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基于高定向热解石墨(HOPG)的电刷针表面修饰技术
1
作者 唐铭艺 王一然 +1 位作者 张艺泽 马明 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第21期6-13,共8页
目的旨在应对有刷微电机中的电刷与换向器间的磨损问题,尤其是由电弧侵蚀引发的性能和寿命下降。方法通过在电刷与换向器的接触界面引入HOPG材料,探索其在抑制电弧侵蚀和改善接触表面磨损方面的效果。重点测试了电刷针在HOPG表面修饰下... 目的旨在应对有刷微电机中的电刷与换向器间的磨损问题,尤其是由电弧侵蚀引发的性能和寿命下降。方法通过在电刷与换向器的接触界面引入HOPG材料,探索其在抑制电弧侵蚀和改善接触表面磨损方面的效果。重点测试了电刷针在HOPG表面修饰下的磨损行为与失效机制,并与传统材料进行对比。通过载流摩擦磨损试验,模拟实际工况,研究了在引入HOPG前后,换向器和电刷针之间不同的磨损机制,尤其是电弧侵蚀与机械磨损之间的转变。结果采用HOPG作为表面修饰材料显著减少了电弧侵蚀,使电刷针的失效机制从严重的电弧侵蚀转变为机械磨损,显著改善了电机运行中的磨损状况。HOPG表面表现出了优异的润滑性能,抑制了电刷针与换向器之间的电弧侵蚀现象。相比于传统材料,HOPG修饰的表面在长时间运行后表现出更低的磨损程度,同时保持了良好的电接触性能。结论基于HOPG的表面修饰技术,为解决有刷微电机中电弧侵蚀引发的磨损问题提供了新的解决方案。通过有效抑制电弧侵蚀,改善了电刷与换向器之间的磨损机制,使电刷针的失效模式从电弧侵蚀转变为机械磨损,具备提高有刷微电机工作寿命的潜力。 展开更多
关键词 摩擦磨损 有刷微电机 电弧侵蚀 表面修饰 电刷针 高定向热解石墨
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高定向热解石墨表面超大结构的扫描隧道显微镜研究
2
作者 宋永海 汪莉 +2 位作者 姚勇 催康 谌创业 《江西师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2007年第6期557-559,576,共4页
用扫描隧道显微镜（STM）对高定向热解石墨（HOPG）表面的超大结构进行了研究，观察到的超大结构是2．4～5．7mn，峰与峰之间的距离为1．0～3．8A^°，相对于HOPG表面的原子结构转动30°角．推测这种超大结构足由于电解质和溶... 用扫描隧道显微镜（STM）对高定向热解石墨（HOPG）表面的超大结构进行了研究，观察到的超大结构是2．4～5．7mn，峰与峰之间的距离为1．0～3．8A^°，相对于HOPG表面的原子结构转动30°角．推测这种超大结构足由于电解质和溶剂小分子嵌入HOPG表面层所引起层间相互作用改变引起的表面电子态变化． 展开更多
关键词 高定向热解石墨 扫描隧道显微镜 超大结构
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退火对高定向热解石墨的输运特性的影响
3
作者 葛军饴 曹世勋 +1 位作者 康保娟 张金仓 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期512-514,共3页
研究了退火对磁场诱导下高定向热解石墨(HOPG)输运特性的影响,结果表明,退火后HOPG的R-T曲线明显变得光滑,且退火后电阻率增大了近50%,相应温度下的磁电阻效应均减小约40%。分析认为,这是由于HOPG内部存在层错与所含杂质缺陷引起的。磁... 研究了退火对磁场诱导下高定向热解石墨(HOPG)输运特性的影响,结果表明,退火后HOPG的R-T曲线明显变得光滑,且退火后电阻率增大了近50%,相应温度下的磁电阻效应均减小约40%。分析认为,这是由于HOPG内部存在层错与所含杂质缺陷引起的。磁场下电阻率随温度的变化表明,外加磁场对低温下的金属导电行为存在抑制作用,随着外加磁场的增加,低温下的金属导电行为受到抑制,在H=5.57×104A/m时,低温下的绝缘体-金属转变(I-M)被完全抑制,呈半导体性质。随着磁场的继续增加,在磁场高于H=9.24×105A/m时再次出现绝缘体-金属转变,即再入型金属导电行为,且退火对这一转变过程没有影响,表明这种绝缘体-金属转变是由外加磁场诱导产生的。 展开更多
关键词 高定向热解石墨(HOPG) 绝缘体-金属转变 输运性质
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高定向热解石墨对铯的吸附行为研究 被引量：1
4
作者 陈博 郑剑平 杨启法 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期468-471,共4页
为处理核反应堆中的放射性废物137 Cs,采用高定向热解石墨对铯的吸附行为进行了研究。利用双室法进行石墨吸铯的实验结果显示,高定向热解石墨在600℃下具有最佳的吸铯性能,吸铯后最大的质量增加比可达130%。
关键词 137Cs 高定向热解石墨 石墨层间化合物 吸附
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石墨烯片的制备与表征 被引量：21
5
作者 冯颖 黄世华 +1 位作者 康凯 段晓霞 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期26-30,共5页
通过微机械剥离高定向热解石墨(HOPG)法和化学气相沉积法(CVD)分别制备了不同层数的石墨烯片,并将其转移到硅片上。利用石墨烯片在不同厚度SiO2硅片上光学显微图像颜色及对比度存在的差异,对其层数进行了识别与区分。采用原子力显微镜(A... 通过微机械剥离高定向热解石墨(HOPG)法和化学气相沉积法(CVD)分别制备了不同层数的石墨烯片,并将其转移到硅片上。利用石墨烯片在不同厚度SiO2硅片上光学显微图像颜色及对比度存在的差异,对其层数进行了识别与区分。采用原子力显微镜(AFM)和拉曼(Raman)光谱判定了所制石墨烯片的层数。结果表明:所制石墨烯片有单层、少数层和多层。与双层石墨烯片的Raman谱图比较,多层石墨烯片的2D模线宽变宽,G模强度增大。此外,CVD法可生长出大面积(～cm2)的石墨烯片。 展开更多
关键词 石墨烯 高定向热解石墨 微机械剥离法 化学气相沉积法
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石墨烯的纳米摩擦与磨损性质 被引量：8
6
作者 朱齐荣 李慧琴 +3 位作者 李宁 柴静 高润纲 梁齐 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第7期1582-1587,共6页
采用乙醇溶剂剥离的方法制备石墨烯.通过对溶剂温度、超声时间、超声功率和溶剂离心速度及时间的控制,从高定向热解石墨(HOPG)制备得到少层石墨烯.用原子力显微镜(AFM)研究了云母基底上不同层数石墨烯在真空中的纳米摩擦过程,发现从约4... 采用乙醇溶剂剥离的方法制备石墨烯.通过对溶剂温度、超声时间、超声功率和溶剂离心速度及时间的控制,从高定向热解石墨(HOPG)制备得到少层石墨烯.用原子力显微镜(AFM)研究了云母基底上不同层数石墨烯在真空中的纳米摩擦过程,发现从约4个原子单层(4ML)起,摩擦系数基本不再变化,但摩擦力仍随着厚度的增加而显著减小,7ML之后,其摩擦系数基本接近于零.在磨损实验中,少层石墨烯表面存在刮坏的现象,且不同厚度的石墨烯的磨损现象明显不同,其中2ML石墨烯相比4ML石墨烯表现出较好的耐磨损性能,且不具有摩擦方向依赖性.测试了真空下少层石墨烯和云母表面的粘附力,发现不同层厚的石墨烯相差不大,因此认为基底效应并不是磨损性质差异的主要原因.相对于单层石墨烯,少层石墨烯在抗磨损涂层等领域有着很大的潜在应用价值. 展开更多
关键词 高定向热解石墨 石墨烯 纳米摩擦学 原子力显微镜 磨损
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抗癌药物奥沙利铂与DNA分子相互作用的研究 被引量：19
7
作者 许凤杰 刘瑞斯 +2 位作者 彪林海 祖元刚 刘志国 《生物化学与生物物理进展》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2016年第7期684-690,共7页
奥沙利铂被称为第三代铂类药物,特别对胃肠道肿瘤具有较好的疗效.目前大多数的研究表明奥沙利铂的主要作用靶点是DNA分子,但它与DNA分子形成的关键结构和作用机制仍处在探索阶段.本研究运用紫外可见吸收光谱和原子力显微镜观察探索奥沙... 奥沙利铂被称为第三代铂类药物,特别对胃肠道肿瘤具有较好的疗效.目前大多数的研究表明奥沙利铂的主要作用靶点是DNA分子,但它与DNA分子形成的关键结构和作用机制仍处在探索阶段.本研究运用紫外可见吸收光谱和原子力显微镜观察探索奥沙利铂与DNA在活体外的相互作用过程,从而揭示奥沙利铂产生抗癌作用的主要分子结构基础.首先使用紫外光谱研究了较高浓度奥沙利铂与DNA的作用过程.在此基础上,进一步采用原子力显微镜在高定向热解石墨表面观察了不同浓度奥沙利铂与质粒DNA在37℃条件下作用不同时间后的结构形貌变化,分析了奥沙利铂与DNA相互作用的过程.高分辨原子力显微观察结果表明奥沙利铂与DNA作用后可导致质粒DNA的结构发生显著的变化.随着作用时间的增加,DNA分子逐渐由伸展的链状变化为相互缠绕并带有许多结点的紧密结构,最终变化为更紧密的球状结构.本研究结果表明奥沙利铂可通过化学键合作用和静电作用使质粒DNA逐渐凝集为紧密的球状结构,这种结构可能对奥沙利铂的抗癌活性和毒性产生重要影响. 展开更多
关键词 奥沙利铂 DNA 高定向热解石墨 原子力显微镜
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正十八烷醇在HOPG上形成自组装膜的吸附特性(英文) 被引量：1
8
作者 钱丽萍 邓文礼 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第3期443-447,共5页
研究了正十八烷醇在高定向热解石墨(HOPG)上形成自组装膜的吸附特性,正十八烷醇在室温下从溶液中吸附至HOPG上形成整齐定向排列的单层自组装膜.通过扫描隧道显微镜(STM)、接触角测量和X射线光电子能谱(XPS)分析了正十八烷醇单层自组装膜... 研究了正十八烷醇在高定向热解石墨(HOPG)上形成自组装膜的吸附特性,正十八烷醇在室温下从溶液中吸附至HOPG上形成整齐定向排列的单层自组装膜.通过扫描隧道显微镜(STM)、接触角测量和X射线光电子能谱(XPS)分析了正十八烷醇单层自组装膜在HOPG上的结构.实验结果表明,正十八烷醇自组装膜在基底上成平铺或直立形态,由于分子在基底上覆盖程度的不同,会导致它在基底上排列的方式有所不同. 展开更多
关键词 高定向热解石墨 单分子自组装膜 扫描隧道显微镜 接触角 X射线光电子能谱
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化学所在二维共价有机框架薄膜材料制备方面取得进展
9
《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2022年第8期310-310,共1页
中国科学院化学研究所有机固体院重点实验室研究员陈建毅和中科院院士刘云圻,开展了二维有机框架薄膜材料的可控组装及规模化制备策略研究,并取得了系列研究成果。最近,该课题组提出了一种气体诱导薄膜转化方法,在化学气相沉积系统(CVD)... 中国科学院化学研究所有机固体院重点实验室研究员陈建毅和中科院院士刘云圻,开展了二维有机框架薄膜材料的可控组装及规模化制备策略研究,并取得了系列研究成果。最近,该课题组提出了一种气体诱导薄膜转化方法,在化学气相沉积系统(CVD)中,通过对苯二甲醛(TPA)蒸汽与1,3,6,8-四-(对胺基苯基)-芘(PyTTA)薄膜之间的化学反应,在玻璃、硅片、铜箔及高定向热解石墨等衬底上制备了高质量的二维PyTTA-TPA共价有机框架(COF)薄膜。 展开更多
关键词 中科院院士 有机固体 薄膜材料 高定向热解石墨 对苯二甲醛 院重点实验室 规模化制备 TTA
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单层α-MoO_(3)半导体薄膜的范德瓦耳斯外延制备
10
作者 韩钰 牛群 +1 位作者 周琴 赵爱迪 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第5期886-893,共8页
α-MoO_(3)是一种典型的层状半导体过渡金属氧化物,其独特的电子结构和晶格结构使其近些年来被广泛研究。相比于体相α-MoO_(3),α-MoO_(3)薄膜因二维几何限制而具有优异的光学、电学和力学性质。然而,单层无缺陷的α-MoO_(3)薄膜的外... α-MoO_(3)是一种典型的层状半导体过渡金属氧化物,其独特的电子结构和晶格结构使其近些年来被广泛研究。相比于体相α-MoO_(3),α-MoO_(3)薄膜因二维几何限制而具有优异的光学、电学和力学性质。然而,单层无缺陷的α-MoO_(3)薄膜的外延生长迄今尚未实现。本研究在超高真空条件下使用分子束外延技术,首次在高定向热解石墨(HOPG)上范德瓦耳斯外延制备了单层无缺陷的半导体α-MoO_(3)薄膜,并通过氢气还原的方法产生线型缺陷,使用扫描隧道显微镜研究了完整单层薄膜及缺陷处的形貌结构和表观能隙。结果表明:通过精确控制衬底温度可以在HOPG衬底上制备出高质量单层α-MoO_(3)薄膜;薄膜厚度和单胞大小均符合单层α-MoO_(3)特征,扫描隧道谱显示其表观能隙为1.7 eV;所生长薄膜的高质量可以通过衬底HOPG的摩尔纹进一步证实。通过引入氢气可以在薄膜表面获得与摩尔纹方向垂直的明亮线缺陷,缺陷处的局域表观能隙为0.4 eV,即在一个整体为宽表观能隙的半导体材料中间实现了局部的具有窄表观能隙的通道。 展开更多
关键词 α-MoO_(3) 薄膜 高定向热解石墨 范德瓦耳斯外延 半导体 表观能隙
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