有效提升了刻蚀效率和刻蚀精度。 展开更多
关键词 Ti/Ni/Ag薄膜 电感耦合等离子体(ICP) 刻蚀深度 AR 射频偏压功率
在线阅读 下载PDF
ICP源MOSFET射频振荡器 被引量:5
3
作者 刘平 张悦英 王洋 《现代电子技术》 2005年第24期1-2,4,共3页
介绍了ICP(感应耦合等离子体)C类射频振荡器的设计和调试结果。低温等离子体的应用已经非常广泛。以感应耦合方式将射频能量送入中性气体中激发等离子体,已经成为重要的等离子体源类型之一。传统的功率射频发生器大多使用电子管,体积大... 介绍了ICP(感应耦合等离子体)C类射频振荡器的设计和调试结果。低温等离子体的应用已经非常广泛。以感应耦合方式将射频能量送入中性气体中激发等离子体,已经成为重要的等离子体源类型之一。传统的功率射频发生器大多使用电子管,体积大,也比较笨重。在射频发生器和等离子体装置之间需要设置射频传输线和匹配箱。以M O SFET代替传统的电子管作为有源器件组成的振荡器,体积很小,可以与等离子体源直接连接,省去了射频传输线和传输线终端的匹配箱。振荡器的频率为13.56 MH z,输出功率为200 W。试验结果达到了设计要求。 展开更多
关键词 ICP MOSFET 射频振荡器 等离子体
在线阅读 下载PDF
综合核心处理机的设计与实现 被引量:1
4
作者 段求辉 《电讯技术》 北大核心 2013年第11期1512-1517,共6页
针对机载传感器系统的数字计算应用,分析了综合核心处理机(ICP)的架构特征及其设计时的考量因素,完成了软硬件架构及总线互连设计。在保证ICP硬件通用化、架构开放性及功能可重构的前提下,通过合理地设计模块内部电路、软件层次、网络... 针对机载传感器系统的数字计算应用,分析了综合核心处理机(ICP)的架构特征及其设计时的考量因素,完成了软硬件架构及总线互连设计。在保证ICP硬件通用化、架构开放性及功能可重构的前提下,通过合理地设计模块内部电路、软件层次、网络拓扑及传输机制,有效降低了通信代价,从而提高系统的运算性能。这些方法和技术已被证明是可行的,并在实际的工程中成功应用。 展开更多
关键词 航电系统 机载射频传感器 综合核心处理机 硬件架构 软件架构 光纤通道
在线阅读 下载PDF
ICP刻蚀GaN侧壁倾角以及刻蚀速率的控制 被引量:4
5
作者 王玮 蔡勇 +2 位作者 张宝顺 黄伟 李海鸥 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期219-224,共6页
深入研究了Cl2基气体电感耦合等离子体(ICP)刻蚀系统对于GaN材料侧壁倾角的控制以及刻蚀速率的影响。通过调整ICP离子源功率、射频功率、气体流量、腔室压力等参数,经实验验证,实现了从23°~83°侧壁倾角的大范围工艺控制,为Ga... 深入研究了Cl2基气体电感耦合等离子体(ICP)刻蚀系统对于GaN材料侧壁倾角的控制以及刻蚀速率的影响。通过调整ICP离子源功率、射频功率、气体流量、腔室压力等参数,经实验验证,实现了从23°~83°侧壁倾角的大范围工艺控制,为GaN基器件工艺提供了有益指导。 展开更多
关键词 电感耦合等离子体 刻蚀 氮化镓 侧壁倾角 射频功率
在线阅读 下载PDF
不同有机溶剂介质对电感耦合等离子体质谱法射频源的匹配特性
6
作者 程君琪 李青 汪正 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2019年第9期1066-1069,共4页
以27.12MHz的自激式全固态射频源为研究对象,选取不同含量的乙醇、二甲苯和煤油为有机介质,用配备该射频源的电感耦合等离子体质谱仪考察有机介质中Al、Ba、Ce、Cu、La、Pb、Tm、Y、Zn等金属元素的信号强度、短期稳定性等参数,研究有机... 以27.12MHz的自激式全固态射频源为研究对象,选取不同含量的乙醇、二甲苯和煤油为有机介质,用配备该射频源的电感耦合等离子体质谱仪考察有机介质中Al、Ba、Ce、Cu、La、Pb、Tm、Y、Zn等金属元素的信号强度、短期稳定性等参数,研究有机介质下射频源的匹配特性。结果表明,方法能够实现乙醇、50%(体积分数)二甲苯溶液和20%(体积分数)煤油溶液作溶剂时的直接进样,表明该射频源在上述有机介质中匹配良好,可使等离子体稳定不淬灭。 展开更多
关键词 有机介质 电感耦合等离子体质谱法 射频源
在线阅读 下载PDF
高频感应等离子体流动模型与微型电推进器流场特性分析 被引量:1
7
作者 李亦非 付宸聪 +2 位作者 刘伟 蔡国飙 王伟宗 《气体物理》 2021年第2期9-18,共10页
微型射频离子推力器具有结构简单、工作寿命长、推力动态范围大、性能调节响应灵敏等特点,是国际微电推进领域的研究热点之一.射频离子推力器电离室内的感性耦合放电等离子体特性和推力器的性能密切相关.为此,文章建立了低气压、小尺寸... 微型射频离子推力器具有结构简单、工作寿命长、推力动态范围大、性能调节响应灵敏等特点,是国际微电推进领域的研究热点之一.射频离子推力器电离室内的感性耦合放电等离子体特性和推力器的性能密切相关.为此,文章建立了低气压、小尺寸微型射频离子推力器电离室内感性耦合等离子体流体模型,开展了电磁场、流场、化学反应浓度场的多物理场耦合仿真分析,并研究了等离子体放电特征参数随推进剂工质气压、放电吸收功率、射频频率以及线圈匝数等因素的变化规律.结果表明,推进剂工质气压、放电吸收功率是调节微型射频离子推力器性能的主要因素,该研究为综合调控微型射频离子推力器的工作性能奠定了良好的基础. 展开更多
关键词 微型射频离子推力器 感性耦合放电 流体模型 多物理场耦合 放电参数
在线阅读 下载PDF
Balmer H_α,H_β and H_γ Spectral Lines Intensities in High-Power RF Hydrogen Plasmas 被引量:1
8
作者 王松柏 雷光玖 +1 位作者 刘东平 杨思泽 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第3期219-222,共4页
Hα(Balmer-alpha), Hβ (Balmer-beta) and Hγ (Balmer-gamma) spectral line inten- sities in atomic hydrogen plasma are investigated by using a high-power RF source. The intensities of the Hα, Hβ and Hγ spectra... Hα(Balmer-alpha), Hβ (Balmer-beta) and Hγ (Balmer-gamma) spectral line inten- sities in atomic hydrogen plasma are investigated by using a high-power RF source. The intensities of the Hα, Hβ and Hγ spectral lines are detected by increasing the input power (0-6 kW) of ICPs (inductively coupled plasmas). With the increase of net input power, the intensity of Hα im- proves rapidly (0-2 kW), and then reaches its dynamic equilibrium; the intensities of Hβ can be divided into three processes: obvious increase (0-2 kW), rapid increase (2-4 kW), almost constant (4-6 kW); while the intensities of Hγ increase very slowly. The energy levels of the excited hydro- gen atoms and the splitting energy levels produced by an obvious Stark effect play an important role in the results. 展开更多
关键词 Keywords: high-power RF (radio frequency) source ICPs (inductively coupled plasmas) and spectral lines intensity Boltzmann distribution law Stark effect transitionprobability
在线阅读 下载PDF
Microstructure and Mechanical Properties of CrN Films Deposited by Inductively Coupled Plasma Enhanced Radio Frequency Magnetron Sputtering
9
作者 刘峰 孟月东 +1 位作者 任兆杏 舒兴胜 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第3期340-343,共4页
CrN films have been synthesized on Si(100) wafer by inductively coupled plasma (ICP)-enhanced radio frequency (RF) magnetron sputtering. The effects of ICP power on microstructure, crystal orientation, nanohardn... CrN films have been synthesized on Si(100) wafer by inductively coupled plasma (ICP)-enhanced radio frequency (RF) magnetron sputtering. The effects of ICP power on microstructure, crystal orientation, nanohardness and stress of the CrN films have been investigated. With the increase of ICP power, the current density at substrate increases and the films exhibit denser structure, while the DC self-bias of target and the deposition rate of films decrease. The films change from crystal structure to amorphous structure with the increase of ICP power. The measured nanohardness and the compressive stress of films reach the topmost at ICP power of 150 W and 200 W, respectively. The mechanical properties of films show strong dependence on the crystalline structure and the density influenced by the ICP power. 展开更多
关键词 inductively coupled plasma (ICP) RF magnetron sputtering CRN MICROSTRUCTURE nanohardness STRESS
在线阅读 下载PDF
Plasma characteristics of direct current enhanced cylindrical inductively coupled plasma source
10
作者 Yue HUA Jian SONG +1 位作者 Zeyu HAO Chunsheng REN 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第6期44-51,共8页
Experimental results of a direct current enhanced inductively coupled plasma(DCE-ICP) source which consists of a typical cylindrical ICP source and a plate-to-grid DC electrode are reported.With the use of this new ... Experimental results of a direct current enhanced inductively coupled plasma(DCE-ICP) source which consists of a typical cylindrical ICP source and a plate-to-grid DC electrode are reported.With the use of this new source,the plasma characteristic parameters,namely,electron density,electron temperature and plasma uniformity,are measured by Langmuir floating double probe.It is found that DC discharge enhances the electron density and decreases the electron temperature,dramatically.Moreover,the plasma uniformity is obviously improved with the operation of DC and radio frequency(RF) hybrid discharge.Furthermore,the nonlinear enhancement effect of electron density with DC?+?RF hybrid discharge is confirmed.The presented observation indicates that the DCE-ICP source provides an effective method to obtain high-density uniform plasma,which is desirable for practical industrial applications. 展开更多
关键词 CYLINDRICAL ICP DC+RF hybrid discharge nonlinear enhancement effect
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部