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基于石墨烯/铟砷量子点/砷化镓异质结新型光电探测器(英文) 被引量:2
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作者 胡之厅 甘桃 +7 位作者 杜磊 张家振 徐煌 韩赛垒 徐鹤靓 刘锋 陈永平 陈刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期269-274,289,共7页
研究了一种石墨烯/铟砷量子点/砷化镓界面形成的异质结探测器的暗电流特性以及光电响应性质.虽然石墨烯具有很高的电子迁移率,但受限于较低的光子吸收率,使其在光电探测领域的应用受到了限制.而半导体量子点具有量子效率高,光吸收能力... 研究了一种石墨烯/铟砷量子点/砷化镓界面形成的异质结探测器的暗电流特性以及光电响应性质.虽然石墨烯具有很高的电子迁移率,但受限于较低的光子吸收率,使其在光电探测领域的应用受到了限制.而半导体量子点具有量子效率高,光吸收能力强等独特优点.于是利用石墨烯-砷化铟量子点-砷化镓异质结结构制备了一种新型光电探测器.并对该探测器的响应率、I-V 特性曲线、暗电流特性、探测率、开关比等关键性能进行了研究.其在637 nm 入射光情况下的响应率、探测率以及开关比可分别达到为17. 0 mA/W、2. 3 × 1010cmHz1 /2 W- 1 和1 × 103 .而当入射光为近红外波段的940 纳米时,响应率进一步增加到了207 mA/W.同时,还证实了该器件的暗电流、肖特基势垒高度和理想因子对温度的都具有较高的依赖性都较强. 展开更多
关键词 石墨烯 量子点 异质 肖特基
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基于碳纳米薄膜/砷化镓范德华异质结的高性能自驱动光电探测器研究 被引量:4
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作者 霍婷婷 张冬冬 +3 位作者 施祥蕾 潘宇 孙利杰 苏言杰 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第2期373-386,共14页
基于碳纳米材料/体半导体范德华(vdW)异质结的光电器件可以同时实现碳纳米材料的超高载流子迁移率以及体半导体的优异光电性能,且具有结构简单、工艺简便、易于调控界面等优点。尤其是通过调控单壁碳纳米管(SWCNT)的直径/手性、费米能... 基于碳纳米材料/体半导体范德华(vdW)异质结的光电器件可以同时实现碳纳米材料的超高载流子迁移率以及体半导体的优异光电性能,且具有结构简单、工艺简便、易于调控界面等优点。尤其是通过调控单壁碳纳米管(SWCNT)的直径/手性、费米能级等可以与体半导体形成能带匹配、具有原子级界面的新型混合维度vdW异质结。本文报道了一种基于(6,5)手性为主的SWCNT薄膜与n型GaAs所形成的pn结的宽光谱自驱动光电探测器,并利用石墨烯降低SWCNT薄膜内载流子的复合几率和促进载流子传输。实验结果表明,器件对405~1064 nm波段光子表现出高灵敏的光电响应,零偏压条件下最大光电响应度和比探测率分别可达1.214 A/W和2×10^(12) Jones。 展开更多
关键词 范德华异质 单壁碳纳米管 自驱动光电探测器
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用电化学C-V技术研究Ga In P/GaAs异质结界面特性 被引量:1
3
作者 朱文珍 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第4期56-58,共3页
本文用电化学C-V剖面技术研究了接近器件结构的n-nGa0.5In0.5P/GaAs同型异质结的界面特性,测量了载流子浓度分布,用多项式逐段拟合的方法,计算得到异质结界面电势差VΦ为491meV,界面固定电荷σ为-4... 本文用电化学C-V剖面技术研究了接近器件结构的n-nGa0.5In0.5P/GaAs同型异质结的界面特性,测量了载流子浓度分布,用多项式逐段拟合的方法,计算得到异质结界面电势差VΦ为491meV,界面固定电荷σ为-4.46×1011cm-2,并推算出导带差△Ec为126meV,相应于△Ec=0.28△Eg。 展开更多
关键词 异质界面 导带差 学C-V GAINP
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GaAs/AlGaAs异质结中二维电子气的回旋共振研究 被引量:2
4
作者 陈张海 胡灿明 +5 位作者 刘普霖 史国良 陆卫 张波 石晓红 沈学础 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期107-113,共7页
采用栅压比谱的方法,研究了GaAs/AlGaAs异质结中二维电子气(2DEG)的回旋共振。观察到由于子能带-朗道能级耦合所引起的回旋共振峰强度随磁场的振荡行为.由回旋共振频率ωc确定了子能带电子的回旋共振有效质量m*... 采用栅压比谱的方法,研究了GaAs/AlGaAs异质结中二维电子气(2DEG)的回旋共振。观察到由于子能带-朗道能级耦合所引起的回旋共振峰强度随磁场的振荡行为.由回旋共振频率ωc确定了子能带电子的回旋共振有效质量m*,通过对共振峰线形的拟合,获得二维电子气浓度Ns、电子散射时间τ和迁移率μ.由子能带-朗道能级的共振耦合测量了不同栅压下的多个子能带间的能量间距. 展开更多
关键词 异质 二维电子气 回旋共振 能带
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生长速率对低压MOCVD外延生长GaAs/Ge异质结的影响 被引量:3
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作者 汪韬 李宝霞 +2 位作者 李晓婷 赛小锋 高鸿楷 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第12期1479-1482,共4页
采用自制的液相金属氧化物化学汽相沉积 (LP MOCVD)设备 ,在Ge( 1 0 0 )向 ( 1 1 0 )面偏 9°外延生长出GaAs单晶外延层 ,对电池材料进行了X射线衍射测试分析 ,半峰宽为 5 2″ 讨论了外延生长参量对GaAs/Ge的影响 ,表明抑制反向畴... 采用自制的液相金属氧化物化学汽相沉积 (LP MOCVD)设备 ,在Ge( 1 0 0 )向 ( 1 1 0 )面偏 9°外延生长出GaAs单晶外延层 ,对电池材料进行了X射线衍射测试分析 ,半峰宽为 5 2″ 讨论了外延生长参量对GaAs/Ge的影响 ,表明抑制反向畴不仅与过渡层有关 ,而且与GaAs单晶外延生长参量有关 展开更多
关键词 生长速率 低压MOCVD 外延生长 异质 液相金属氧学汽相沉积 GAAS/GE 反向畴 半导体 太阳电池
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InAs和InAs/GaSb异质结的MOCVD生长和表征 被引量:1
6
作者 周天明 张宝林 +3 位作者 蒋红 宁永强 李树纬 金亿鑫 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期223-227,共5页
以三甲基铟(TMIn)、砷烷(AsH3)、三甲基镓(TMGa)和三甲基锑(TMSb)为源,用水平常压MOCVD技术,在较低的Ⅴ/Ⅲ比的条件下(1.5~4)于GaAs和GaSb衬底上成功地生长了InAs合金和InAs/... 以三甲基铟(TMIn)、砷烷(AsH3)、三甲基镓(TMGa)和三甲基锑(TMSb)为源,用水平常压MOCVD技术,在较低的Ⅴ/Ⅲ比的条件下(1.5~4)于GaAs和GaSb衬底上成功地生长了InAs合金和InAs/GaSb异质结.实验表明,生长温度在500℃~620℃范围内,InAs外延生长是扩散控制的.在Ⅴ/Ⅲ比为2.5时,生长效率(相对Ⅲ族源)为3×103μm/mol.不掺杂InAs外延层为n型的,室温迁移率为2000cm2/V.s.InAs/GaSb异质结的12KPL谱为一个在375meV处较宽的与杂质相关的跃迁峰。 展开更多
关键词 MOCVD 异质 红外光电材料
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Ar^+离子注入对Ge/GaAs(100)异质结能带偏离影响的XPS研究
7
作者 徐世红 刘先明 +4 位作者 朱警生 麻茂生 张裕恒 徐彭寿 许振嘉 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1993年第4期442-446,共5页
用X光电子能谱(XPS)方法研究了界面特性和Ge/GaAs(100)异质结的能带偏离关系。实验表明,当在清洁的GaAs(100)表面生长Ge异质结时,其价带偏离(△E_v)与界面特性无关,而在Ar离子注入的GaAs(100)表面上生长的Ge异质结,其价带偏离与Ar^+离... 用X光电子能谱(XPS)方法研究了界面特性和Ge/GaAs(100)异质结的能带偏离关系。实验表明,当在清洁的GaAs(100)表面生长Ge异质结时,其价带偏离(△E_v)与界面特性无关,而在Ar离子注入的GaAs(100)表面上生长的Ge异质结,其价带偏离与Ar^+离子的浓度分布有关。 展开更多
关键词 异质 能带 离子注入
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P-AlGaAs/n-GaAs异质结载流子输运机理
8
作者 朱文章 刘士毅 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期34-38,共5页
在20~300K的温度内测量了P-AlGaAs/n-GaAs异质结伏安特性和光伏谱随温度的变化,认为在正偏压下,通过p-n结的载流子输运过程有隧穿复合和扩散两个机构参与,对实验数据进行拟合,计算一些重要参数。
关键词 异质 载流子 输运
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光生电压谱方法对ZnSe/GaAs异质结导带偏移的研究
9
作者 谌达宇 王建宝 +2 位作者 靳彩霞 陆日方 孙恒慧 《电子显微学报》 CAS CSCD 1997年第4期389-390,共2页
光生电压谱方法对ZnSe/GaAs异质结导带偏移的研究谌达宇王建宝靳彩霞陆日方孙恒慧(复旦大学应用表面物理国家重点实验室,李政道综合物理实验室)对宽禁带ⅡⅥ族半导体异质结、量子阱和超晶格材料的研究是人们感兴趣的课题... 光生电压谱方法对ZnSe/GaAs异质结导带偏移的研究谌达宇王建宝靳彩霞陆日方孙恒慧(复旦大学应用表面物理国家重点实验室,李政道综合物理实验室)对宽禁带ⅡⅥ族半导体异质结、量子阱和超晶格材料的研究是人们感兴趣的课题。由于ZnSe/GaAs异质结导带... 展开更多
关键词 异质 异常偏移 光生电压谱
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GaAs/Ga_xAl_(1-x)As异质结的调制反射光谱研究
10
作者 章灵军 沈学础 陆飞 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1993年第5期363-370,共8页
用光调制光谱方法研究了逐层腐蚀的GaAs/Ga_(1-x)Al_xAs异质结,发现不同厚度的GaAs复盖层对异质结表面层电子能带有很大影响,由GaAs带间跃迁的Franz-Keldysh效应计算出表面层表面电场随外延层的变薄而增大,并计算出表面费密能级与导带... 用光调制光谱方法研究了逐层腐蚀的GaAs/Ga_(1-x)Al_xAs异质结,发现不同厚度的GaAs复盖层对异质结表面层电子能带有很大影响,由GaAs带间跃迁的Franz-Keldysh效应计算出表面层表面电场随外延层的变薄而增大,并计算出表面费密能级与导带底的距离f=0.27(0.03)eV,通过对Ga_(1-x)Al_xAs调制光谱的分析,发现表面复盖层对Ga_(1-x)Al_xAs层的调制光谱线形有调节作用,不同厚度的复盖层使PR线形发失变化,这与考虑干涉效应后的理论预计线形一致。 展开更多
关键词 异质 调制光谱 能带
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拉曼-光荧光光谱热壁外延生长GaAs/Si薄膜晶体质量研究 被引量:4
11
作者 谭红琳 张鹏翔 +1 位作者 刘翔 吴长树 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期498-500,共3页
本文研究了用热壁外延 (HWE)技术在Si衬底上、不同工艺条件生长的GaAs薄膜的拉曼 (Raman)和光荧光 (PL)光谱。研究表明 :在室温下 ,GaAs晶膜的拉曼光谱的 2 6 5cm-1横声子 (TO)峰和 2 90cm-1纵声子(LO)峰的峰值和面积之比随晶膜质量的... 本文研究了用热壁外延 (HWE)技术在Si衬底上、不同工艺条件生长的GaAs薄膜的拉曼 (Raman)和光荧光 (PL)光谱。研究表明 :在室温下 ,GaAs晶膜的拉曼光谱的 2 6 5cm-1横声子 (TO)峰和 2 90cm-1纵声子(LO)峰的峰值和面积之比随晶膜质量的变好而逐渐变大、FWHM变窄且峰值频移变小 ,而PL光谱出现在 90 0nm光谱的FWHM较窄 ,这表明所测得的薄膜为单晶晶膜。在另外一些工艺条件下生长的GaAs薄膜拉曼光谱峰形好 ,但测不出PL光谱 ,所生的膜不是单晶。同时对同一晶膜也可判断出其均匀程度。因此我们可以通过拉曼光谱和荧光光谱相结合评定外延膜晶体质量。 展开更多
关键词 拉曼光谱 半导体薄膜 荧光光谱 半高宽 异质 外延生长 GAAS/SI /硅
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Hg_(1-x)Cd_xTe多层薄膜材料结构缺陷的透射电子显微镜测定
12
作者 于福聚 《红外技术》 EI CSCD 北大核心 1998年第1期9-12,47,共5页
用透射电镜对Hg1-xCdTe/CdTe和CdTe/GaAs两种异质结的横截面进行了观测分析,对异质结附近的某些结构缺陷,如微孪晶的尺寸、几何形态、层错、界面失配位错的组态特征进行了研究,并对多层膜之间的取向差进行了... 用透射电镜对Hg1-xCdTe/CdTe和CdTe/GaAs两种异质结的横截面进行了观测分析,对异质结附近的某些结构缺陷,如微孪晶的尺寸、几何形态、层错、界面失配位错的组态特征进行了研究,并对多层膜之间的取向差进行了分析。说明在GaAs衬底上用分子束外延法制备的Hg1-xCdxTe/CdTe/GaAs多层膜,就大量结构缺陷而言,CdTe缓冲层对Hg1-xCdxTe外延层起到了屏障作用。在Hg1-xCdxTe/CdTe和CdTe/GaAs异质结之间所存在的生长取向差分别取决于其两者间的晶格失配度,一般说来,晶格失配度越大两者间的生长取向差就越大。另外,对CdTe缓冲层中堆垛层错和孪晶的相互作用也进行了讨论。 展开更多
关键词 碲镉汞 多层膜异质 构缺陷
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应用于WiFi6的新型高线性度功率放大器设计 被引量:1
13
作者 姚凤薇 焦凌彬 《微波学报》 CSCD 北大核心 2024年第1期93-98,共6页
针对WiFi 6的设备需求,设计了一款工作在5.15 GHz~5.85 GHz的高线性度砷化镓异质结双极型晶体管射频功率放大器。为了保证大信号和高温下功率管静态工作点的稳定性,采用了一种新型有源自适应偏置电路。对射频功率检测电路进行了设计和改... 针对WiFi 6的设备需求,设计了一款工作在5.15 GHz~5.85 GHz的高线性度砷化镓异质结双极型晶体管射频功率放大器。为了保证大信号和高温下功率管静态工作点的稳定性,采用了一种新型有源自适应偏置电路。对射频功率检测电路进行了设计和改进,有效降低了射频系统的功耗。针对各次谐波分量产生的影响,对输出匹配网络进行了优化。仿真结果表明:该射频功率放大器芯片小信号增益达到了32.6 dB;在中心频率5.5 GHz时1 dB压缩点功率为30.4 dBm,功率附加效率超过27.9%;输出功率为26 dBm时,三阶交调失真低于-40 dBc。实测数据表明:小信号增益大于31.4 dB;5.5 GHz时1 dB压缩点功率为29.06 dBm;输出功率为26 dBm时,三阶交调失真低于-30 dBc。当输出功率为20 dBm时,二次三次谐波抑制到-30 dBc和-45 dBc。 展开更多
关键词 砷化镓异质结双极型晶体管 偏置电路 功率检测电路 匹配网络 高线性度
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6 GHz~18 GHz中功率放大器芯片的设计与实现
14
作者 李鑫 肖曼琳 +1 位作者 蒋明 杜鑫威 《现代雷达》 CSCD 北大核心 2024年第11期105-109,共5页
设计并实现了一款高性能的宽带中功率放大器芯片,该芯片采用0.25μm砷化镓赝调制掺杂异质结场效应晶体管工艺,并通过运用共源共栅电路结构,显著提升了放大器的增益水平。同时,引入负反馈技术,有效改善了增益的平坦度,极大地拓宽了放大... 设计并实现了一款高性能的宽带中功率放大器芯片,该芯片采用0.25μm砷化镓赝调制掺杂异质结场效应晶体管工艺,并通过运用共源共栅电路结构,显著提升了放大器的增益水平。同时,引入负反馈技术,有效改善了增益的平坦度,极大地拓宽了放大器的工作带宽范围,使其能够覆盖从6 GHz~18 GHz的广泛频段,满足多样化的无线通信及雷达系统需求。实测数据表明,该芯片在指定频段内实现了稳定的17±0.3 dB增益,输入输出回波损耗均优于-10 dB,展现出了卓越的匹配性能。在5 V工作电压下,电流消耗仅为63 mA,且1 dB压缩点输出功率高达15 dBm,确保了在高功率输出时的稳定性与可靠性。此外,芯片设计紧凑,面积仅为1.94 mm×1.08 mm,为系统集成提供了极大的便利。 展开更多
关键词 Ku波段 中功率放大器 赝调制掺杂异质场效应晶体管工艺 共源共栅 单片微波集成电路
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一种新型微波宽带压控振荡器的设计 被引量:4
15
作者 孙高勇 要志宏 +1 位作者 郭文胜 张加程 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第8期586-589,635,共5页
提出了一种提高微波宽带压控振荡器(VCO)稳定性的方法。压控振荡器采用了从谐振电路输出的结构,并与后级缓冲放大电路之间加入了一个匹配电路,从而可有效提高宽带振荡器的稳定性,改善振荡器的温度特性。基于此电路结构,采用Ga As HBT... 提出了一种提高微波宽带压控振荡器(VCO)稳定性的方法。压控振荡器采用了从谐振电路输出的结构,并与后级缓冲放大电路之间加入了一个匹配电路,从而可有效提高宽带振荡器的稳定性,改善振荡器的温度特性。基于此电路结构,采用Ga As HBT工艺设计了一款微波宽带压控振荡器芯片。为拓宽振荡器的工作频带和降低相位噪声,使用片外Ga As超突变结、高Q值变容二极管。该宽带压控振荡器芯片实测结果显示,在调谐电压为1.5~15 V内,可实现输出频率覆盖13~19 GHz,调谐线性度≤2.5∶1,调谐电压8 V时相位噪声为-89 d Bc/Hz@100 k Hz。该压控振荡器工作电压为5 V,工作电流为65 m A,19 GHz频率点处输出功率在85℃环境温度下比在25℃环境温度下仅下降2 d B,具有良好的温度稳定性。 展开更多
关键词 宽带 压控振荡器(VCO) 匹配电路 稳定性 砷化镓异质结双极型晶体管
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基于负阻MMIC的新型VCO研制 被引量:9
16
作者 郭文胜 陈君涛 邓海丽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第12期909-912,933,共5页
提出了一种基于负阻单片微波集成电路的新型压控振荡器(VCO)的设计方法,即负阻电路采用GaAs HBT工艺设计流片,调谐选频电路采用薄膜混合集成工艺制作。利用微封装技术将二者结合构成完整的VCO。这种新型VCO既具有单片微波集成电路的小... 提出了一种基于负阻单片微波集成电路的新型压控振荡器(VCO)的设计方法,即负阻电路采用GaAs HBT工艺设计流片,调谐选频电路采用薄膜混合集成工艺制作。利用微封装技术将二者结合构成完整的VCO。这种新型VCO既具有单片微波集成电路的小型化、低成本的优势,又保持了薄膜混合集成电路可灵活调试的特性。通过设计流片数款在不同频段的负阻单片微波集成电路,可完成频率1~18 GHz、小型化、系列化VCO的研制。X波段宽带VCO的实测结果显示,当电调电压在2~13 V变化时输出频率覆盖8~12.5 GHz,调谐线性度为2∶1,电调电压5 V时相位噪声为-96 dBc/Hz@100 kHz。 展开更多
关键词 负阻单片微波集成电路(MMIC) 压控振荡器 异质三极管 相位噪声 小型
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GaAs/AlGaAs量子阱红外探测器特性非对称性分析 被引量:1
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作者 李娜 李宁 +9 位作者 陆卫 袁先漳 李志锋 窦红飞 刘京郊 沈学础 金莉 李宏伟 周均铭 黄绮 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期411-414,共4页
在分子束外延生长量子阱材料过程中 ,分析了在不同的 Ga As/ Al Ga As异质结生长次序中 Ga的解吸附速率不同和量子阱中掺杂的扩散造成量子阱结构的不对称 ,讨论了 Ga As/ Al Ga As量子阱红外探测器的性能参数相对于正负偏压的不对称性 ... 在分子束外延生长量子阱材料过程中 ,分析了在不同的 Ga As/ Al Ga As异质结生长次序中 Ga的解吸附速率不同和量子阱中掺杂的扩散造成量子阱结构的不对称 ,讨论了 Ga As/ Al Ga As量子阱红外探测器的性能参数相对于正负偏压的不对称性 ,并与金属有机化合物汽相沉淀法生长的量子阱材料和相应器件进行了比较 .发现 。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 不对称性 解吸附速率 异质 GAAS/ALGAAS
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硅锗技术及其在无线射频领域的应用研究 被引量:1
18
作者 孟令琴 费元春 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期78-81,共4页
本文概述了硅锗 (SiGe)技术发展趋势及优势 ,阐述了硅锗双极互补型金属氧化物半导体(SiGeBiCMOS)技术 ,硅锗异质结双极晶体管 (SiGeHBT)器件在无线通信领域优良的性能 ,低廉的成本 ,可以说SiGe材料的出现为半导体材料和工艺增添了新的... 本文概述了硅锗 (SiGe)技术发展趋势及优势 ,阐述了硅锗双极互补型金属氧化物半导体(SiGeBiCMOS)技术 ,硅锗异质结双极晶体管 (SiGeHBT)器件在无线通信领域优良的性能 ,低廉的成本 ,可以说SiGe材料的出现为半导体材料和工艺增添了新的活力。硅互补型金属氧化物半导体 (SiCMOS)工艺因其低廉的成本 ,较好的一致性是大规模数字集成电路制造的基础 ,而硅锗互补型金属氧化物半导体 /硅锗双极互补型金属氧化物半导体 (SiGeCMOS/BiCMOS)既有硅互补型金属氧化物半导体 (CMOS)工艺的优点 ,又有良好的高频性能 ,特别是SiGeHBT的出现是SiGe器件的工作频率可直接应用到微波频段 ,而其成本和噪声性能是砷化镓 (GaAs)材料无法比拟的。随着对SiGeHBT ,硅锗场效应晶体管 (SiGeFET)的研究 ,SiGe器件的高频性能 ,低噪声性能 ,功率和线性性能将得到展现 ,为进一步降低收发信机的成本 ,提高其集成度打下了基础 。 展开更多
关键词 硅锗技术 无线射频 半导体技术 异质双极晶体管 场效应管
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24GHz低相位噪声单片集成VCO 被引量:3
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作者 谭超 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期506-509,共4页
介绍了一款基于砷化镓异质结双极晶体管(GaAs HBT)工艺的24 GHz单片压控振荡器(VCO),VCO芯片上同时集成了1/2次谐波输出及八分频器电路,可提供1/2和1/16次谐波输出。由于振荡器采用了推-推压控振荡器(push-push VCO)结构,相比传统的通... 介绍了一款基于砷化镓异质结双极晶体管(GaAs HBT)工艺的24 GHz单片压控振荡器(VCO),VCO芯片上同时集成了1/2次谐波输出及八分频器电路,可提供1/2和1/16次谐波输出。由于振荡器采用了推-推压控振荡器(push-push VCO)结构,相比传统的通过低频VCO芯片和倍频器级联技术实现的24 GHz VCO具有更低的相位噪声,测试结果表明芯片在不同温度、振动以及其他条件下表现出良好的相位噪声,在0~13 V的电调电压条件下输出频率为23~25.5 GHz,输出功率在5 V直流工作电压条件下为9 dBm,相位噪声低至-92 dBc/Hz@100 kHz。同时1/2次谐波输出及八分频器电路提供的1/16次谐波输出性能良好。 展开更多
关键词 异质双极晶体管(HBT) 压控振荡器(VCO) 推-推 相位噪声 单片集成电路(MMIC)
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优质GaAs/Si和AlGaAs/Si材料的MOCVD生长研究
20
作者 高鸿楷 龚平 +2 位作者 王海滨 朱作云 李跃进 《光子学报》 EI CAS CSCD 1993年第2期189-192,共4页
用自制常压MOCVD装置,在Si衬底上生长GaAs和AlGaAs外延层,在高温去除Si衬底表面氧化膜之后,采用两步法,即低温生长过渡层,再提高温度生长外延层。得到了表面镜面光亮的优质GaAs和AlGaAs外延层。X射线双晶衍射仪测试GaAs外延层,其回摆曲... 用自制常压MOCVD装置,在Si衬底上生长GaAs和AlGaAs外延层,在高温去除Si衬底表面氧化膜之后,采用两步法,即低温生长过渡层,再提高温度生长外延层。得到了表面镜面光亮的优质GaAs和AlGaAs外延层。X射线双晶衍射仪测试GaAs外延层,其回摆曲线半峰宽是200孤秒,GaAs和AlGaAs外延层在77K温度下,PL谱半峰宽分别是17meV和24meV。 展开更多
关键词 MOCVD 异质 外延生长
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