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电镀塑料亚微观粗化表面参数的分析及应用 被引量:3
1
作者 姜郁英 《电镀与精饰》 CAS 1995年第5期12-15,20,共5页
运用亚微观分析手段,找出电镀塑料粗化表面与镀层剥离强度及表面光洁度有关的参数,选用具有特定颗粒形状、粒径尺寸和粒径分布的无机填料对聚丙烯共混改性,取得了预期的效果.
关键词 塑料 电镀 粗化表面 表面参数
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钨酸钠及其复合添加剂对极薄铜箔粗化效果的影响
2
作者 彭雪嵩 桂浩亮 +4 位作者 江杰 李亚强 汪宗太 李若鹏 安茂忠 《表面技术》 北大核心 2025年第8期191-200,共10页
目的 研究钨酸钠、钼酸钠、HEC(羧甲基纤维素)3种单一添加剂及其复合添加剂对粗化形貌的影响,进而提升电解铜箔粗化效果。方法 在酸性硫酸盐体系中,采用直流电沉积的方法对6μm极薄铜箔进行表面粗化处理。利用扫描电子显微镜、激光共聚... 目的 研究钨酸钠、钼酸钠、HEC(羧甲基纤维素)3种单一添加剂及其复合添加剂对粗化形貌的影响,进而提升电解铜箔粗化效果。方法 在酸性硫酸盐体系中,采用直流电沉积的方法对6μm极薄铜箔进行表面粗化处理。利用扫描电子显微镜、激光共聚焦显微镜、万能试验机表征测试手段,分别研究了单一添加剂钼酸钠、钨酸钠和HEC及其组合添加剂对极薄电解铜箔粗化表面形貌和性能的影响,并采用正交实验和极差法分析了各添加剂对粗化效果的影响程度。结果 钼酸钠和HEC均使铜箔表面晶粒出现明显细化,而钨酸钠会使铜箔的抗剥离强度明显提高,但没有明显的晶粒细化作用;复合添加剂(钼酸钠-钨酸钠-HEC)作用后,铜箔的微观形貌、粗糙度以及抗剥离强度都得到明显改善。当钼酸钠、钨酸钠和HEC的添加量分别为40、30、8 mg/L时具有最佳粗化效果,粗糙度Rz仅为1.24μm,具有0.94 N/mm的抗剥离强度。结论 钼酸钠-钨酸钠-HEC复合添加剂可以显著优化极薄铜箔的粗化效果,改善剥离强度和表面粗糙度,细化晶粒,对粗化效果的影响重要程度依次为钼酸钠>钨酸钠>HEC。 展开更多
关键词 电解铜箔 添加剂 表面 抗剥离强度 糙度
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表面粗化工艺对IPMC的制备及性能的影响 被引量:6
3
作者 金宁 王帮峰 +2 位作者 卞侃 陈骐 熊克 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第11期1933-1936,共4页
基于二次渗透还原法对IPMC材料的制备进行研究。探索3种不同的基膜表面粗化方法对IPMC材料特性的影响。表面粗化方法包括手工打磨、砂光机打磨以及等离子体表面处理方法。通过样件实测对3种不同粗化条件下获得的IPMC材料的外观特征、微... 基于二次渗透还原法对IPMC材料的制备进行研究。探索3种不同的基膜表面粗化方法对IPMC材料特性的影响。表面粗化方法包括手工打磨、砂光机打磨以及等离子体表面处理方法。通过样件实测对3种不同粗化条件下获得的IPMC材料的外观特征、微观形貌、驱动变形特性以及表面电阻特性进行了测试和比较。实验结果表明,随着表面粗化均匀程度的提高,基膜表面及内部金属沉积均匀与致密性增高,材料的驱动变形能力降低。在一定的驱动电压范围内,IPMC材料的变形与电压近似成线形增加的关系。在相同的尺寸、约束以及驱动电压(3V)条件下,手工打磨的样件能够产生60°的弯曲变形,砂光机打磨样件为45°,而等离子体处理的样件只有15°。 展开更多
关键词 IPMC 表面 SEM分析
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ITO表面粗化提高GaN基LED芯片出光效率 被引量:8
4
作者 胡金勇 黄华茂 +1 位作者 王洪 胡晓龙 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期613-617,共5页
使用现有生产线上工艺成熟且成本低廉的技术实现ITO粗化以提高GaN基LED蓝光芯片的出光效率是产业界重要的研究课题。本文通过普通光刻技术和湿法腐蚀技术,实现ITO表面粗化,有效地提高了LED芯片的输出光功率。输入电流为20 mA时,ITO层制... 使用现有生产线上工艺成熟且成本低廉的技术实现ITO粗化以提高GaN基LED蓝光芯片的出光效率是产业界重要的研究课题。本文通过普通光刻技术和湿法腐蚀技术,实现ITO表面粗化,有效地提高了LED芯片的输出光功率。输入电流为20 mA时,ITO层制备密集分布的三角周期圆孔阵列后,芯片输出光功率提升11.4%,但正向电压升高0.178 V;微结构优化设计后,芯片输出光功率提升8.2%,正向电压仅升高0.044 V。小电流注入时,密集分布的三角周期圆孔阵列有利于获得较高的输出光功率。大电流注入时,这种结构将导致电流拥挤,芯片的电光转化效率衰减严重。经过优化设计后的微结构阵列器件,具有较高的电注入效率,因此芯片的出光效率较高且随输入电流的增加而衰减的趋势较慢,因此更适合大电流下工作。 展开更多
关键词 LED ITO 表面 出光效率
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用表面粗化ITO的欧姆接触提高GaN基LED性能(英文) 被引量:12
5
作者 姚雨 靳彩霞 +2 位作者 董志江 孙卓 黄素梅 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期273-277,共5页
应用ICP干法刻蚀工艺和自然光刻技术,制备了ITO表面粗化的GaN基LED芯片。聚苯乙烯纳米颗粒在干法刻蚀中作为刻蚀掩膜。通过扫描电镜(SEM)观察ITO薄膜的粗糙度,并且报道了优化的粗化工艺参数。结果表明,ITO表面粗化的GaN基LED芯片同传统... 应用ICP干法刻蚀工艺和自然光刻技术,制备了ITO表面粗化的GaN基LED芯片。聚苯乙烯纳米颗粒在干法刻蚀中作为刻蚀掩膜。通过扫描电镜(SEM)观察ITO薄膜的粗糙度,并且报道了优化的粗化工艺参数。结果表明,ITO表面粗化的GaN基LED芯片同传统的表面光滑的芯片相比在20 mA的驱动电流下,发光强度提高了70%。 展开更多
关键词 GAN基发光二极管 铟锡氧 表面 自然光刻
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表面粗化对氧化锆精密陶瓷化学镀镍的影响 被引量:5
6
作者 袁军平 林伟河 +1 位作者 陆丽仪 陈德东 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2017年第4期268-272,共5页
对装饰用氧化锆精密陶瓷基板进行了表面粗化处理及化学镀镍工艺试验,研究了HF含量和浸泡时间对陶瓷表面粗化效果的影响,以及表面粗糙度与镀镍层形貌、结合强度之间的关系。结果表明:氧化锆精密陶瓷的表面粗糙度随着HF含量的增加和浸泡... 对装饰用氧化锆精密陶瓷基板进行了表面粗化处理及化学镀镍工艺试验,研究了HF含量和浸泡时间对陶瓷表面粗化效果的影响,以及表面粗糙度与镀镍层形貌、结合强度之间的关系。结果表明:氧化锆精密陶瓷的表面粗糙度随着HF含量的增加和浸泡时间的延长而增加,且呈现浸泡初期和高HF含量时粗化速率更快的特点;随着表面粗糙度的增加,化学镀镍逐渐转向以胞状生长为主的方式形成沉积层,镀镍层的结合强度也不断提高。 展开更多
关键词 锆精密陶瓷 学镀镍 表面 结合强度
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钛合金表面粗化对WC-17Co涂层结合性能的影响 被引量:4
7
作者 纪朝辉 王宏洋 +1 位作者 孙振 丁坤英 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第5期77-81,共5页
研究Ti-6Al-4V合金表面不同粗糙度对超音速火焰喷涂(HVOF)碳化钨(WC-17Co)涂层结合性能的影响.采用不同喷砂工艺对钛合金表面进行粗化预处理,得到1,2和3号试样的表面粗糙度分别为22.003,20.845和14.765μm.利用超音速火焰喷涂技术在粗... 研究Ti-6Al-4V合金表面不同粗糙度对超音速火焰喷涂(HVOF)碳化钨(WC-17Co)涂层结合性能的影响.采用不同喷砂工艺对钛合金表面进行粗化预处理,得到1,2和3号试样的表面粗糙度分别为22.003,20.845和14.765μm.利用超音速火焰喷涂技术在粗化后的钛合金表面制备WC-17Co涂层,厚度为0.3 mm.对WC-17Co/Ti-6Al-4V试样进行三点弯曲试验,利用扫描电镜观察界面形貌.结果表明,3号试样的界面裂纹扩展最严重并引起了部分涂层脱落,2号试样结合最好;采用四点弯曲法测试涂层与基体的结合界面的断裂能量释放率分别为239.7,259.0和200.1 J/m^2. 展开更多
关键词 表面 超音速火焰喷涂 钛合金 四点弯曲 结合性能
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溶胀条件对聚碳酸酯表面粗化效果的影响 被引量:2
8
作者 夏曙光 李志新 王增林 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2011年第6期29-32,共4页
聚碳酸酯表面金属化处理后广泛应用于生产、生活的各个领域。利用环境友好的二氧化锰-硫酸微蚀体系,研究了溶胀处理过程中,溶胀液组成、溶胀条件及微蚀时间对聚碳酸酯表面粗化效果的影响。利用扫描电镜对其溶胀效果进行评价,从而得到理... 聚碳酸酯表面金属化处理后广泛应用于生产、生活的各个领域。利用环境友好的二氧化锰-硫酸微蚀体系,研究了溶胀处理过程中,溶胀液组成、溶胀条件及微蚀时间对聚碳酸酯表面粗化效果的影响。利用扫描电镜对其溶胀效果进行评价,从而得到理想的聚碳酸酯表面粗化溶胀效果。 展开更多
关键词 聚碳酸酯 溶胀 表面 粘结强度 二氧 硫酸
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粗化条件对聚碳酸酯表面粗化效果的影响 被引量:2
9
作者 夏曙光 李志新 王增林 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2011年第8期1-4,共4页
在环境友好的硫酸-二氧化锰粗化体系中,研究了硫酸浓度、粗化温度、粗化时间等条件对聚碳酸酯表面粗化效果的影响。通过扫描电镜、润湿接触角测定和化学镀铜膜与基板间的粘接强度的测定对其粗化效果进行评价。研究结果表明,当c(H2SO4)为... 在环境友好的硫酸-二氧化锰粗化体系中,研究了硫酸浓度、粗化温度、粗化时间等条件对聚碳酸酯表面粗化效果的影响。通过扫描电镜、润湿接触角测定和化学镀铜膜与基板间的粘接强度的测定对其粗化效果进行评价。研究结果表明,当c(H2SO4)为12.3mol/L,ρ(MnO2)为50g/L,粗化θ为75℃,经过大约20min的表面粗化,可以使聚碳酸酯表面的化学镀铜膜的粘接强度达1.62kN/m,远超过传统的、对环境有害的铬酐-硫酸粗化体系。 展开更多
关键词 聚碳酸酯 表面 粘接强度 二氧 硫酸
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氧化锆的表面粗化和改性 被引量:19
10
作者 杜桥 牛光良 《国际口腔医学杂志》 CAS 北大核心 2015年第1期97-101,共5页
为提高氧化锆与粘接材料间的粘接强度,研究的着眼点主要集中在氧化锆的表面处理,包括表面粗化和表面改性。表面粗化包括表面喷砂、选择性渗透蚀刻和Nobelbond技术,旨在增加氧化锆表面粗糙度或使表面形成孔隙,从而增加其机械嵌合力。表... 为提高氧化锆与粘接材料间的粘接强度,研究的着眼点主要集中在氧化锆的表面处理,包括表面粗化和表面改性。表面粗化包括表面喷砂、选择性渗透蚀刻和Nobelbond技术,旨在增加氧化锆表面粗糙度或使表面形成孔隙,从而增加其机械嵌合力。表面改性包括内涂层技术及各种途径的硅涂层技术(化学摩擦法、热分解法、溶胶凝胶法、四氯化硅蒸汽法),旨在增加氧化锆表面硅元素含量,通过硅烷偶联剂提高其与树脂粘接剂间化学结合力。本文就近年来氧化锆表面处理方法进行综述,旨在帮助口腔医师更好地将氧化锆材料应用于临床。 展开更多
关键词 粘接强度 表面 表面改性
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ITO表面微元粗化对GaN基LED光效的改善
11
作者 孙少娇 牛萍娟 邢海英 《天津工业大学学报》 CAS 北大核心 2012年第6期64-67,共4页
针对定量分析LED表面粗化尺寸及其形状对出光效率的影响这一难题,采用Lighttools软件,利用蒙特卡洛光线追迹方法,模拟仿真了传统LED以及4种不同表面粗化微元结构LED的出光效率和光场分布.模拟结果显示,LED的粗化在最佳尺寸下可以将LED... 针对定量分析LED表面粗化尺寸及其形状对出光效率的影响这一难题,采用Lighttools软件,利用蒙特卡洛光线追迹方法,模拟仿真了传统LED以及4种不同表面粗化微元结构LED的出光效率和光场分布.模拟结果显示,LED的粗化在最佳尺寸下可以将LED的发光效率提高到70%,该结果对提高GaN基LED的发光效率具有一定的参考价值和指导意义. 展开更多
关键词 外量子效率 发光效率 表面 微元结构
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清水冲刷下河床粗化试验研究评述 被引量:9
12
作者 杨文俊 孟震 朱帅 《泥沙研究》 CSCD 北大核心 2019年第3期73-80,共8页
河床粗化问题是推移质运动研究的重要组成部分,由于河床级配、水流条件、输沙级配、床面形态四者互为反馈,交互制约,该领域一直为研究前沿。本文回顾及评述了河床粗化试验研究中的河床粗化机理、推移质输沙率、输沙级配、粗化层表面形... 河床粗化问题是推移质运动研究的重要组成部分,由于河床级配、水流条件、输沙级配、床面形态四者互为反馈,交互制约,该领域一直为研究前沿。本文回顾及评述了河床粗化试验研究中的河床粗化机理、推移质输沙率、输沙级配、粗化层表面形态、粗化层非均匀沙起动条件、粗化层泥沙级配沿径向分布、可动层内床沙垂向交换,以及粗化河床对"人工喂沙"的响应等八个关键科学问题。河床粗化涉及许多不确定未知因素,成体系的理论成果之所以不足,主要在于精密试验资料的匮乏。精密粗化试验是很难突破的瓶颈,跨学科交叉技术的应用和先进量测仪器的研发将是解决这一复杂问题的有力手段。 展开更多
关键词 河床过程输沙率 输沙级配 表面形态 床沙垂向交换 精密试验
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粗化玻璃基板对OLED的影响 被引量:3
13
作者 邱西振 张方辉 +1 位作者 丁磊 张静 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期168-172,共5页
研究了粗化玻璃对有机电致发光器件的影响,分别在玻璃基板的平滑面及粗糙面上制作有机电致发光器件。所制备的器件结构为Al(15nm)/MoO3(60nm)/NPB(40nm)/Alq3∶C545T(2%,30nm)/Alq3(20nm)/LiF(1nm)/Al(100nm)。从电流密度-电压-亮度性... 研究了粗化玻璃对有机电致发光器件的影响,分别在玻璃基板的平滑面及粗糙面上制作有机电致发光器件。所制备的器件结构为Al(15nm)/MoO3(60nm)/NPB(40nm)/Alq3∶C545T(2%,30nm)/Alq3(20nm)/LiF(1nm)/Al(100nm)。从电流密度-电压-亮度性能及光谱特性等方面对两种器件进行了对比分析。实验结果显示:当蒸镀面为平面时,电流密度及亮度均比粗面型高,其最高亮度达到24 410cd/m2。不同蒸镀面器件的相对光谱几乎没有变化,但粗面型器件存在黑斑,对其产生的原因进行了探讨。 展开更多
关键词 有机电致发光 表面 玻璃基板 出光率
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碳纤维复合材料的等离子粗化工艺研究 被引量:2
14
作者 吴礼群 魏无际 陈旭 《现代雷达》 CSCD 北大核心 2012年第11期81-83,共3页
表面粗化程度是决定碳纤维复合材料金属化镀层结合力好坏的关键。文中对碳纤维复合材料表面开展了机械粗化、化学粗化和等离子粗化试验,对处理后的外观、水膜破裂时间及温度循环试验结果进行比较,找到最适合碳纤维复合材料的粗化工艺。... 表面粗化程度是决定碳纤维复合材料金属化镀层结合力好坏的关键。文中对碳纤维复合材料表面开展了机械粗化、化学粗化和等离子粗化试验,对处理后的外观、水膜破裂时间及温度循环试验结果进行比较,找到最适合碳纤维复合材料的粗化工艺。在等离子粗化试验中,对等离子处理的放电电流、处理时间进行对比,最终得到等离子处理碳纤维复合材料表面的最佳工艺参数。 展开更多
关键词 碳纤维 复合材料 表面 等离子处理
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不同表面处理对氧化锆与饰面瓷结合强度的影响
15
作者 史振宇 蒋森河 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第8期210-217,272,共9页
目的探究热酸蚀表面处理对提高双层瓷复合结构剪切强度的影响。方法将40个氧化锆样件随机分为4组,A组为喷砂组,B组为热酸蚀组,C组为喷砂+热酸蚀组,D组为空白对照组。4组氧化锆瓷块经不同方式表面处理后,各组随机抽取一块,采用SEM扫描电... 目的探究热酸蚀表面处理对提高双层瓷复合结构剪切强度的影响。方法将40个氧化锆样件随机分为4组,A组为喷砂组,B组为热酸蚀组,C组为喷砂+热酸蚀组,D组为空白对照组。4组氧化锆瓷块经不同方式表面处理后,各组随机抽取一块,采用SEM扫描电镜、EDS能谱仪、X射线衍射仪分析观察氧化锆与饰面瓷的结合情况;使用电子万能试验机记录瞬时剪切力,利用压强计算公式求得剪切强度值;采用SPSS 20.0对数据进行统计学分析,检验水准为α=0.05。结果热酸蚀组的处理表面形成含大量孔隙的三维网状结构,表面粗糙度(Ra=0.489μm)较对照组(0.316μm)提高了54.75%,断裂模式以内聚断裂为主且饰面瓷残留比例最高,单斜相氧化锆的相变比例为12.57%,低于其余2组实验组,剪切强度值((25.43±1.57)MPa)为4组中最大,较打磨对照组提高了66.86%(P<0.05)。喷砂+热酸蚀组的表面粗糙度Ra=0.634μm,为4组中最大,处理表面呈现明显的山脊和凹坑,表面完整性存在一定缺失。喷砂组的粘接面有明显的Al2O3颗粒残留,表面粗糙度(Ra=0.521μm)较热酸蚀组提高了6.54%,两者的组间差异不具有统计学意义(P>0.05)。打磨对照组的表面粗糙度和剪切强度均明显低于其余3组(P<0.05)。结论热酸蚀表面处理造成的粘接面晶相转变和微裂纹最少,可有效提高锆瓷-饰瓷双层结构的粘接强度,适宜作为氧化锆表面处理方式。 展开更多
关键词 表面 热酸蚀 晶相转变 粘接强度 生物力学
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PVD法制备6.5%Si高硅钢过程合金磁性能演化机理研究 被引量:1
16
作者 马天国 李辉 +1 位作者 田广科 毕晓昉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期196-199,204,共5页
PVD法制备Fe-6.5%Si(质量分数,下同)高硅钢过程基片预处理工艺以及Si渗入对合金的软磁性能均有显著影响.采用磁损耗分离的方法剖析铁硅合金磁性变化的内在机理.采用四探针方法测试合金的电阻率;采用基于热分析仪(DSC)配置永磁场技... PVD法制备Fe-6.5%Si(质量分数,下同)高硅钢过程基片预处理工艺以及Si渗入对合金的软磁性能均有显著影响.采用磁损耗分离的方法剖析铁硅合金磁性变化的内在机理.采用四探针方法测试合金的电阻率;采用基于热分析仪(DSC)配置永磁场技术测量热重(TG)曲线确定合金的居里温度;采用振动样品磁强计(VSM)测定了材料的饱和质量磁矩;采用直流测试装置和硅钢测试仪测试合金的直流交流软磁性能.PVD法制备6.5%Si高硅钢最大磁导率达到16400,相比于初始态3%低硅钢基片,铁损值降低40%-50%. 展开更多
关键词 6.5%Si高硅钢 磁控溅射 表面 软磁性能 机理
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用于氮化镓发光二极管窗口层的铝掺杂氧化锌的生长(英文) 被引量:2
17
作者 吴嘉城 林伯融 +2 位作者 陈采宁 游亭恩 武东星 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期508-512,共5页
因应新时代电子产品的需求,透明导电薄膜(Transparent Conductive Oxides,TCO)的应用也更加广泛,传统上是使用氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)薄膜为透明导电薄膜,但其在高温应用上较不稳定并且易放出毒性,因此,铝掺杂氧化... 因应新时代电子产品的需求,透明导电薄膜(Transparent Conductive Oxides,TCO)的应用也更加广泛,传统上是使用氧化铟锡(Indium Tin Oxide,ITO)薄膜为透明导电薄膜,但其在高温应用上较不稳定并且易放出毒性,因此,铝掺杂氧化锌薄膜(ZnO:AI,AZO)有逐渐取代ITO的趋势。本论文将探讨掺杂不同铝含量的影响,并且就其光电特性加以说明,最后得到其光的透过率-85%、电阻率-7.3×10^-3Ω·cm以及面粗糙度-28nm的铝掺杂氧化锌薄膜,其具有表面粗化、电流分布层及窗口层的作用。并且将掺铝的氧化锌薄膜应用于氮化镓发光二极管上,以掺铝氧化锌微结构作为透明传导层的氮化镓发光二极管(λD=530nm,300×300μm)在20mA的工作电流下,其正向电压值为3.3V,输出功率达1.7mW,并且由光学显微镜图可以得知,小电流注下其电流分布均匀。若将AZO制作参数再作适当优化调整,取代ITO作为P型氮化镓上的透明传导层的可行性应该很高。 展开更多
关键词 铝掺杂氧锌薄膜 表面 电流分布层 窗口层
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复合材料胶接表面的树脂砂吹砂工艺研究 被引量:1
18
作者 李娅媛 祝君军 +2 位作者 徐伟伟 李博 罗辑 《复合材料科学与工程》 CAS 北大核心 2021年第9期94-98,共5页
本文通过对不同粗化方式和不同吹砂次数后的复合材料表面形貌和胶接强度进行研究,对比了目前常用的复合材料粗化方式的差异,并分析了吹砂次数对胶接强度的影响机理,探讨了树脂砂回收利用的可行性。结果表明,树脂砂吹砂能够有效去除表面... 本文通过对不同粗化方式和不同吹砂次数后的复合材料表面形貌和胶接强度进行研究,对比了目前常用的复合材料粗化方式的差异,并分析了吹砂次数对胶接强度的影响机理,探讨了树脂砂回收利用的可行性。结果表明,树脂砂吹砂能够有效去除表面树脂而不伤及纤维,且粗化程度均匀。提高吹砂次数可在一定程度上提高粗化效果,但过度吹砂会损伤纤维反而降低胶接强度,最佳的吹砂次数为二次。对于回收利用的树脂砂,可通过提高吹砂次数来达到首次吹砂的效果。 展开更多
关键词 复合材料 胶接 表面 树脂砂
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开拓塑性成形制造极限共性关键理论及其实践——解读Deformation-based Processing of Materials:Behavior,Performance,Modeling,and Control 被引量:1
19
作者 李恒 傅铭旺 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第9期1131-1133,共3页
导语随着航空、航天、能源、汽车、电子产品和生物医学工程等领域的持续发展,迫切需要其高端装备关键构件具有高性能、轻量化和高功效等特性,同时要求缩短产品设计开发周期、降低生产成本和实现绿色、智能制造。基于变形特有的体积转移... 导语随着航空、航天、能源、汽车、电子产品和生物医学工程等领域的持续发展,迫切需要其高端装备关键构件具有高性能、轻量化和高功效等特性,同时要求缩短产品设计开发周期、降低生产成本和实现绿色、智能制造。基于变形特有的体积转移和组织调控优势的材料加工技术即塑性成形方法,具有生产效率高、生产成本低、材料利用率高、产品性能好、服役性能强和产品技术附加值高等优点,成为先进制造领域的基础支撑技术,也是成形制造高端装备关键构件不可替代关键生产工艺。Deformation-based Processing of Materials:Behavior,Performance,Modeling,and Control一书围绕材料变形中宏微观成形缺陷预测和控制这一制约成形精度和极限的关键共性问题,从非均匀变形、损伤断裂、压缩失稳、回弹、表面粗化、流动缺陷、微结构异常缺陷7个方面,系统阐述了材料不均匀变形的现象和机理、材料和成形过程多尺度建模仿真优化,并通过案例阐述了新提出的理论和技术在实际中的应用情况,最后讨论了基于变形的材料加工技术的发展趋势及面临的挑战。 展开更多
关键词 材料加工技术 生物医学工程 多尺度建模 塑性成形 智能制造 非均匀变形 材料利用率 表面
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非接触电场制备高透明疏水PVA薄膜
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作者 王金露 刘少琛 +1 位作者 刘学清 刘继延 《塑料工业》 CAS CSCD 北大核心 2023年第6期164-168,共5页
聚乙烯醇(PVA)薄膜因其高透明、良好的力学性能以及环保无污染的水溶液成膜过程,在柔性显示器件中具有潜在的应用前景。采用非接触电场诱导PVA溶液薄膜表面热扰动,使聚合物表面形貌发生改变。探讨电压对表面形貌、薄膜透光性、粗糙度、... 聚乙烯醇(PVA)薄膜因其高透明、良好的力学性能以及环保无污染的水溶液成膜过程,在柔性显示器件中具有潜在的应用前景。采用非接触电场诱导PVA溶液薄膜表面热扰动,使聚合物表面形貌发生改变。探讨电压对表面形貌、薄膜透光性、粗糙度、表面接触角以及力学性能的影响。利用原子力显微镜表征表面的形貌和粗糙度,紫外可见分光光度计(含积分球)测试薄膜的透光率,表面张力仪测试接触角,纳米压痕仪测试微米尺度模量,X射线衍射仪测试薄膜的结晶性。结果显示:在700 V的空间电场作用下,PVA表面粗糙度为1.486 nm,接触角116.5°,可见光透过率94.25%。而未施加电场的PVA薄膜上述指标分别为0.206 nm、70.4°和86.23%。此外,施加电场后薄膜的弹性模量与硬度以及结晶行为未发生变化。 展开更多
关键词 聚乙烯醇 空间电场 表面 透过率 疏水性
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