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金属透射样品的制备和高分辨表征
被引量：
4
1
作者
白红日
汪浩
+3 位作者
梁鎏凝
刘烨
沈希
温玉仁
《中南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第11期3169-3177,共9页
采用电解双喷实验设备制备析出强化合金钢、镍基高温合金和中熵合金的透射样品,分析电解双喷参数的选取原则,总结各种合金材料的最佳电解双喷参数及克服钢铁磁性的透射观察方法;采用双喷后两步离子减薄法清除样品的表面氧化物;在氧化物...
采用电解双喷实验设备制备析出强化合金钢、镍基高温合金和中熵合金的透射样品,分析电解双喷参数的选取原则,总结各种合金材料的最佳电解双喷参数及克服钢铁磁性的透射观察方法;采用双喷后两步离子减薄法清除样品的表面氧化物;在氧化物无法清除的情况下,提出识别氧化物的方法。研究结果表明:采用电解双喷的选取原则,减小样品的初始厚度,能够获得低磁性、大薄区的金属透射样品;在不同时效时间、不同制备方法下,发生不规律变化的衍射斑来自于氧化物,根据衍射斑特点能有效排除氧化物斑点的影响。
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关键词
透射样品制备
电解双喷减薄
离子减薄
磁性
样品
表面氧化物
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职称材料
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
被引量：
3
2
作者
彭开武
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013年第12期728-734,751,共8页
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积...
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
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关键词
聚焦离子束
双束系统
纳米材料表征
纳米结构加工
电子束曝光
透射
电镜
样品
制备
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职称材料
题名
金属透射样品的制备和高分辨表征
被引量：
4
1
作者
白红日
汪浩
梁鎏凝
刘烨
沈希
温玉仁
机构
北京科技大学材料科学与工程学院
湘潭大学材料科学与工程学院
中国科学院物理研究所
出处
《中南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第11期3169-3177,共9页
基金
中央高校基本科研业务费资助项目(06500099)。
文摘
采用电解双喷实验设备制备析出强化合金钢、镍基高温合金和中熵合金的透射样品,分析电解双喷参数的选取原则,总结各种合金材料的最佳电解双喷参数及克服钢铁磁性的透射观察方法;采用双喷后两步离子减薄法清除样品的表面氧化物;在氧化物无法清除的情况下,提出识别氧化物的方法。研究结果表明:采用电解双喷的选取原则,减小样品的初始厚度,能够获得低磁性、大薄区的金属透射样品;在不同时效时间、不同制备方法下,发生不规律变化的衍射斑来自于氧化物,根据衍射斑特点能有效排除氧化物斑点的影响。
关键词
透射样品制备
电解双喷减薄
离子减薄
磁性
样品
表面氧化物
Keywords
preparation of TEM sample
twin-jet electropolish
ion milling
magnetic sample
surface oxide
分类号
TG115.215.3 [金属学及工艺—物理冶金]
TG142.1 [金属学及工艺—金属材料]
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职称材料
题名
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
被引量：
3
2
作者
彭开武
机构
国家纳米科学中心纳米检测实验室
出处
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013年第12期728-734,751,共8页
文摘
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
关键词
聚焦离子束
双束系统
纳米材料表征
纳米结构加工
电子束曝光
透射
电镜
样品
制备
Keywords
focused ion beam （FIB）
dual beam system
micro-nanofabrication
nanocharacterizatiou
electron beamlithography （EBL）
TEM sample preparation
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属透射样品的制备和高分辨表征
白红日
汪浩
梁鎏凝
刘烨
沈希
温玉仁
《中南大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
4
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职称材料
2
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
彭开武
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013
3
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职称材料
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