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电流脉冲频率对AZ31B镁合金MAO/Ni-P复合膜层的微观组织及耐蚀性能的影响
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作者 卫嘉莉 刘飞 +2 位作者 袁德勇 刘晓鹤 董帅 《表面技术》 北大核心 2025年第15期120-133,共14页
目的探究不同电流脉冲频率对AZ31B镁合金MAO/Ni-P复合膜层的微观组织及其耐蚀性能的影响。方法使用0.5、10、20 kHz不同电流脉冲频率制备MAO膜层,随后在MAO膜层上直接进行化学镀镍处理,采用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱分析(EDS)... 目的探究不同电流脉冲频率对AZ31B镁合金MAO/Ni-P复合膜层的微观组织及其耐蚀性能的影响。方法使用0.5、10、20 kHz不同电流脉冲频率制备MAO膜层,随后在MAO膜层上直接进行化学镀镍处理,采用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱分析(EDS)及X射线衍射(XRD)等技术,表征了MAO及MAO/Ni-P膜层的表面/截面微观形貌和对应的元素组成分布,通过形貌特征分析镀镍层的形核机制,并采用动电位极化曲线(PD)和电化学阻抗谱(EIS)评估了膜层的耐蚀性能。结果随着频率的增加,MAO膜层上的微孔尺寸逐渐减小,致密度增加,当电流脉冲频率为20 kHz时MAO膜层耐蚀性最好,其腐蚀电流密度为3.51×10^(−7)A/cm^(2)。在不同电流脉冲频率的MAO膜层上进行化学镀镍后,0.5 kHz的MAO/Ni-P膜层的形态最好,其Ni-P膜层厚度为18.5μm。随着MAO电流脉冲频率的升高,后续镀镍层的厚度逐渐降低,20 kHz的镀层厚度仅为8.2μm。电化学测试结果表明,0.5 kHz复合膜层的耐蚀性最好,腐蚀电流密度最低,比单一MAO膜层低1个数量级,为6.53×10^(−8)A/cm^(2)。结论MAO/Ni-P复合膜层的耐蚀性整体高于MAO膜层。提高电流脉冲频率增强了MAO膜层的耐腐蚀性能,但不利于化学镀镍层的形成。0.5 kHz的MAO膜层耐蚀性较差,但其MAO/Ni-P复合膜层的耐蚀性最好。 展开更多
关键词 镁合金 微弧氧化 电流脉冲频率 化学镀镍 MAO/ni-P复合膜层 耐蚀性
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化学镀Ni-Cu-P镀液组成研究 被引量:9
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作者 刘波 黄燕滨 +3 位作者 张平 刘德刚 许晓丽 孟昭福 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2004年第6期36-39,共4页
应用正交设计方法,研究Ni–Cu–P化学镀液主要成分对化学沉积Ni–Cu–P合金镀层性能的影响。对Ni–Cu–P镀液体系进行了优化,获得了外观平滑、光亮和耐蚀性能好的Ni–Cu–P三元合金镀层。复合络合剂的加入有效抑制了铜的优先析出,获得... 应用正交设计方法,研究Ni–Cu–P化学镀液主要成分对化学沉积Ni–Cu–P合金镀层性能的影响。对Ni–Cu–P镀液体系进行了优化,获得了外观平滑、光亮和耐蚀性能好的Ni–Cu–P三元合金镀层。复合络合剂的加入有效抑制了铜的优先析出,获得了具有优异结合力的镀层。经X射线衍射分析可知,当镀液中硫酸铜的量小于0.5g/L时所得镀层为非晶态结构。 展开更多
关键词 化学镀 ni-cu-P 耐蚀性 结合力
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化学沉积Ni-P及Ni-Cu-P合金镀层晶化行为的比较 被引量:18
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作者 于会生 罗守福 王永瑞 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期19-23,共5页
利用 DSC和 XRD对化学沉积 Ni- P及 Ni- Cu- P合金镀层的晶化行为进行了比较研究。结果表明 :低磷 Ni- P镀层直接转变为稳定相 Ni3P,而低磷 (高铜 ) Ni- Cu- P镀层则经生成亚稳中间相 Ni5P2 后再向稳定相 Ni3P转变 ;高磷非晶态 Ni- 12 .... 利用 DSC和 XRD对化学沉积 Ni- P及 Ni- Cu- P合金镀层的晶化行为进行了比较研究。结果表明 :低磷 Ni- P镀层直接转变为稳定相 Ni3P,而低磷 (高铜 ) Ni- Cu- P镀层则经生成亚稳中间相 Ni5P2 后再向稳定相 Ni3P转变 ;高磷非晶态 Ni- 12 .1% P(质量分数 ,下同 )和 Ni- 17.96 % Cu- 9.2 9% P合金镀层均先形成亚稳中间相 Ni5P2 和 Ni1 2 P5后 ,再转变为稳定相 Ni3P。但 Ni- Cu- P合金镀层转变为亚稳相的温度比 Ni- P镀层的高。 展开更多
关键词 合金镀层 晶化行为 化学沉积 ni-P ni-cu-P 钢基体
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化学镀Ni-Cu-P镀层在3种腐蚀介质中冲蚀行为的研究 被引量:6
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作者 何素珍 黄新民 +3 位作者 郑华明 李鹏 林志平 单传丽 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期362-367,共6页
通过改变冲蚀介质的种类与浓度、冲蚀介质流速、冲蚀时间、冲蚀攻角等,研究了化学镀Ni-Cu-P合金镀层的耐冲蚀性能.结果表明:在(wt%)2%的氢氧化钠介质中,化学镀Ni-Cu-P合金镀层耐冲蚀性能最佳;在稀盐酸中冲蚀有以下规律:随着盐酸浓度的增... 通过改变冲蚀介质的种类与浓度、冲蚀介质流速、冲蚀时间、冲蚀攻角等,研究了化学镀Ni-Cu-P合金镀层的耐冲蚀性能.结果表明:在(wt%)2%的氢氧化钠介质中,化学镀Ni-Cu-P合金镀层耐冲蚀性能最佳;在稀盐酸中冲蚀有以下规律:随着盐酸浓度的增加,冲蚀失重逐渐增加;随着冲蚀速度的增大,试样的冲蚀失重逐渐增加,二者之间符合指数关系,冲蚀失重的变化有一临界液体流速;在攻角为45°时冲蚀失重最大.相比化学镀Ni-P镀层,化学镀N i-Cu-P镀层具有更好的耐冲蚀性能. 展开更多
关键词 冲蚀 化学镀 nicu—P 镀层
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Cu+Ni复合镀碳纤维增强堇青石基复合材料的研究 被引量:9
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作者 穆柏春 刘秉余 +3 位作者 陈扬 李强 曹必刚 杨国强 《中国陶瓷》 CAS CSCD 2001年第5期4-6,38,共4页
通过化学镀方法 ,在碳纤维表面分别镀上Ni和Cu +Ni镀层 ,以这种表面改性碳纤维与堇青石陶瓷复合 ,制备表面改性碳纤维增强堇青石基复合材料 ;研究碳纤维、镀镍碳纤维、铜镍复合镀碳纤维的含量对复合材料的抗弯强度、尺寸变化率、密度和... 通过化学镀方法 ,在碳纤维表面分别镀上Ni和Cu +Ni镀层 ,以这种表面改性碳纤维与堇青石陶瓷复合 ,制备表面改性碳纤维增强堇青石基复合材料 ;研究碳纤维、镀镍碳纤维、铜镍复合镀碳纤维的含量对复合材料的抗弯强度、尺寸变化率、密度和孔隙率等的影响规律。结果表明 ,碳纤维可以显著地提高材料的性能 ,表面改性碳纤维可以进一步提高材料性能 ,尤其是铜镍复合镀碳纤维的增强效果更好 ,其抗弯强度比基体的抗弯强度提高 3 5倍 。 展开更多
关键词 化学镀 碳纤维增强 堇青石 复合材料 复合镀 陶瓷 原料
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NdFeB磁性材料化学镀Ni-Cu-P合金沉积过程分析 被引量:11
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作者 王憨鹰 陈焕铭 +1 位作者 徐靖 孙安 《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第6期12-13,17,共3页
通过SEM观察Ni-Cu-P合金沉积过程的形貌,提出了Ni-Cu-P非晶态合金镀层形核与长大过程的沉积模型。结果表明:初期沉积过程具有明显的择优倾向和不均匀性,原子并非以单个原子的形式沉积于基体表面,而是还原后的原子在固-液界面处首先形成... 通过SEM观察Ni-Cu-P合金沉积过程的形貌,提出了Ni-Cu-P非晶态合金镀层形核与长大过程的沉积模型。结果表明:初期沉积过程具有明显的择优倾向和不均匀性,原子并非以单个原子的形式沉积于基体表面,而是还原后的原子在固-液界面处首先形成原子团,然后在基体表面的高能量区域优先沉积,并开始形核且以不规则形态长大;在施镀后期,随着P含量的不断增加,镀层形貌逐渐由不规则形态变为规则胞状形态,直至形成光滑平整的非晶态镀层。 展开更多
关键词 化学镀 nicu—P合金 沉积过程 优先沉积 非晶态镀层
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化学镀Ni-Cu-P合金镀层耐蚀性研究 被引量:8
7
作者 黄燕滨 赵艺伟 +2 位作者 刘波 刘菲菲 孟昭福 《电镀与精饰》 CAS 2007年第3期7-9,17,共4页
采用极化曲线和交流阻抗法,与Ni-P合金镀层对比,研究了化学镀Ni-Cu-P合金镀层在3.5%NaCl水溶液中的电化学行为。极化曲线结果表明,化学镀Ni-Cu-P合金镀层的自腐蚀电流密度(4.037μA/cm2)远远小于Ni-P合金镀层,说明Ni-Cu-P合金镀层的耐... 采用极化曲线和交流阻抗法,与Ni-P合金镀层对比,研究了化学镀Ni-Cu-P合金镀层在3.5%NaCl水溶液中的电化学行为。极化曲线结果表明,化学镀Ni-Cu-P合金镀层的自腐蚀电流密度(4.037μA/cm2)远远小于Ni-P合金镀层,说明Ni-Cu-P合金镀层的耐蚀性能比Ni-P合金镀层好。在交流阻抗谱图中,化学镀Ni-Cu-P合金镀层在整个浸泡过程中仅出现一个时间常数的单容抗弧,镀层电阻不断的增大,表明镀层有钝化膜不断生成。 展开更多
关键词 化学镀 nicu—P合金镀层 耐蚀性 钝化膜
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Cu含量对Ni-Cu-P化学镀层组织结构和性能影响 被引量:5
8
作者 单传丽 黄新民 +2 位作者 吴玉程 张志明 林志平 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1161-1165,共5页
利用化学镀法制备出Ni-Cu-P合金镀层,研究了镀液中CuSO4·5H2O含量对合金镀层沉积速率和成分的影响。通过XRD和SEM表征了不同CuSO4·5H2O质量浓度下Ni-Cu-P合金镀层的组织结构和表面形貌,运用极化曲线评价了合金镀层在质量分数... 利用化学镀法制备出Ni-Cu-P合金镀层,研究了镀液中CuSO4·5H2O含量对合金镀层沉积速率和成分的影响。通过XRD和SEM表征了不同CuSO4·5H2O质量浓度下Ni-Cu-P合金镀层的组织结构和表面形貌,运用极化曲线评价了合金镀层在质量分数为3.5%NaCl溶液中的耐蚀性能。结果表明,随着镀液中CuSO4·5H2O质量浓度的增加,镀层沉积速率和P含量不断下降,Ni-P镀层中P的质量分数为14.98%。当镀液中CuSO4·5H2O质量浓度为1.0 g/L时,P的质量分数为4.21%;镀层中Cu的含量随着镀液中CuSO4·5H2O含量的增加而增加。当添加量为1.0 g/L时,镀层中Cu的质量分数达19.04%;镀层的结晶度随着Cu含量的上升不断增大,Cu的加入使镀层的表面形貌更加光滑;镀层的耐蚀性能随着镀液中CuSO4·5H2O含量的增加先上升后下降,当镀液中CuSO4·5H2O质量浓度为0.4 g/L时,Ni-Cu-P镀层表现出最优的耐蚀性能。 展开更多
关键词 化学镀 ni-cu-P 组织结构 腐蚀
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化学镀Ni-Cu-P合金的工艺及镀层性能研究 被引量:6
9
作者 于光 黎永钧 +1 位作者 张震 陈菊香 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 1994年第4期21-26,共6页
探讨了化学镀Ni-Cu一P合金的镀液组成及工艺条件,并采用X射线衍射和弯曲法,研究了Ni-Cu-P镀层的组织结构和镀层结合力,结果表明,所研究的镀液组成,在适当工艺条件下,能够实现Ni、Cu离子的共沉积,并得到良好质... 探讨了化学镀Ni-Cu一P合金的镀液组成及工艺条件,并采用X射线衍射和弯曲法,研究了Ni-Cu-P镀层的组织结构和镀层结合力,结果表明,所研究的镀液组成,在适当工艺条件下,能够实现Ni、Cu离子的共沉积,并得到良好质量的合金镀层。经400℃热处理,镀层中有和相析出,同时硬度达到最大值。镀态下,该镀层具有良好的结合力,且随镀层中铜含量的增加和热处理温度的提高,镀层结合力能得到进一步改善。 展开更多
关键词 化学镀 镍铜磷合金 镀层 工艺
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镀层Cu含量对Ni-P-Cu镀层性能及电化学行为的影响 被引量:8
10
作者 徐扬 邹勇 栾涛 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期244-248,共5页
通过调整镀液中Cu离子浓度和添加剂成分,得到了具有不同Cu含量的Ni-Cu-P三元镀层。使用SEM、XRD、DSC、电化学测试等设备和手段研究了镀层性能,总结了Cu含量对Ni-Cu-P镀层性能的影响。结果表明,Cu含量越高的镀层具有越小的沉积颗粒和越... 通过调整镀液中Cu离子浓度和添加剂成分,得到了具有不同Cu含量的Ni-Cu-P三元镀层。使用SEM、XRD、DSC、电化学测试等设备和手段研究了镀层性能,总结了Cu含量对Ni-Cu-P镀层性能的影响。结果表明,Cu含量越高的镀层具有越小的沉积颗粒和越致密的镀层结构。Cu元素的加入会降低镀层中P的含量,增加镀层的有序度。极化曲线测试表明,由于镀层结构和化学组成的改变,Cu含量较高的镀层具有更低的孔隙率,更高的耐蚀性。交流阻抗测试证实了该结果,并表明随Cu含量增大,三元镀层的腐蚀行为随之变化。 展开更多
关键词 化学镀 ni-cu-P 热稳定性 极化曲线 交流阻抗
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Ni-Cu-P化学镀工艺及组织结构的研究 被引量:8
11
作者 于会生 罗守福 王永瑞 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期30-33,共4页
研究了 Ni- Cu- P化学镀液主要成分、 PH值、温度以及时间等工艺参数对化学沉积 Ni- Cu- P合金镀层成分及镀速的影响。通过选择适当的镀液成分及工艺参数 ,得到了 Cu含量从 0到 5 6 .18wt%的 Ni- Cu- P合金镀层。利用 EDS和 XRD研究了... 研究了 Ni- Cu- P化学镀液主要成分、 PH值、温度以及时间等工艺参数对化学沉积 Ni- Cu- P合金镀层成分及镀速的影响。通过选择适当的镀液成分及工艺参数 ,得到了 Cu含量从 0到 5 6 .18wt%的 Ni- Cu- P合金镀层。利用 EDS和 XRD研究了镀液中硫酸铜浓度对 Ni- Cu- P合金镀层组织结构的影响。在硫酸铜浓度低于 3g/ L时 ,Ni- Cu- P合金镀层中 P含量高于 7.0 5 wt% 。 展开更多
关键词 化学沉积 工艺 组织结构 镍铜磷合金镀层 化学镀
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Cu对铝基化学镀Ni-Cu-P镀层耐蚀性能的影响 被引量:11
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作者 黄亮 高岩 +1 位作者 郑志军 李浩 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期683-687,共5页
采用直接镀工艺,在铝基体上获得了化学镀N-P、Ni-Cu-P各种结构镀层。用X射线衍射分析了镀层结构;用SEM观察了各种结构镀层的表面形貌;测定了各种结构镀层的镀速和结合力;利用线性极化和阳极极化曲线分析了各种结构镀层的耐蚀性能。结果... 采用直接镀工艺,在铝基体上获得了化学镀N-P、Ni-Cu-P各种结构镀层。用X射线衍射分析了镀层结构;用SEM观察了各种结构镀层的表面形貌;测定了各种结构镀层的镀速和结合力;利用线性极化和阳极极化曲线分析了各种结构镀层的耐蚀性能。结果表明,利用直接化学镀工艺可以在铝基上获得结合力良好的镀层;通过控制络合剂的用量可以得到不同结构和不同铜含量的Ni-Cu-P镀层;当镀层达到一定厚度后,Cu元素可以显著提高镀层的耐蚀性能。 展开更多
关键词 铝基 化学镀 结合力 铜元素 腐蚀性能
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水曲柳单板化学镀Ni-Cu-P制备木质电磁屏蔽复合材料 被引量:7
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作者 惠彬 李国梁 +1 位作者 李坚 王立娟 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期123-127,共5页
以水曲柳单板为基材,利用NaBH4处理后直接化学镀Ni-Cu-P三元合金制备木质电磁屏蔽复合材料。研究了NaBH4浓度、浸渍时间和施镀时间对金属沉积量和表面电阻率的影响。分别用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析了复合材料的表面形貌和组... 以水曲柳单板为基材,利用NaBH4处理后直接化学镀Ni-Cu-P三元合金制备木质电磁屏蔽复合材料。研究了NaBH4浓度、浸渍时间和施镀时间对金属沉积量和表面电阻率的影响。分别用扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析了复合材料的表面形貌和组织结构,用低电阻测定仪和频谱仪测定了复合材料的表面电阻率和电磁屏蔽效能,用直拉法测定了镀层附着强度。结果表明,利用3g/L的NaBH4溶液,前处理8min,施镀时间25min,此条件制备的复合材料的金属沉积量为113g/m2,表面电阻率为318mΩ/cm2。SEM观察发现镀层均匀、连续和致密,镀后木材单板具有显著的金属光泽。XRD分析表明镀层为微晶结构,且镀层与木材结合牢固。在频率为9kHz^1.5GHz范围内,施镀单板的电磁屏蔽效能在55~60dB范围内。 展开更多
关键词 水曲柳单板 NaBH4处理 化学镀nicu—P 复合材料 电磁屏蔽
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芳纶纤维Ni-P/Ni-Cu-P双层化学镀的结构与形貌 被引量:3
14
作者 方东升 孙勇 +2 位作者 段永华 郭中正 樊卓志 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期4003-4009,共7页
采用化学镀技术,实现了芳纶纤维表面化学镀Ni-P/Ni-Cu-P的金属化处理,利用SEM、EDS和XRD分别对芳纶纤维原始样品、粗化后、施镀后及剥落层的表面形貌、镀层的成分和物相进行了分析比较,并对镀层的形成机制及剥落原因进行了分析研究。结... 采用化学镀技术,实现了芳纶纤维表面化学镀Ni-P/Ni-Cu-P的金属化处理,利用SEM、EDS和XRD分别对芳纶纤维原始样品、粗化后、施镀后及剥落层的表面形貌、镀层的成分和物相进行了分析比较,并对镀层的形成机制及剥落原因进行了分析研究。结果表明:经过预处理的芳纶纤维比表面积增大,增加了其亲水性和活性;化学镀Ni-P/Ni-Cu-P后,Ni-P镀层中镍含量降低,磷含量增多,纯镍转化为Ni3P且伴随有少量的铜的出现,整体镀层中Ni、Cu、P的原子比为8.54∶3.66∶5.59,镀层中以纯Cu、Cu3P和Ni3P为主;另外由于镀层中应力分布不均,以及P在Ni-P/Ni-Cu-P相界面的偏聚,削弱了界面的结合强度,使局部拉应力集中,造成了镀层的剥落;且化学镀铜是依靠镍离子的催化作用形成镀层的。 展开更多
关键词 芳纶纤维 化学镀ni-P ni-cu-P 纳米晶 剥落层 催化作用
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NdFeB磁性材料化学镀Ni-Cu-P合金沉积机理研究 被引量:6
15
作者 王憨鹰 陈焕铭 +1 位作者 徐靖 孙安 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2009年第1期50-53,共4页
通过对不同时间序列(0.5、1、10、20、40、60min)镀层的深入研究,提出Ni-Cu-P非晶态合金镀层形核与长大过程的沉积模型,并对不同时间序列非晶态合金镀层的形貌和结构研究表明:在施镀初期,Ni、Cu原子团优先沉积于基体表面能量较高的部位... 通过对不同时间序列(0.5、1、10、20、40、60min)镀层的深入研究,提出Ni-Cu-P非晶态合金镀层形核与长大过程的沉积模型,并对不同时间序列非晶态合金镀层的形貌和结构研究表明:在施镀初期,Ni、Cu原子团优先沉积于基体表面能量较高的部位,并开始形核且以不规则形态长大;在施镀后期,随着P含量的不断增加,镀层形貌逐渐由不规则形态变为规则胞状形态,直至形成光滑平整的非晶态镀层。 展开更多
关键词 化学镀 ni-cu-P合金 沉积过程 优先沉积 非晶态镀层
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化学镀Ni-Cu-P合金工艺及性能研究 被引量:3
16
作者 徐瑞东 郭忠诚 +1 位作者 王军丽 薛方勤 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期45-47,共3页
 研究了化学镀Ni Cu P合金镀液组成及操作条件对镀层厚度及硬度的影响。筛选出了体系的最佳工艺条件,获得了82.391%Ni 10.298%P 5.297%Cu的合金镀层,其硬度在450~500HV之间。X射线衍射表明:Ni Cu P合金镀层在镀态下为非晶态结构,但镀...  研究了化学镀Ni Cu P合金镀液组成及操作条件对镀层厚度及硬度的影响。筛选出了体系的最佳工艺条件,获得了82.391%Ni 10.298%P 5.297%Cu的合金镀层,其硬度在450~500HV之间。X射线衍射表明:Ni Cu P合金镀层在镀态下为非晶态结构,但镀层经400℃和600℃热处理后,其结晶区域有Ni3P、Cu3P等特征的衍射峰出现,表明镀层为晶态结构。此外,研究表明:镀层厚度随硫酸镍浓度、次亚磷酸钠浓度、镀液温度及pH值的升高而增加,随硫酸铜浓度、络合剂浓度的升高而降低。 展开更多
关键词 化学镀 ni-cu-P合金镀层 镀层厚度 硬度 晶态结构 残磁性能
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NdFeB磁性材料表面化学镀Ni-Cu-P合金研究 被引量:3
17
作者 王憨鹰 李成荣 +1 位作者 李增生 陈焕铭 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 2011年第5期56-59,共4页
为了提高Ni-Cu-P合金镀层的耐腐蚀性,通过不同的化学镀工艺配方,在NdFeB磁体表面获得6种不同Cu和P含量的Ni-Cu-P三元合金镀层。利用SEM对镀层的微观组织观察与分析表明,镀层表面形貌呈致密胞状结构,Ni、Cu、P元素分布均匀。进一步的衍... 为了提高Ni-Cu-P合金镀层的耐腐蚀性,通过不同的化学镀工艺配方,在NdFeB磁体表面获得6种不同Cu和P含量的Ni-Cu-P三元合金镀层。利用SEM对镀层的微观组织观察与分析表明,镀层表面形貌呈致密胞状结构,Ni、Cu、P元素分布均匀。进一步的衍射分析和硬度测试表明,随镀层中Cu和P元素含量的不同,镀层结构分别由晶态、混晶态和非晶态组成,镀层的硬度随镀层结构从非晶态—混晶态—晶态的转变而增加。 展开更多
关键词 化学镀 nicu—P合金 NDFEB 微观组织 硬度
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ABS表面化学镀Cu/Ni-P的电磁屏蔽功能 被引量:4
18
作者 张丽芳 刘金玲 +2 位作者 李文明 任宝林 石殿普 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1996年第3期75-78,共4页
在ABS塑料表面以化学镀沉积CU/Ni-P双镀层,并探讨其与基体的结合强度、环境稳定性、导电性及电磁屏蔽性能;以SEM观察了镀层的微结构及表观形貌.研究结果表明,ABS/Cu/Ni-P材料具有较高的电磁屏蔽效率,且经... 在ABS塑料表面以化学镀沉积CU/Ni-P双镀层,并探讨其与基体的结合强度、环境稳定性、导电性及电磁屏蔽性能;以SEM观察了镀层的微结构及表观形貌.研究结果表明,ABS/Cu/Ni-P材料具有较高的电磁屏蔽效率,且经久耐用. 展开更多
关键词 电磁屏蔽 化学镀 镀层 ABS塑料 镍合金
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化学镀Ni-Cu-P合金工艺研究 被引量:11
19
作者 叶栩青 罗守福 王永瑞 《腐蚀与防护》 CAS 2000年第3期126-128,139,共4页
通过实验数据及图表论述了化学镀 Ni- Cu- P的工艺条件 ,探讨了镀液的主要组成成分、镀液的 p H值、施镀时间对镀层中 Ni、Cu、P质量百分含量、镀层的沉积速度的影响 。
关键词 化学镀 镀层 成分 工艺 电镀 镀合金 镍铜磷合金
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化学镀Ni-Cu-P合金的机理研究 被引量:7
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作者 张朝阳 魏锡文 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期29-31,35,共4页
 以金属共沉积理论为依据,对Cu2+、Ni2+共沉积进行计算,结果发现,理论计算值与实际工艺参数值之间存在极大差异。表明在化学沉积Ni Cu P合金过程中,由于Ni2+的重要作用———诱导在活性表面上放电及维持表面活性,使得Cu2+、Ni2+的共沉...  以金属共沉积理论为依据,对Cu2+、Ni2+共沉积进行计算,结果发现,理论计算值与实际工艺参数值之间存在极大差异。表明在化学沉积Ni Cu P合金过程中,由于Ni2+的重要作用———诱导在活性表面上放电及维持表面活性,使得Cu2+、Ni2+的共沉积不同于一般阴电极上金属共沉。 展开更多
关键词 化学镀 ni-cu-P合金 共沉积机理
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