激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究 被引量：5

1

作者 公衍生 涂溶 後藤孝 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期391-395,共5页

采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜... 采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiNx薄膜,重点研究了激光功率(PL)、衬底预热温度(Tpre)和沉积总压力(Ptot)对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜组成和结构进行了表征.结果表明:所得到的TiNx薄膜成分均匀,其取向与衬底预热温度有关,随着预热温度的升高,TiNx薄膜的取向由(111)变为(200),薄膜的取向与其微观结构一致.TiNx薄膜的沉积速率随着激光功率升高而增大,在PL=100W时,达到最大值90μm/h(沉积面积为300mm2),显著高于采用其它方法制备的TiNx薄膜. 展开更多

关键词 TiNx薄膜 快速生长 取向 激光化学气相沉积(LCVD)

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TiN类薄膜的激光化学气相沉积 被引量：7

2

作者 张鸿俭 冯钟潮 张鹤 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期41-44,共4页

研究了激光化学气相沉积的方法在Ｔｉ和Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ基材上沉积ＴｉＮ、ＴｉＣ、 Ｔｉ（Ｃｎ、Ｎｍ）薄膜的工艺方法，并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 （ＬＣＶＤ）方法制备成功的ＴｉＮ类薄膜颜色金黄... 研究了激光化学气相沉积的方法在Ｔｉ和Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖ基材上沉积ＴｉＮ、ＴｉＣ、 Ｔｉ（Ｃｎ、Ｎｍ）薄膜的工艺方法，并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学气相沉积 （ＬＣＶＤ）方法制备成功的ＴｉＮ类薄膜颜色金黄，成份均匀，其平均显微硬度为ＨＫ２５００，耐磨 性比基材提高了六倍。 展开更多

关键词 TiN类薄膜 钛合金 激光化学气相沉积

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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用 被引量：3

3

作者 黄河 朱晓 +4 位作者 朱长虹 朱广志 李跃松 张沛 万承华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期330-332,共3页

为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密... 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。 展开更多

关键词 激光技术 光化学 光掩模修复 激光化学气相沉积 开放式

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前驱体温度对激光化学气相沉积YBa2 Cu3 O7δ超导薄膜结构及性能的影响

4

作者 张琼 赵培 +3 位作者 吴慰 戴武斌 GOTO Takashi 徐源来 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期9-17,共9页

采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O 7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa。研究了前驱体蒸发温度及薄膜退火温度对薄膜电学性能的影响。研究表明,B... 采用激光化学气相沉积法在Al2O3基底上以49μm·h-1的沉积速率高速制备了c-轴取向的YBa2Cu3O 7-δ薄膜,其中,激光功率为133 W,沉积温度1103 K,腔体压强800 Pa。研究了前驱体蒸发温度及薄膜退火温度对薄膜电学性能的影响。研究表明,Ba、Cu、Y前驱体加热温度分别为603、478、459 K时制备的薄膜在经813 K高温热处理12 h后,临界温度可达83 K。 展开更多

关键词 激光化学气相沉积 YBA2 Cu3 O7-δ薄膜 高速沉积

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激光化学气相沉积法在TFT-LCD电路缺陷维修中的应用 被引量：5

5

作者 张伟 陈小英 +6 位作者 马永生 付婉霞 王磊 周贺 徐智俊 王博 阮毅松 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2019年第8期755-763,共9页

为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究... 为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响,再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底损伤越大,但电阻率越小,且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤;激光辐射速度越大,基底损伤越小,但电阻率越大。通过平衡工艺参数,得到了电阻率为0.96Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜,成分分析表明此时W(CO)6已经完全裂解。 展开更多

关键词 TFT-LCD 激光化学气相沉积法 缺陷维修 W(CO)6 电阻率

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钨膜的激光化学气相沉积 被引量：1

6

作者 周政卓 顾原岗 邱明新 《激光杂志》 CAS 1985年第4期211-213,184,共4页

本文报道用XeCl准分子激光分解W(CO)_6气体分子沉积钨膜,面积约2.6cm^2。测量了膜层的厚度,电学性质和光学性质,并用扫描电镜观察了膜层的微观结构和用x光电子能谱仪分析了膜层的组分。

关键词 激光化学气相沉积 钨膜 XECL准分子 X光电子能谱 扫描电镜观察 分子沉积 光学性质 电学性质 微观结构 光分解

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激光辅助化学气相沉积研究进展 被引量：9

7

作者 范丽莎 刘帆 +2 位作者 吴国龙 Volodymyr S.Kovalenko 姚建华 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期1-29,共29页

激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发... 激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发解离作用机制,同时介绍了各类LCVD的常用设备,着重总结了LCVD在金属材料、碳基材料、氧化物材料以及半导体材料等各类材料制备应用上的最新研究进展,特别介绍了LCVD制备过程中常用的检测与分析方法,最后讨论了激光化学气相沉积技术目前所面临的挑战与机遇,并展望了该技术的发展前景。 展开更多

关键词 激光化学气相沉积 薄膜制备 热解离 光解离 共振激发解离

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通过激光诱导化学气相沉积来制造微碳柱的研究 被引量：8

8

作者 温宗胤 李宝灵 周健 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期79-82,共4页

使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均... 使用氩离子激光作为光源，乙烷（C2H6）作为工作气体，在激光功率0．5—4．5W，气体压力0．03—0．09MPa的变化范围内，进行激光诱导化学气相沉积形成微结构。试验研究了激光功率、气体压力对碳柱直径和生长长度的影响，讨论了碳柱平均生长率随照射时间、焦点移动速度的变化规律。根据实验数据，使用焦距移动方法，生成长径比超过500的微碳柱。 展开更多

关键词 激光诱导化学气相沉积 生长速度 直径 微碳柱

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人工神经网络—遗传算法优化激光—等离子体化学气相沉积Si_3N_4薄膜制备工艺 被引量：2

9

作者 张勤俭 吴春丽 +4 位作者 李敏 张勤河 秦勇 毕进子 张建华 《陶瓷学报》 CAS 2002年第2期116-118,共3页

应用人工神经网络建立了激光—等离子体辅助化学气相沉积 (LPCVD)工艺参数与Si3 N4薄膜显微硬度的关系。并运用遗传算法优化出了最佳工艺。

关键词 激光-等离子体辅助化学气相沉积 Si3N4薄膜 人工神经网络 遗传算法

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退火处理对激光诱导化学气相沉积制备纳米硅红外光谱的影响

10

作者 张海燕 陈可心 +2 位作者 刘颂豪 梁礼正 王卫乡 《中山大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2000年第S2期169-173,共5页

研究激光诱导化学相沉积（ＬＩＣＶＤ）法制备纳米硅粒子的工艺过程，分析了影响纳米硅形成及尺寸的主要工艺参数，获得了最佳的工艺条件并讨论了退火处理对纳米硅红外光谱各吸收峰的强度。

关键词 纳米硅 激光诱导化学气相沉积(LICVD) 红外光谱

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模具钢表面连续激光沉积TiN类薄膜的研究 被引量：1

11

作者 葛柏青 段来根 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2006年第22期44-46,共3页

利用波长为10.6mm的CO2连续激光诱导化学气相沉积的方法,在模具钢基体上沉积TiN类薄膜。采用XRD、OM、SEM、EDS等手段分析薄膜的组织和相结构。结果表明,当激光功率为600W,扫描速度为2mm/s,通过H2、N2和TiCl4之间的化学反应,在模具钢表... 利用波长为10.6mm的CO2连续激光诱导化学气相沉积的方法,在模具钢基体上沉积TiN类薄膜。采用XRD、OM、SEM、EDS等手段分析薄膜的组织和相结构。结果表明,当激光功率为600W,扫描速度为2mm/s,通过H2、N2和TiCl4之间的化学反应,在模具钢表面获得了均匀致密的枝晶组织,其显微硬度最高可达2500HV。 展开更多

关键词 模具钢 激光化学气相沉积 薄膜

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电介质表面金属功能图案激光加工技术研究进展

12

作者 肖荣诗 魏佳硕 +1 位作者 崔梦雅 黄婷 《航空制造技术》 北大核心 2025年第1期22-35,共14页

电介质表面金属功能图案在航空航天、消费电子、柔性传感等领域的需求日益增长。激光加工作为一种无需掩膜的柔性制造技术,具有加工精度高、非接触式加工、制造效率高等优点,可以在多种电介质表面实现金属功能图案的直接制造,近年来发... 电介质表面金属功能图案在航空航天、消费电子、柔性传感等领域的需求日益增长。激光加工作为一种无需掩膜的柔性制造技术,具有加工精度高、非接触式加工、制造效率高等优点,可以在多种电介质表面实现金属功能图案的直接制造,近年来发展迅速。按照自上而下和自下而上的技术路线,分别概述激光刻蚀、选择性激光烧结、脉冲激光沉积、激光诱导化学液相沉积、激光诱导化学气相沉积、激光辅助化学镀6种激光加工技术的原理和优势,及它们在电介质表面加工金属功能图案的最新研究进展,并总结相应的技术瓶颈和未来发展趋势。 展开更多

关键词 激光加工 金属功能图案 激光刻蚀 选择性激光烧结(SLS) 脉冲激光沉积(PLD) 激光诱导化学液相沉积(LCLD) 激光诱导化学气相沉积(LCVD) 激光辅助化学镀(LEP)

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激光CVD法合成SiC-Si_3N_4复合纳米颗粒 被引量：6

13

作者 李星国 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第1期91-94,共4页

用激光化学蒸汽沉积(CVD)法合成了SiC-Si3N4复合纳米颗粒,并用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和电子自旋共振磁力计(ESR)分析了试料的晶体结构,颗粒形状以及悬空键的状况。合成的试料粒度分布集中,平均粒径为32nm,颗粒由直径为5～3... 用激光化学蒸汽沉积(CVD)法合成了SiC-Si3N4复合纳米颗粒,并用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和电子自旋共振磁力计(ESR)分析了试料的晶体结构,颗粒形状以及悬空键的状况。合成的试料粒度分布集中,平均粒径为32nm,颗粒由直径为5～30nm的单晶或多晶组成。试料纯度高,颗粒为近似球形,十分适合于粉体的加工和烧结。另外试料有很高的热稳定性,在加热的过程中的变化首先是悬空键减少,然后是相分解和颗粒长大。 展开更多

关键词 SiC SI3N4 复合纳米颗粒 晶体结构 粒度分布 激光化学气相沉积法 悬空键 热稳定性 碳化硅 氮化硅 复合陶瓷

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激光诱导制备纳米SiC粉体 被引量：7

14

作者 线全刚 梁勇 +1 位作者 杨柯 王淑兰 《沈阳工业大学学报》 EI CAS 2003年第2期170-172,共3页

以硅烷SiH4和乙炔C2H2为反应原料,采用激光诱导化学气相沉积制各(LICVD)理想纳米SiC粉体.用化学分析、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)及比表面积(BET)等分析测试手段对粉体进行了表征,结果表明粉体中SiC含量高于98%,平均粒径为20... 以硅烷SiH4和乙炔C2H2为反应原料,采用激光诱导化学气相沉积制各(LICVD)理想纳米SiC粉体.用化学分析、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)及比表面积(BET)等分析测试手段对粉体进行了表征,结果表明粉体中SiC含量高于98%,平均粒径为20nm,晶体结构为β SiC,粉体产率大于200g/h,粉体中含氧量低于1%. 展开更多

关键词 制备 纳米碳化硅粉体 纳米SIC粉体 激光诱导化学气相沉积

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激光合成硅粉中的分形结构 被引量：1

15

作者 王卫乡 吉玉泓 +2 位作者 梅宴标 刘颂豪 陈俊芳 《华南理工大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 1996年第S1期25-28,共4页

本文对激光合成硅粉过程中出现的分形现象进行了分析，计算了其分维。

关键词 分形 激光诱导化学气相沉积 硅粉

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纳米粉体的激光制备方法

16

作者 李保家 周明 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第F11期20-23,共4页

总结了激光技术制备纳米粉末的特点，介绍了激光诱导化学气相沉积法、激光烧蚀法、激光诱导液-固界面反应法以及激光-感应复合加热法等的基本原理、装置及特点，综述了目前纳米粉体激光制备技术的应用研究现状，指出了其今后的研究方向... 总结了激光技术制备纳米粉末的特点，介绍了激光诱导化学气相沉积法、激光烧蚀法、激光诱导液-固界面反应法以及激光-感应复合加热法等的基本原理、装置及特点，综述了目前纳米粉体激光制备技术的应用研究现状，指出了其今后的研究方向和应用前景。 展开更多

关键词 纳米粉体 激光 制备 激光诱导化学气相沉积法 激光烧蚀法 激光诱导液-固界面反应法 激光-感应复合加热法

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纳米硅制备过程中微结构与反应气体流量之间的关系研究(英文)

17

作者 刘英才 尹衍升 +2 位作者 李静 李嘉 初蕾 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期644-646,共3页

利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒。研究了不同反应气体流量条件下 ,纳米硅微结构的转变规律 ,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响机制。研究表明 ,在激光功率密度恒定条件下 ,随着反应气体流量的增加 ,所制备纳米硅颗粒的尺寸逐渐变... 利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒。研究了不同反应气体流量条件下 ,纳米硅微结构的转变规律 ,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响机制。研究表明 ,在激光功率密度恒定条件下 ,随着反应气体流量的增加 ,所制备纳米硅颗粒的尺寸逐渐变小 ,微结构中非晶态比例随反应气流的增加而增加。 展开更多

关键词 纳米硅 制备 微结构 反应气体流量 LICVD方法 晶体生长 激光诱导化学气相沉积法

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激光科研应用

18

《中国光学》 EI CAS 1996年第5期37-38,共2页

O644.18 96053068激光诱导化学气相沉积纳米硅的红外光谱=Infraredspectra of nanosized silicon prepared byLICVD[刊,中]/王卫乡(中科院国际材料物理中心.辽宁,沈阳(110015)),刘颂豪(华南师范大学量子电子学研究所.广东,广州(510631))... O644.18 96053068激光诱导化学气相沉积纳米硅的红外光谱=Infraredspectra of nanosized silicon prepared byLICVD[刊,中]/王卫乡(中科院国际材料物理中心.辽宁,沈阳(110015)),刘颂豪(华南师范大学量子电子学研究所.广东,广州(510631)),李道火,刘宗才(中科院安徽光机所.安徽,合肥(510631))∥量子电子学.— 展开更多

关键词 量子电子学 激光诱导化学气相沉积 纳米硅 红外光谱 激光状态方程 中科院 材料物理 华南师范大学 激光等离子体 安徽

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激光增强CVD法制备柱状晶结构锆酸镧涂层及其性能研究

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作者 韦志俊 袁点 乔自平 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2019年第5期1639-1644,共6页

使用La(dpm)3和Zr(dpm)4为前驱体,氧气为反应气体,通过激光增强化学气相沉积法制备了烧绿石结构的锆酸镧(LZ)涂层。研究了激光功率、以及前驱体比例对锆酸镧涂层的形貌、晶形、生长取向、沉积速率以及热导率的影响。在优化激光功率的基... 使用La(dpm)3和Zr(dpm)4为前驱体,氧气为反应气体,通过激光增强化学气相沉积法制备了烧绿石结构的锆酸镧(LZ)涂层。研究了激光功率、以及前驱体比例对锆酸镧涂层的形貌、晶形、生长取向、沉积速率以及热导率的影响。在优化激光功率的基础上,通过改变前驱体比例La(dpm)3/Zr(dpm)4,确定了LZ的二元形成区,获得了La/Zr=0.75~1.5比例范围内成分可控的LZ单相样品。随着前驱体La(dpm)3/Zr(dpm)4比例的增加,La逐渐取代锆酸镧结构中的Zr,引起晶面间距的减少,导致XRD峰位向小角度方向偏移。研究表明,该方法制得的LZ涂层的热导率可低至0.936W/(m·K),适用于热障涂层及其他高温隔热场合。 展开更多

关键词 激光增强化学气相沉积 锆酸镧 热障涂层

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LICVD法制备纳米Si_3N_4粒子及红外光谱特性 被引量：1

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作者 王锐 李道火 +1 位作者 高峰 何晓雄 《浙江大学学报（理学版）》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期290-293,298,共5页

采用激光诱导化学气相沉积法制备出超细（7～15nm）、理想化学剂量（N／Si=1．314）、无团聚的非晶纳米氮化硅粉体．为了提高粉体的纯度，在传统激光诱导化学气相沉积装置中加一束正交的紫外光束．以促进NH3分子光解，从而减少游离硅的... 采用激光诱导化学气相沉积法制备出超细（7～15nm）、理想化学剂量（N／Si=1．314）、无团聚的非晶纳米氮化硅粉体．为了提高粉体的纯度，在传统激光诱导化学气相沉积装置中加一束正交的紫外光束．以促进NH3分子光解，从而减少游离硅的存在，提高N／Si原子数比．观察到了红外吸收光谱中的“蓝移”和“宽化”现象．并认为这些现象是由表面效应和量子尺寸效应造成的．同时，红外吸收光谱的反常现象也验证了粉体的纳米特性． 展开更多

关键词 激光诱导化学气相沉积 双光束激励 氮化硅 红外吸收光谱

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