聚焦离子束工艺参数对单像素线刻蚀的影响 被引量：2

1

作者 李美霞 施展 +2 位作者 陆熠磊 王英 杨明来 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第9期818-824,共7页

单像素线刻蚀是制备微纳米器件中的基本单元及加工其他复杂结构的基础,对聚焦离子束(FIB)加工具有重要的意义。通过改变离子束流的大小、驻留时间、扫描步长百分比及离子剂量等参数,对硅表面进行单像素线刻蚀的研究。结果表明,在聚焦离... 单像素线刻蚀是制备微纳米器件中的基本单元及加工其他复杂结构的基础,对聚焦离子束(FIB)加工具有重要的意义。通过改变离子束流的大小、驻留时间、扫描步长百分比及离子剂量等参数,对硅表面进行单像素线刻蚀的研究。结果表明,在聚焦离子束加工中,离子剂量与刻蚀线条宽度和深度之间呈正相关,与宽深比之间呈负相关;离子束流大小的变化对刻蚀深度影响不明显,但刻蚀宽度和宽深比随离子束流的增大而增大。此外,随着离子束流驻留时间增加,刻蚀宽度增大而深度减小;随着扫描步长百分比的增大,刻蚀深度增大,刻蚀宽度减小,分析结果表明这些变化与加工过程中再沉积作用有关。本研究成果为后续复杂图形的精密加工提供了重要参考依据。 展开更多

关键词 聚焦离子束(fib)刻蚀 加工参数 刻蚀形貌 单像素线 再沉积 宽深比

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聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用 被引量：3

2

作者 毕建华 陆家和 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第4期299-306,共8页

聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点，然后概括说明目前它在光电子... 聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点，然后概括说明目前它在光电子器件方面的若干应用。 展开更多

关键词 聚焦离子束 无掩模刻蚀 光电子器件

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高性能聚焦离子束(FIB)系统及其在材料科学领域的应用 被引量：9

3

作者 周伟敏 吴国英 《实验室研究与探索》 CAS 2004年第9期19-20,52,共3页

采用液态镓作为离子源的FIB系统在材料科学研究领域可以起非常重要的作用。离子束聚焦于样品表面,在不同大小、束流及通入不同辅助气体的情况下,可分别实现图形刻蚀、绝缘和金属膜的沉淀,扫描离子成像等功能。该系统有三大用途:形貌观察... 采用液态镓作为离子源的FIB系统在材料科学研究领域可以起非常重要的作用。离子束聚焦于样品表面,在不同大小、束流及通入不同辅助气体的情况下,可分别实现图形刻蚀、绝缘和金属膜的沉淀,扫描离子成像等功能。该系统有三大用途:形貌观察,分辨率高达5nm;微刻蚀以及微沉淀。本文介绍了FIB技术的应用。 展开更多

关键词 聚焦离子束显微镜(fib) 透射电子显微分析(TEM) 材料科学

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聚焦离子束(FIB)中的离子光学问题 被引量：1

4

作者 陈文雄 徐军 张解东 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期411-415,共5页

本文简要讨论了聚焦离子束中的离子光学问题 ,包括液态金属离子源的发射机制和发射特性 ,如虚源、角电流强度、能量分散、伏安特性、束流起伏、聚焦限制、离子束中的化学成分及源的寿命。讨论了离子光学柱体的组成与特征 ,束流一束径关... 本文简要讨论了聚焦离子束中的离子光学问题 ,包括液态金属离子源的发射机制和发射特性 ,如虚源、角电流强度、能量分散、伏安特性、束流起伏、聚焦限制、离子束中的化学成分及源的寿命。讨论了离子光学柱体的组成与特征 ,束流一束径关系 ,束中电流密度分布 ,以及空间电荷效应等。 展开更多

关键词 离子光学 聚焦离子束 fib 液态金属离子源 LMIS 静电透镜 空间电荷效应 发射机制

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用聚焦离子束气体辅助刻蚀在LiNbO_3上制备亚微米圆孔点阵 被引量：1

5

作者 徐雪峰 颜莎 +3 位作者 王克明 王雪林 薛建明 王宇钢 《北京大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期937-940,共4页

使用聚焦粒子束(FIB)在LiNbO3上刻蚀用于光子晶体的亚微米圆孔二维点阵,研究了刻蚀束流、刻蚀时间和填充率等刻蚀参数对刻蚀结果造成的影响。为获得更好的刻蚀效果,还采用了FIB的气体辅助刻蚀方法(gas-assisted etching,GAE)。研究发现... 使用聚焦粒子束(FIB)在LiNbO3上刻蚀用于光子晶体的亚微米圆孔二维点阵,研究了刻蚀束流、刻蚀时间和填充率等刻蚀参数对刻蚀结果造成的影响。为获得更好的刻蚀效果,还采用了FIB的气体辅助刻蚀方法(gas-assisted etching,GAE)。研究发现,与直接刻蚀结果相比,GAE减小了反沉积效应,得到了更好的孔形。禁带模拟计算表明,与常规FIB刻蚀出的锥形圆孔相比,使用XeF2气体辅助刻蚀得到的这种侧壁更陡直的圆孔阵列构成的光子晶体禁带更趋近于理想光子晶体的禁带。 展开更多

关键词 聚焦离子束 铌酸锂 气体辅助刻蚀

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基于聚焦离子束注入的微纳加工技术研究 被引量：8

6

作者 徐宗伟 房丰洲 +1 位作者 张少婧 陈耘辉 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期62-67,共6页

提出了聚焦离子束注入(focused ion beam implantation,FIBI)和聚焦离子束XeF2气体辅助刻蚀(gas assisted etching,GAE)相结合的微纳加工技术。通过扫描电镜观察FIBI横截面研究了聚焦离子束加工参数与离子注入深度的关系。当镓离子剂量... 提出了聚焦离子束注入(focused ion beam implantation,FIBI)和聚焦离子束XeF2气体辅助刻蚀(gas assisted etching,GAE)相结合的微纳加工技术。通过扫描电镜观察FIBI横截面研究了聚焦离子束加工参数与离子注入深度的关系。当镓离子剂量大于1.4×1017ion/cm2时,聚焦离子束注入层中观察到均匀分布、直径10～15nm的纳米颗粒层。以此作为XeF2气体反应的掩膜,利用聚焦离子束XeF2气体辅助刻蚀(FIB-GAE)技术实现了多种微纳米级结构和器件加工,如纳米光栅、纳米电极和微正弦结构等。结果表明该方法灵活高效,很有发展前途。 展开更多

关键词 聚焦离子束(fib) 离子注入 气体辅助刻蚀(GAE) 微结构

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聚焦离子束系统在微米/纳米加工技术中的应用 被引量：11

7

作者 张继成 唐永建 吴卫东 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第F11期40-43,46,共5页

聚焦离子束系统是微细加工和分析的主要技术之一,是一个完美的微米/纳米技术研究平台。简述了聚焦离子束系统的组成和主要功能,着重介绍了近年来该技术在离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束辅助沉积、离子注入、微区分析、掺杂和成像... 聚焦离子束系统是微细加工和分析的主要技术之一,是一个完美的微米/纳米技术研究平台。简述了聚焦离子束系统的组成和主要功能,着重介绍了近年来该技术在离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束辅助沉积、离子注入、微区分析、掺杂和成像以及无掩膜曝光等微米/纳米加工领域的应用,并对未来的发展前景进行了简要分析。 展开更多

关键词 聚焦离子束 刻蚀 沉积 离子注入 微区分析与加工 无掩膜曝光

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聚焦离子束在光纤探针制备技术中的应用 被引量：3

8

作者 魏恩浩 徐平 +2 位作者 王荣明 商广义 姚骏恩 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期595-599,共5页

本文概述了利用聚焦离子束制备用于近场光学显微镜光纤探针的方法,讨论了探针的锥型刻蚀、孔径控制和特殊结构加工等;论述了聚焦离子束的工作原理和在光纤探针高精度加工方面的优势。利用此技术制备的光纤探针的锥型和针尖孔径精确可控... 本文概述了利用聚焦离子束制备用于近场光学显微镜光纤探针的方法,讨论了探针的锥型刻蚀、孔径控制和特殊结构加工等;论述了聚焦离子束的工作原理和在光纤探针高精度加工方面的优势。利用此技术制备的光纤探针的锥型和针尖孔径精确可控,并具有高光洁度,高通光效率等特点。 展开更多

关键词 聚焦离子束 刻蚀 光纤探针 针尖孔径 通光效率

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聚焦离子束装置的发展及趋势 被引量：2

9

作者 李晓明 应根裕 汪健如 《真空科学与技术》 CSCD 1992年第6期478-488,共11页

综述了聚焦离子束装置的发展状况,包括各个年代、不同地区和国家的研究方向及特点。通过几台典型机描术透镜系统及其内部透镜的性能。介绍几种联机系统。最后阐明我国研究和开发聚焦离子束装置及其应用技术的必要性。

关键词 离子束 聚焦 离子束装置 fib

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微机控制聚焦离子束扫描装置的研制与实验

10

作者 董雷 王克礼 张化一 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1989年第3期160-162,共3页

一、引言近年来,人们对FIB(聚焦离子束)装置用于大规模集喊电路制作的离子束曝光技术产生了很大兴趣。离子束曝光对抗蚀剂材料有较高的灵敏度。

关键词 聚焦离子束 微机控制 扫描装置 抗蚀剂 电路制作 离子束刻蚀 键盘控制 集成运算放大器 邻近效应 掩模

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面向Ga^+和惰性离子的聚焦离子束加工机理的研究

11

作者 贾瑞丽 徐宗伟 王前进 《电子显微学报》 CAS CSCD 2016年第1期63-69,共7页

聚焦离子束(FIB)技术越来越广泛地应用于纳米加工等领域,其加工机理的研究是该技术发展的重要基础。本文针对纳米结构加工过程中聚焦离子束对加工精度的影响规律,基于蒙特卡罗法的SRIM程序,对离子轰击硅、金、铬等典型基底进行了仿真分... 聚焦离子束(FIB)技术越来越广泛地应用于纳米加工等领域,其加工机理的研究是该技术发展的重要基础。本文针对纳米结构加工过程中聚焦离子束对加工精度的影响规律,基于蒙特卡罗法的SRIM程序,对离子轰击硅、金、铬等典型基底进行了仿真分析与建模,研究了Ga+、He+、Ne+不同离子束的入射能量对入射深度、能量损伤、横向离散等参数的影响规律,解释了He+在加工小于10nm线宽结构中的优势及其加工中存在的新现象。结果表明,在FIB加工过程中可采用不同的离子束源,进行加工结构的工艺优化。 展开更多

关键词 聚焦离子束(fib) 纳米加工 能量损伤 横向离散

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基于聚焦离子束的微米铝粉界面结构制备和氧化特性研究

12

作者 王敬凯 陈捷 +3 位作者 刘帅 睢贺良 索志荣 银颖 《含能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第10期904-913,共10页

为直观地研究金属铝核/氧化层的界面结构,以聚焦离子束微纳加工技术为基础,成功建立了2~8μm铝粉颗粒的切片方法。对于尺寸2~8μm的铝粉颗粒,可通过结合聚焦离子束(FIB)直接切割与剖面减薄获得切片。所制备的切片样品的界面结构清晰完整... 为直观地研究金属铝核/氧化层的界面结构,以聚焦离子束微纳加工技术为基础,成功建立了2~8μm铝粉颗粒的切片方法。对于尺寸2~8μm的铝粉颗粒,可通过结合聚焦离子束(FIB)直接切割与剖面减薄获得切片。所制备的切片样品的界面结构清晰完整,氧化层未被破坏;通过进一步联用扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜、能谱线扫描及元素面分布等多种表征手段,获得了不同老化条件下铝颗粒“核‐壳”界面的微观结构、结晶性和元素分布等信息。发现铝颗粒表面氧化层中Al和O元素的化学计量比偏离于标准Al2O3,呈现梯度分布特征;定量地获得了铝颗粒氧化层厚度与老化温度之间的正相关关系,未经热老化样品的氧化层厚度约5.4 nm,75℃和95℃老化样品的氧化层厚度分别增加至(34.1±2.1)nm和(51.3±2.2)nm。 展开更多

关键词 聚焦离子束(fib) 微纳加工技术 高分辨透射电镜 梯度分布 氧化层厚度 微末铝粉

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聚焦离子束制样条件对TEM样品形貌的影响 被引量：2

13

作者 孙紫涵 李明 +1 位作者 高金德 吴涛 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第1期25-30,共6页

聚焦离子束(FIB)因其制样成功率和效率高,可定点精确制样等特点已经成为半导体失效分析领域重要的透射电子显微镜(TEM)制样方法。利用双束FIB系统针对TEM样品制备条件对样品形貌的影响进行了分析和研究。通过控制变量法等方法分析了FIB... 聚焦离子束(FIB)因其制样成功率和效率高,可定点精确制样等特点已经成为半导体失效分析领域重要的透射电子显微镜(TEM)制样方法。利用双束FIB系统针对TEM样品制备条件对样品形貌的影响进行了分析和研究。通过控制变量法等方法分析了FIB的电子束或离子束等制样条件可能对样品带来的损伤。通过实验发现,FIB的离子束能量对TEM样品热损伤影响较小,电子束的电压和电流是引起样品损伤的主要因素。实验证明,在电子束辅助沉积保护层时适当降低电子束的电压和电流,可有效改善样品的微观形貌。 展开更多

关键词 透射电子显微镜(TEM) 制样 失效分析 聚焦离子束(fib) 热损伤 电子束辅助沉积 保护层

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聚焦离子束沉积铂纳米导线的电学失效机理

14

作者 瞿敏妮 乌李瑛 +4 位作者 黄胜利 凌天宇 沈贇靓 权雪玲 王英 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第5期382-387,共6页

研究了聚焦离子束(FIB)沉积Pt纳米导线的电学失效行为及其机理。FIB沉积Pt纳米导线在集成电路修复和微型电极制备等领域有重要应用,其电学特性及失效行为研究对器件结构设计及性能测试具有重要意义。直流电学测试中电压接近9 V时,电流... 研究了聚焦离子束(FIB)沉积Pt纳米导线的电学失效行为及其机理。FIB沉积Pt纳米导线在集成电路修复和微型电极制备等领域有重要应用,其电学特性及失效行为研究对器件结构设计及性能测试具有重要意义。直流电学测试中电压接近9 V时,电流快速上升并发生断路。经扫描电子显微镜(SEM)和原位X射线能谱(EDS)分析发现,断路后Pt纳米导线中有球状结构析出,球状结构中Pt与C的原子数分数之比是原始薄膜中的4倍,周围物质变得疏松甚至发生局部断裂,且Pt的原子数分数降低,从而形成不导电结构。进一步对样品进行升温电学测试,结果表明,在120℃以上Pt纳米导线在内部电流与外部加热共同作用下发生Pt晶粒生长及团聚,使Pt空缺的间隙变大,从而造成Pt纳米导线的电学失效。 展开更多

关键词 聚焦离子束(fib) 铂纳米导线 电学失效 铂晶粒团聚 升温电学测试

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电子束致沉积手控生长碳纳米线 被引量：2

15

作者 王鸣生 王晶云 +1 位作者 陈清 彭练矛 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第1期11-16,共6页

用电子束致沉积(EBID)来制备各种纳米尺寸的结构在纳米材料的制备和器件构建方面有着良好的应用前景。相对于聚焦离子束(FIB),它具有对样品损伤小和所得结构尺寸更小等优点。此前,电子束致沉积的工作大多数在扫描电镜中完成,而在透射电... 用电子束致沉积(EBID)来制备各种纳米尺寸的结构在纳米材料的制备和器件构建方面有着良好的应用前景。相对于聚焦离子束(FIB),它具有对样品损伤小和所得结构尺寸更小等优点。此前,电子束致沉积的工作大多数在扫描电镜中完成,而在透射电镜中沉积直到近两年才发展起来。本文尝试在普通热发射透射电镜中,手动控制生长碳纳米线、点等结构。对碳纳米线的生长过程进行了原位观测,并对电子束斑的大小、形状和辐照时间对沉积物形状的影响作了初步的研究。最后对电子束致沉积可控生长无定型碳纳米线可能的应用作了一些探索。 展开更多

关键词 电子束 纳米线 聚焦离子束 发射 器件 沉积 fib 透射电镜 损伤 辐照时间

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光子晶体Micro LED微显示阵列加工及光学特性分析 被引量：2

16

作者 孟媛 肖秧 +4 位作者 冯晓雨 何龙振 张鹏喆 宁平凡 刘宏伟 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第8期719-725,共7页

Micro LED器件具有高亮度、低功耗和高可靠性等优点,但Micro LED显示像素巨量转移和光提取效率低的问题为其应用带来挑战。开发了具有高转移效率和出光效率的单片64×64 Micro LED微显示阵列,提出了倒装型GaN基单片Micro LED微显示... Micro LED器件具有高亮度、低功耗和高可靠性等优点,但Micro LED显示像素巨量转移和光提取效率低的问题为其应用带来挑战。开发了具有高转移效率和出光效率的单片64×64 Micro LED微显示阵列,提出了倒装型GaN基单片Micro LED微显示阵列芯片和Si基驱动电路的设计方法及集成工艺。通过时域有限差分(FDTD)方法对Micro LED微显示阵列光学特性进行了建模分析,设计了一种提高Micro LED微显示阵列出光效率的光提取结构。结合仿真结果,开发了一种在Micro LED蓝宝石衬底表面制备光子晶体结构的聚焦离子束(FIB)微纳加工工艺,并进行了器件加工。测试结果表明,蓝宝石衬底上加工的光子晶体结构可以提高Micro LED器件的表面出光效率,光功率平均值提升了16.36%,对Micro LED微显示阵列加工及微显示像素光提取问题具有借鉴意义。 展开更多

关键词 Micro LED 微显示阵列 光子晶体结构 聚焦离子束(fib) 出光效率

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基于钙钛矿单晶片表面周期性结构的高性能近红外光探测器

17

作者 张振宇 汪国平 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期124-132,共9页

借助空间限域法制备了毫米级的甲基碘化铅铵(MAPbI_(3))单晶片,并利用聚焦离子束刻蚀(FIB)技术在其表面加工周期性结构,使其共振吸收峰调节至近红外波段,基于此有源层构筑了纵向结构的光探测器.相比于MAPbI_(3)单晶片基器件,该器件对双... 借助空间限域法制备了毫米级的甲基碘化铅铵(MAPbI_(3))单晶片,并利用聚焦离子束刻蚀(FIB)技术在其表面加工周期性结构,使其共振吸收峰调节至近红外波段,基于此有源层构筑了纵向结构的光探测器.相比于MAPbI_(3)单晶片基器件,该器件对双光子近红外光(1064 nm)的探测能力有近2个数量级的显著提高,响应度达0.6 A/W,开关比可达1.7×10^(4)(动态线性区约84.6 dB),外量子效率为58.2%,比探测率约为6.3×10^(12) Jones(1 Jones=1 cm·Hz^(1/2)·W^(-1)).研究结果证实了利用FIB技术加工MAPbI_(3)单晶片表面周期性结构的高度可行性,这将促进钙钛矿单晶片基高性能近红外光探测器的设计和制备. 展开更多

关键词 钙钛矿单晶片 近红外光探测器 聚焦离子束刻蚀 共振吸收

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多孔介质微观孔隙结构三维成像技术 被引量：21

18

作者 关振良 谢丛姣 +1 位作者 董虎 罗国平 《地质科技情报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期115-121,共7页

详细介绍目前国际上最先进的多孔介质微观结构三维成像技术,包括系列切片技术、聚焦离子束技术(FIB)、激光共聚焦扫描显微镜、Micro-CT技术,分析了各自的优越性及局限性,探讨了Micro-CT技术的应用现状及其在地质学领域的应用前景。分析... 详细介绍目前国际上最先进的多孔介质微观结构三维成像技术,包括系列切片技术、聚焦离子束技术(FIB)、激光共聚焦扫描显微镜、Micro-CT技术,分析了各自的优越性及局限性,探讨了Micro-CT技术的应用现状及其在地质学领域的应用前景。分析结果表明,Micro-CT及今后的Nano-CT技术是一种无损伤的3D成像技术,不但可获得足够分辨率的多孔介质微观孔隙结构3D图像,而且还可以现场实时检测孔隙中流体的渗流状态,在多孔介质孔隙结构及渗流机理研究中具有重要的应用价值。该技术必定成为今后的主流技术,不仅将在石油工程、水文工程等领域发挥重要的作用,而且还将广泛应用于岩石学、矿物学、古生物学、材料学、资源科学及环境科学等领域。该技术的研究和应用在我国还处在起步阶段,应加大设备引进和研究力度。 展开更多

关键词 系列切片 聚焦离子束技术(fib) 激光共聚焦扫描显微镜 MICRO-CT 三维成像 孔隙网络模型

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二维硅薄膜光子晶体波导的设计及制作 被引量：6

19

作者 崔乃迪 梁静秋 +3 位作者 梁中翥 周建伟 宁永强 王维彪 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期2549-2556,共8页

为了制作可用于通信波段的二维硅光子晶体波导,研究了光子晶体波导的设计方法及制作工艺。应用平面波展开法计算了两种空气孔型光子晶体结构的TE波禁带,经筛选采用了三角晶格空气孔结构。同样利用平面波展开法计算了引入缺陷后二维三角... 为了制作可用于通信波段的二维硅光子晶体波导,研究了光子晶体波导的设计方法及制作工艺。应用平面波展开法计算了两种空气孔型光子晶体结构的TE波禁带,经筛选采用了三角晶格空气孔结构。同样利用平面波展开法计算了引入缺陷后二维三角晶格空气孔型光子晶体波导结构的TE波禁带,经对比发现归一化频率为0.295 7的缺陷态最适宜用来制备光子晶体波导,并据此设计了用于1.55μm波长的二维三角晶格空气孔型光子晶体波导,其晶格周期为458nm,空气孔直径为339 nm。对设计的结构参数进行了容差计算,结果表明误差在-3.95~5.65 nm方能满足设计要求。最后使用聚焦离子束刻蚀工艺,制作了所设计的波导结构,并进行了测试。测试结果表明,样品实际晶格周期为463nm,空气孔直径为344 nm,比设计值大5 nm,在容差允许范围内,满足设计要求。 展开更多

关键词 光子晶体 二维光子晶体波导 三角晶格空气孔 聚焦离子束刻蚀

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微纳米复合金刚石自支撑膜的制备及微观结构的研究 被引量：2

20

作者 薛前进 黄玲 +6 位作者 陈广超 李彬 唐伟忠 李成明 宋建华 黑立富 佟玉梅 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期446-449,共4页

在30 kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在多晶钼衬底上制备了微纳米复合多层金刚石自支撑膜。采用拉曼光谱对其进行成份分析、SEM观察膜体表面形貌,采用聚焦离子束(FIB)技术对其进行... 在30 kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在多晶钼衬底上制备了微纳米复合多层金刚石自支撑膜。采用拉曼光谱对其进行成份分析、SEM观察膜体表面形貌,采用聚焦离子束(FIB)技术对其进行原位刻蚀,用高分辨电镜观察对其进行微观表征。结果显示,同普通微米膜相比,多层膜体是由微米晶金刚石层和纳米晶金刚石层组成,表面光滑,微米层与纳米层间具有相互嵌套式的界面,微/纳米复合多层金刚石自支撑膜中包含有纳米级金刚石晶粒、微米级金刚石晶粒和无定形碳。 展开更多

关键词 化学气相沉积 自支撑金刚石膜 多层结构 微观结构 聚焦离子束(fib)

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