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钇离子注入硅薄层硅化钇的合成的研究
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作者 张通和 吴瑜光 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第B05期62-64,共3页
用大束流密度的钇金属离子注入硅 ,能够直接合成性能良好的薄层硅化物。随束流密度的增加 ,硅化钇生长 ,薄层硅化物的方块电阻Rs 明显下降 ,当束流密度为 0 .5A/m2 时 ,Rs达到最小值 54Ω/□ ,说明连续的硅化物已经形成。X衍射分析表明 ... 用大束流密度的钇金属离子注入硅 ,能够直接合成性能良好的薄层硅化物。随束流密度的增加 ,硅化钇生长 ,薄层硅化物的方块电阻Rs 明显下降 ,当束流密度为 0 .5A/m2 时 ,Rs达到最小值 54Ω/□ ,说明连续的硅化物已经形成。X衍射分析表明 ,注入层中形成了二种硅化钇YSi和YSi2 。透射电子显微镜观察表明 ,当束流密度为 0 .5A/m2 时 ,连续硅化钇薄层已经形成 ,硅化钇薄层厚度为 80nm ,但是在硅化钇层下有高密度损伤层 ,增大束流密度注入 ,连续硅化钇薄层起皱 ,说明为改善硅化钇层质量 ,不能依靠加大束流密度 ,而必须要退火。经过10 50℃退火 6 0s后 ,Rs 下降至 14Ω/□ ,电阻率可小到 0 .56 μΩ·cm ,说明硅化钇薄层质量得到了进一步的改善。 展开更多
关键词 钇离子注入 硅化合成 大束流密度
全文增补中
稀土钇注入H13钢抗氧化模型和增强抗氧化特性的途径 被引量:5
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作者 张通和 孙贵如 谢晋东 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1995年第1期47-52,共6页
用俄歇、扫描电镜和微区分析研究了Y注入低铬钢(H13)抗氧化机理。注入适当量的Y到钢中是提高H13钢抗氧化性能的关键因素.注入和氧化过程中Cr向钇注入层下面富集则起到相辅相成的作用.观察到了Y,Cr和氧的相互作用,以... 用俄歇、扫描电镜和微区分析研究了Y注入低铬钢(H13)抗氧化机理。注入适当量的Y到钢中是提高H13钢抗氧化性能的关键因素.注入和氧化过程中Cr向钇注入层下面富集则起到相辅相成的作用.观察到了Y,Cr和氧的相互作用,以及多层氧化物结构的氧化皮,这种结构的出现将氧原子限制在0.5μm范围之内.观察到易脱落的菜花状氧化物在未注入区和表面缺陷处生成,并研究了这种氧化物生成条件和防止的措施.最后给出了Y注入H13抗氧化多层结构模型. 展开更多
关键词 钇离子注入 抗氧化机理 合金钢 SEM
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Y升温注入Al形成Y-Al合金研究 被引量:3
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作者 张通和 吴瑜光 钱卫东 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2001年第5期615-618,共4页
利用金属蒸汽真空弧 (MEVVA)源所产生的强束流离子注入铝研究了相变、增强扩散和钇铝合金的形成条件 .X射线衍射分析表明注入层有Al3 Y和Al2 O3 出现 .从背散射分析可以发现 ,Y原子有着明显的增强扩散和外扩散效应 ,Y离子的深度分布已达... 利用金属蒸汽真空弧 (MEVVA)源所产生的强束流离子注入铝研究了相变、增强扩散和钇铝合金的形成条件 .X射线衍射分析表明注入层有Al3 Y和Al2 O3 出现 .从背散射分析可以发现 ,Y原子有着明显的增强扩散和外扩散效应 ,Y离子的深度分布已达 62 0nm ,远大于LSS理论的预计值 .注入层钇铝原子比可达到 17%~ 2 4 %.连续铝合金层已经形成 . 展开更多
关键词 钇离子注入 深度分布 增强扩散 -铝合金
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