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高准确度玻璃光学元件的CMP技术研究
被引量：
4
1
作者
陈勇
李攀
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第12期2499-2503,共5页
依据化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)加工玻璃光学元件的原理,通过对抛光运动机理的理论分析,提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响,并设计了新的工艺流程.通过工艺试验,完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工...
依据化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)加工玻璃光学元件的原理,通过对抛光运动机理的理论分析,提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响,并设计了新的工艺流程.通过工艺试验,完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工,获得了表面质量N<0.2,Rq<0.3nm的玻璃光学元件.
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关键词
玻璃光学原件
超光滑表面
化学机械抛光
抛光垫
运动机理分析
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职称材料
题名
高准确度玻璃光学元件的CMP技术研究
被引量：
4
1
作者
陈勇
李攀
机构
西北工业大学
飞行自动控制研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第12期2499-2503,共5页
文摘
依据化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)加工玻璃光学元件的原理,通过对抛光运动机理的理论分析,提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响,并设计了新的工艺流程.通过工艺试验,完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工,获得了表面质量N<0.2,Rq<0.3nm的玻璃光学元件.
关键词
玻璃光学原件
超光滑表面
化学机械抛光
抛光垫
运动机理分析
Keywords
Galss optical components
Super-smooth surface
Chemical mechanical polishing （CMP）
Polishing pad
Motion mechanism anaylysis
分类号
TN305.12 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
高准确度玻璃光学元件的CMP技术研究
陈勇
李攀
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
4
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