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铜镀镍基底生长碳纳米管薄膜场发射特性研究
被引量：
1
1
作者
霍海波
麻华丽
+3 位作者
杨卫飞
陈雷明
丁佩
曾凡光
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第5期429-433,共5页
采用化学镀的方法在铜基底上镀镍作为缓冲层,以酞菁铁(FePc)作为催化剂,采用CVD法在Cu/Ni基底上制备出了碳纳米管薄膜(Cu/Ni-CNTs),利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱进行了表征。为了测试在Cu/Ni基底上生长碳纳米管薄膜的场发射特性,采用二...
采用化学镀的方法在铜基底上镀镍作为缓冲层,以酞菁铁(FePc)作为催化剂,采用CVD法在Cu/Ni基底上制备出了碳纳米管薄膜(Cu/Ni-CNTs),利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱进行了表征。为了测试在Cu/Ni基底上生长碳纳米管薄膜的场发射特性,采用二极管结构,在真空度为2×10^(-4) Pa下进行直流场发射测试。结果表明Cu/Ni基底的碳纳米管薄膜具有优异的场发射特性,薄膜与阳极距离为9mm时开启场强为1.44V/μm,场发射测试数据符合Fowler-Nordheim(F-N)场发射特性曲线,在相同高压范围(0~20kV)进行多次重复测试,碳纳米管薄膜具有良好的发射可重复性。
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关键词
碳纳米管
铜镀镍
直流场发射
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职称材料
题名
铜镀镍基底生长碳纳米管薄膜场发射特性研究
被引量：
1
1
作者
霍海波
麻华丽
杨卫飞
陈雷明
丁佩
曾凡光
机构
郑州航空工业管理学院
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第5期429-433,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(61274012
11404291)
+3 种基金
河南省科技创新杰出人才项目(164200510006)
航空科学基金资助项目(2014ZF55013
2015ZF55013)
河南省高等学校重点科研项目计划(16B140005)
文摘
采用化学镀的方法在铜基底上镀镍作为缓冲层,以酞菁铁(FePc)作为催化剂,采用CVD法在Cu/Ni基底上制备出了碳纳米管薄膜(Cu/Ni-CNTs),利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱进行了表征。为了测试在Cu/Ni基底上生长碳纳米管薄膜的场发射特性,采用二极管结构,在真空度为2×10^(-4) Pa下进行直流场发射测试。结果表明Cu/Ni基底的碳纳米管薄膜具有优异的场发射特性,薄膜与阳极距离为9mm时开启场强为1.44V/μm,场发射测试数据符合Fowler-Nordheim(F-N)场发射特性曲线,在相同高压范围(0~20kV)进行多次重复测试,碳纳米管薄膜具有良好的发射可重复性。
关键词
碳纳米管
铜镀镍
直流场发射
Keywords
Carbon nanotubes(CNTs)
Cu/Ni
DC field emission
分类号
TB306 [一般工业技术—材料科学与工程]
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
铜镀镍基底生长碳纳米管薄膜场发射特性研究
霍海波
麻华丽
杨卫飞
陈雷明
丁佩
曾凡光
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2016
1
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