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SiO2阻挡层对电子束沉积法生长高迁移率IWO薄膜性能的影响 被引量：2
1
作者 任世荣 陈新亮 +4 位作者 张存善 孙建 张晓丹 耿新华 赵颖 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期843-847,共5页
利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2... 利用电子束沉积技术在玻璃衬底上制备了IWO(In2O3∶WO3)薄膜和SiO2缓冲层,并将SiO2缓冲层对IWO薄膜性能的影响作了探究。SiO2缓冲层在室温生长。SIMS测试表明:SiO2缓冲层能有效阻挡浮法玻璃中的杂质进入到IWO薄膜。实验获得的具有SiO2阻挡层的IWO薄膜的电子迁移率μ～54.5 cm.2V-.1s-1,电阻率ρ～5.86×10-4Ω.cm,电子载流子浓度n～1.95×1020 cm-3,400～1600 nm光谱区域内的平均透过率～76%。 展开更多
关键词 电子束沉积技术 SiO2阻挡层 IWO薄膜 高迁移率
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沉积温度和速率对电子束沉积ZnSe薄膜应力特性的影响
2
作者 饶文萍 王颖 +1 位作者 章岳光 刘旭 《浙江大学学报（工学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期2059-2061,共3页
在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,... 在不同沉积温度和速率下,采用电子束蒸发法制备ZnSe薄膜样品,利用ZYGO GPI型干涉仪测试样品的应力行为,并采用X射线衍射(XRD)技术测试样品的晶向特征.实验结果表明,在不同条件下制备的ZnSe薄膜均呈现压应力,应力随着沉积温度升高而增大,在200℃应力达到最大值,之后应力随沉积温度升高呈下降趋势.XRD结果表明,沉积速率直接影响ZnSe薄膜的晶向结构,进而改变ZnSe薄膜内应力;当沉积速率为1.5 nm/s时,薄膜应力最小. 展开更多
关键词 电子束沉积 ZnSe薄膜 薄膜应力 沉积温度 沉积速率
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电子束沉积TiAl合金的微观形貌及组织结构稳定性 被引量：3
3
作者 马李 何录菊 +2 位作者 邵先亦 王古平 张梦贤 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期89-95,共7页
利用大功率电子束物理气相沉积设备,采用单靶蒸镀方法制备厚度为0.3mm的自由态TiAl合金板,并对制备态样品进行不同温度（650-950℃）的真空退火处理。借助X射线衍射仪、扫描电子显微镜及透射电子显微镜分析退火处理对相组成及微观组织... 利用大功率电子束物理气相沉积设备,采用单靶蒸镀方法制备厚度为0.3mm的自由态TiAl合金板,并对制备态样品进行不同温度（650-950℃）的真空退火处理。借助X射线衍射仪、扫描电子显微镜及透射电子显微镜分析退火处理对相组成及微观组织结构的影响。结果表明：Ti,Al元素饱和蒸气压的差异导致富Ti成分区和富Al成分区沿板材截面呈现交替变化,其组成相为α2-Ti3Al,γ-TiAl和τ-TiAl2;在650-950℃温度区间退火24h后,由于Al向Ti中扩散,呈现明显的界面融混和晶粒粗化,导致有序相含量的降低,其层状结构的退化受到孔洞形成、晶粒长大以及层间吞噬的影响。 展开更多
关键词 电子束物理气相沉积 TIAL合金 饱和蒸气压 微观形貌 结构稳定性
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TC4钛合金电子束沉积修复工艺研究 被引量：4
4
作者 刘容光 卜文德 +1 位作者 刘小江 柯黎明 《精密成形工程》 2018年第6期102-106,共5页
目的研究TC4钛合金电子束沉积修复工艺对修复试样成形形貌的影响。方法主要对电子束流、送丝速度和成形速度3种工艺参数进行研究,观察其宏观形貌,从而归纳出工艺参数对电子束沉积修复钛合金TC4的影响规律。结果在一定范围内,电子束流较... 目的研究TC4钛合金电子束沉积修复工艺对修复试样成形形貌的影响。方法主要对电子束流、送丝速度和成形速度3种工艺参数进行研究,观察其宏观形貌,从而归纳出工艺参数对电子束沉积修复钛合金TC4的影响规律。结果在一定范围内,电子束流较小时,母材与修复区熔合不良,产生"V"型孔洞缺陷;随着电子束流增大,热影响区也随之增大。送丝速度主要影响试样的外观成形,较快或较慢的送丝速度都会使修复试样表面成形不良。成形速度较小时,成形表面有密集的鱼鳞纹,修复试样余高较低;成形速度增大时,热影响区随之减小,同时会产生孔洞缺陷。结论不同的电子束流、送丝速度、成形速度都会对TC4钛合金电子束沉积修复形貌产生重要影响,需要合理的控制工艺参数。 展开更多
关键词 电子束沉积修复 电子束流 送丝速度 成形速度
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电子束诱导沉积工艺的优化与简化
5
作者 高尚 黄梦诗 +1 位作者 肖飞 孙千 《真空科学与技术学报》 北大核心 2025年第4期340-348,共9页
电子束诱导沉积(EBID)因沉积速率慢、沉积物纯度低等缺点,常被限制在离子束诱导沉积(IBID)工艺前的保护层制备等辅助性工艺中。文章针对工艺的效率提升与流程简化展开系统研究,重点分析了关键工艺参数对沉积速率和效果的影响,并提出了... 电子束诱导沉积(EBID)因沉积速率慢、沉积物纯度低等缺点,常被限制在离子束诱导沉积(IBID)工艺前的保护层制备等辅助性工艺中。文章针对工艺的效率提升与流程简化展开系统研究,重点分析了关键工艺参数对沉积速率和效果的影响,并提出了一种基于扫描电镜缩小框功能的简化工艺。研究表明,低加速电压条件下,沉积速率显著提高;束流与沉积厚度呈线性正相关;短驻留时间有助于获得更高的沉积速率。通过优化参数,研究实现EBID沉积效率达到0.03μm^(3)/nC,显著优于既往文献报道的效率范围。简化工艺无需依赖复杂的专用程序,操作便捷。特别是在对精度要求不高但重视效率的场景中,优化后的EBID工艺可在某些应用中完全替代IBID工艺。因此,通过优化聚焦离子束-扫描电镜中电子束诱导沉积的参数,提高沉积速率并简化操作流程,具有重要应用价值,为沉积保护层提供了全新的解决思路与替代方案。 展开更多
关键词 电子束诱导沉积 沉积速率 工艺参数优化 聚焦离子束-扫描电镜
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加速电压对电子束熔丝沉积304不锈钢组织与静力学性能的影响 被引量：1
6
作者 陈家琪 孙宝福 +1 位作者 宁薇 冯美荣 《机械强度》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期859-866,共8页
电子束熔丝沉积(Electron Beam Fuse Deposition,EBFD)是近年来发展较为迅速的金属3D打印技术。采用EBFD技术针对304不锈钢材料进行打印,比较电子束熔丝沉积过程中不同加速电压对成形产品宏观形貌、致密度、显微组织和力学性能的影响。... 电子束熔丝沉积(Electron Beam Fuse Deposition,EBFD)是近年来发展较为迅速的金属3D打印技术。采用EBFD技术针对304不锈钢材料进行打印,比较电子束熔丝沉积过程中不同加速电压对成形产品宏观形貌、致密度、显微组织和力学性能的影响。结果表明,加速电压为50 kV时,微观组织中奥氏体晶粒较少,加速电压增加至60 kV时,奥氏体晶界完全形成,并随着加速电压增加而持续生长;当加速电压为60 kV时,综合力学性能表现最佳,各向异性表现最弱,断口也表现为韧性断裂。 展开更多
关键词 电子束熔丝沉积 304 不锈钢 加速电压 各向异性
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不同路径对电子束熔丝沉积304不锈钢组织与性能的影响
7
作者 黄星光 孙宝福 陈家琪 《精密成形工程》 北大核心 2024年第1期121-128,共8页
目的采用电子束熔丝沉积方法进行打印,以获取具有高抗拉强度与高伸长率的304不锈钢。方法以304不锈钢丝材为材料,当加速电压为60 kV、聚焦电流为430 mA、束流强度为22 mA、成形速度为250mm/min、送丝速度为1400mm/min时,在成形路径为“... 目的采用电子束熔丝沉积方法进行打印,以获取具有高抗拉强度与高伸长率的304不锈钢。方法以304不锈钢丝材为材料,当加速电压为60 kV、聚焦电流为430 mA、束流强度为22 mA、成形速度为250mm/min、送丝速度为1400mm/min时,在成形路径为“弓字形”和“交替弓字形”条件下打印不锈钢样品,在样品x、y、z3个方向上截取试样,采用金相、扫描电镜、透射电镜及拉伸试验等分析手段,对试样的微观组织和力学性能进行研究。结果在“弓字形”成形路径下,产品x方向试样的显微组织主要以等轴晶为主,而y方向试样的显微组织以相互平行的柱状晶为主;在“交替弓字形”成形路径下,产品微观组织主要是相互垂直的柱状晶,在z方向试样中出现了位错胞结构。在“交替弓字形”成形路径下,z方向试样具有最优的综合力学性能,其致密度为98.60%,抗拉强度为(1344±14)MPa,屈服强度为(701±7)MPa,断后伸长率为(25±0.4)%。结论在EBF打印304不锈钢样品中,选用“交替弓字形”成形路径能使不锈钢具有更高的致密度,可以提升抗拉强度和屈服强度。 展开更多
关键词 电子束熔丝沉积 304不锈钢 成形路径 力学性能 显微组织 伸长率
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电子束法沉积ZnIn_2Se_4膜的结构与XPS表征
8
作者 张瑞峰 于亚莉 +1 位作者 孙玉茹 李文范 《真空科学与技术》 CSCD 1992年第1期32-36,共5页
研究了电子束法沉积ZnIn_2Se_4薄膜的工艺条件,所得致密、均匀膜的导电类型可以通过不同气氛处理得到控制。该膜的最佳参数为:电阻率ρ为2.35×10^(-1)Ω·cm,Hall迁移率μ_H为106cm^2·V^(-1)·S^(-1),载流子浓度N是1.... 研究了电子束法沉积ZnIn_2Se_4薄膜的工艺条件,所得致密、均匀膜的导电类型可以通过不同气氛处理得到控制。该膜的最佳参数为:电阻率ρ为2.35×10^(-1)Ω·cm,Hall迁移率μ_H为106cm^2·V^(-1)·S^(-1),载流子浓度N是1.51×10^(17)cm^(-3),禁带宽度E_(?)为2.23eV。采用XPS技术研究了膜的组成、结构、价态。 展开更多
关键词 薄膜 电子束沉积 结构 ZnIn2Se4
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电子束蒸发沉积ZAO薄膜正交试验 被引量：9
9
作者 郭爱云 薛亦渝 +2 位作者 夏志林 朱选敏 葛春桥 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第7期56-59,共4页
采用电子束真空蒸发沉积薄膜的方法(EBED)制备了ZnO:A1(ZAO)透明导电薄膜。用正交试验法设计试验,并分析了制备ZAO薄膜的主要影响因素(沉积厚度、沉积速率、基片温度)对薄膜性能(透射率、电阻率)的作用。试验结果表明:采用EBED法沉积制... 采用电子束真空蒸发沉积薄膜的方法(EBED)制备了ZnO:A1(ZAO)透明导电薄膜。用正交试验法设计试验,并分析了制备ZAO薄膜的主要影响因素(沉积厚度、沉积速率、基片温度)对薄膜性能(透射率、电阻率)的作用。试验结果表明:采用EBED法沉积制备ZAO薄膜时,沉积速率控制为1nm/s、沉积厚度为800nm、基片温度为250℃,镀膜系统工作稳定,沉积薄膜的性能较好。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 电子束蒸发沉积 正交试验
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国内外电子束熔丝沉积增材制造技术发展现状 被引量：52
10
作者 陈国庆 树西 +1 位作者 张秉刚 冯吉才 《焊接学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期123-128,134,共7页
随着增材制造技术的不断发展,各种增材制造技术,如电弧增材制造、激光增材制造和电子束增材制造等,在其相应的领域内展开了广泛的研究.文中总结了电子束熔丝沉积增材制造技术的特点.重点介绍了国内外对电子束熔丝沉积技术开展的研究工作... 随着增材制造技术的不断发展,各种增材制造技术,如电弧增材制造、激光增材制造和电子束增材制造等,在其相应的领域内展开了广泛的研究.文中总结了电子束熔丝沉积增材制造技术的特点.重点介绍了国内外对电子束熔丝沉积技术开展的研究工作,简要介绍了国内外学者在电子束熔丝沉积技术设备和工艺方面取得的最新研究成果.分析了电子束熔丝沉积技术目前亟需展开的研究工作,并展望了该技术应向活泼难熔金属、复合材料、梯度材料制备与大型复杂构件的增材制造等方向发展. 展开更多
关键词 电子束熔丝沉积 增材制造 研究现状
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电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术研究及应用进展 被引量：7
11
作者 刘景顺 曾岗 +2 位作者 李明伟 杨森 郭洪飞 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第F11期246-248,255,共4页
概述了近几年来快速发展的新兴材料加工工艺技术——电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术的研究及应用现状,着重阐述了电子束物理气相沉积(EB-PVD)过程的主要工艺参数和制备高温合金板材显微组织的形成机理。
关键词 电子束物理气相沉积(EB-PVD) 应用 工艺参数 形成机理
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电子束物理气相沉积工艺制备超薄高温结构材料的研究 被引量：13
12
作者 马李 孙跃 +1 位作者 赫晓东 李垚 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期100-103,共4页
介绍了包括热障涂层、高温合金薄板、金属/陶瓷及金属/金属间化合物微叠层薄板等金属热防护系统结构材料的特点,并简要介绍了电子束物理气相沉积设备的工作原理、结构及其工艺特点。着重评述了利用该工艺制备多种体系高温结构材料的研... 介绍了包括热障涂层、高温合金薄板、金属/陶瓷及金属/金属间化合物微叠层薄板等金属热防护系统结构材料的特点,并简要介绍了电子束物理气相沉积设备的工作原理、结构及其工艺特点。着重评述了利用该工艺制备多种体系高温结构材料的研究现状,最后对未来的发展趋势作出了客观的评价与展望。 展开更多
关键词 金属热防护系统 高温结构材料 电子束物理气相沉积 微叠层材料
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电子束物理气相沉积技术及其应用现状 被引量：24
13
作者 关春龙 李垚 赫晓东 《航空制造技术》 北大核心 2003年第11期35-37,共3页
介绍了电子束物理气相沉积设备的结构、工艺特点及应用范围 ,并在此基础上介绍了电子束物理气相沉积技术在制备热障涂层。
关键词 电子束物理气相沉积技术 应用范围 制备 热障涂层 微层材料
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电子束物理气相沉积La2Zr2O7热障涂层研究 被引量：6
14
作者 牟仁德 许振华 +1 位作者 贺世美 何利民 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期32-36,共5页
为克服传统热障涂层材料YSZ耐温性能和隔热性能的不足，以ZrO2和La2O3为原料，采用无压烧结法合成了烧绿石结构化合物La2Zr2O7，用电子束物理气相沉积（EB—PVD）法在高温合金基体上制备了La2Zr2O7涂层，分析了涂层的成分，并对其显微... 为克服传统热障涂层材料YSZ耐温性能和隔热性能的不足，以ZrO2和La2O3为原料，采用无压烧结法合成了烧绿石结构化合物La2Zr2O7，用电子束物理气相沉积（EB—PVD）法在高温合金基体上制备了La2Zr2O7涂层，分析了涂层的成分，并对其显微结构、热物理性能与传统YSZ热障涂层进行了对比研究。结果表明，La2Zr2O7涂层成分处于P结构范围内，呈典型的柱状晶结构，柱状晶头部呈明显的金字塔形状。与传统YSZ柱状晶相比，La2Zr2O7涂层的柱状晶紊乱度更大，尺寸更加细小，并且柱状晶上的树枝状亚晶更多。在25～1200℃范围内，La2Zr2O7涂层的热导率最大为0．985W／（m·K），最小为0．796w／（m·K），大大低于同条件下的YSZ涂层。低本征热导率、小柱状晶直径、大紊乱度、密度轻及高孔隙率是造成La2Zr2O7涂层低热导率的主要因素。 展开更多
关键词 LA2ZR2O7 热障涂层 电子束物理气相沉积 热导率
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电子束物理气相沉积制备NiCrCoAl合金在1000℃的氧化行为 被引量：4
15
作者 曾岗 陈全 +2 位作者 李明伟 韩杰才 曾松岩 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期69-71,共3页
对物理气相沉积制备的微晶材料Ni-11.5Cr-4.5Co-0.5Al高温合金薄板在1 000℃空气中恒温氧化进行了研究,用扫描电镜对氧化试样的表面和截面形貌进行观察,用X射线衍射仪与能谱仪对其相和成分分布进行了分析。结果表明:微晶材料高温合金板... 对物理气相沉积制备的微晶材料Ni-11.5Cr-4.5Co-0.5Al高温合金薄板在1 000℃空气中恒温氧化进行了研究,用扫描电镜对氧化试样的表面和截面形貌进行观察,用X射线衍射仪与能谱仪对其相和成分分布进行了分析。结果表明:微晶材料高温合金板在初始氧化阶段遵循抛物线规律,长时间氧化时遵循四次方规律;氧化时表面形成细小、致密的氧化物层,随着时间的延长氧化物颗粒逐渐长大,外表面形成NiO、CoCr_2O_4和Cr_2O_3混合氧化物;氧化96h的截面有一连续Al_2O_3层在氧化物和基体界面形成。 展开更多
关键词 镍基高温合金 氧化动力学 电子束物理气相沉积
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高温快速退火对电子束物理气相沉积制备高硅硅钢片的影响 被引量：6
16
作者 李晓 孙跃 赫晓东 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1603-1604,1609,共3页
对电子束物理气相沉积高硅硅钢片进行了高温快速退火处理。用SEM,EDS,XRD对制备态硅钢片和热处理态组织,成分,物相进行了表征,并测试了其电阻率和磁滞回线。结果表面:高温快速退火使高硅硅钢片硅成分变均匀,靠近基板侧的相由Fe3Si变成D... 对电子束物理气相沉积高硅硅钢片进行了高温快速退火处理。用SEM,EDS,XRD对制备态硅钢片和热处理态组织,成分,物相进行了表征,并测试了其电阻率和磁滞回线。结果表面:高温快速退火使高硅硅钢片硅成分变均匀,靠近基板侧的相由Fe3Si变成DO3;硅钢片中孔长大,电阻率从90μΩ.m增大到160μΩ.m,矫顽力减小,磁感应强度减小。 展开更多
关键词 高温快速退火 高硅硅钢片 电子束物理气相沉积
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等离子体辅助电子束物理气相沉积制备热防护涂层 被引量：9
17
作者 彭徽 郭洪波 +1 位作者 宫声凯 徐惠彬 《航空制造技术》 2016年第21期98-104,共7页
电子束物理气相沉积(Electrom Beam-Physical Vapor Deposition,EB-PVD)是制备航空发动机热防护涂层的一种重要技术手段。采用等离子体辅助技术可进一步实现EB-PVD涂层的结构改性和性能提升。对等离子体辅助EB-PVD技术的研究现状进行了... 电子束物理气相沉积(Electrom Beam-Physical Vapor Deposition,EB-PVD)是制备航空发动机热防护涂层的一种重要技术手段。采用等离子体辅助技术可进一步实现EB-PVD涂层的结构改性和性能提升。对等离子体辅助EB-PVD技术的研究现状进行了简要综述,并对等离子体辅助EB-PVD制备航空发动机MCr Al Y抗氧化涂层、氮化物抗冲蚀涂层及YSZ热障涂层研究进行了介绍。 展开更多
关键词 电子束物理气相沉积 等离子体 防护涂层 抗氧化 抗冲蚀 热障涂层
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电子束物理气相沉积YSZ热障涂层热循环性能 被引量：7
18
作者 于海涛 宋希文 牟仁德 《航空发动机》 2010年第6期51-53,57,共4页
考察了YSZ热障涂层的抗热循环性能;分别利用SEM、XRD分析了热循环前后涂层的显微结构和相组成。经分析可知,YSZ热障涂层具有典型的柱状晶结构,沉积态时YSZ涂层为t/t′相,经过600次热循环后,YSZ涂层未发现脱落。
关键词 热障涂层 电子束物理气相沉积 相成分 热循环
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电子束物理气相沉积Ni-Cr-Al合金薄板微观组织研究 被引量：2
19
作者 关春龙 单英春 赫晓东 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期7-10,共4页
采用电子束物理气相沉积技术(EB-PVD)在温度为700℃的不锈钢基片上沉积厚度为0.2mm的Ni-Cr-Al高温合金薄板,然后将合金薄板与基片剥离。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和透射电子显微镜(TEM)等测试手段研... 采用电子束物理气相沉积技术(EB-PVD)在温度为700℃的不锈钢基片上沉积厚度为0.2mm的Ni-Cr-Al高温合金薄板,然后将合金薄板与基片剥离。采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和透射电子显微镜(TEM)等测试手段研究了Ni-Cr-Al合金薄板的微观组织。结果表明,沿厚度方向合金具有两种不同晶粒形貌的两层结构,在沉积材料的靠近基板侧观察到柱状晶区,同时表现出{111}织构,而在远离基板一侧晶粒形貌则为近等轴晶且无织构现象;合金表面晶粒细小均匀且呈岛状分布,每个"岛屿"由许多晶粒尺寸约为100 nm柱状晶粒组成;晶粒内部亚结构表现为孪晶。 展开更多
关键词 电子束物理气相沉积 Ni—Cr—Al合金 柱状晶 织构 孪晶
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织物上电子束蒸发沉积镀膜的耐磨及抗紫外线性能 被引量：5
20
作者 李凤艳 葛安香 陈勃 《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期87-91,共5页
利用电子束蒸发沉积法在不同的织物表面形成镍铬金属膜,制备具有抗紫外线辐射功能的柔性材料。通过SEM、EDS观察以及图像处理技术,比较了纤维原料及织物成形方式对电子束蒸发沉积膜的耐磨稳定性影响,并进一步分析了镀膜工艺对耐磨稳定... 利用电子束蒸发沉积法在不同的织物表面形成镍铬金属膜,制备具有抗紫外线辐射功能的柔性材料。通过SEM、EDS观察以及图像处理技术,比较了纤维原料及织物成形方式对电子束蒸发沉积膜的耐磨稳定性影响,并进一步分析了镀膜工艺对耐磨稳定性及抗紫外线性能的影响。结果表明:使用电子束蒸发沉积法在纤维基底材料上可形成均匀的、金属外观的薄膜,并且涤纶针织结构有利于提高金属膜在纤维表面的耐磨稳定性;当溅射时间为20 min、溅射电子束流为280 m A时,金属薄膜与基底的结合牢度好,可经受2 000次以上的摩擦,当摩擦约2 500次时,其UPF值超过40,具有较优异的持久功能性。 展开更多
关键词 电子束蒸发沉积 纤维材料 耐磨性 抗紫外线
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