TN304.054 96053317MOCVD方法生长二氧化钛膜研究=The researchabout thin TiO<sub>2</sub> films prepared by MOCVD[刊,中]/金海岩(复旦大学材料系.上海(200437))∥光子学报.—1995,24(Z3).—45—51通过对各种实验...TN304.054 96053317MOCVD方法生长二氧化钛膜研究=The researchabout thin TiO<sub>2</sub> films prepared by MOCVD[刊,中]/金海岩(复旦大学材料系.上海(200437))∥光子学报.—1995,24(Z3).—45—51通过对各种实验数据的分析,提出了生长速率,折射率与源温、衬底温度的关系。展开更多
文摘TN304.054 96053317MOCVD方法生长二氧化钛膜研究=The researchabout thin TiO<sub>2</sub> films prepared by MOCVD[刊,中]/金海岩(复旦大学材料系.上海(200437))∥光子学报.—1995,24(Z3).—45—51通过对各种实验数据的分析,提出了生长速率,折射率与源温、衬底温度的关系。