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低介电多孔薄膜的制备及形成机制研究 被引量:9
1
作者 徐洪耀 王献彪 吴振玉 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期104-107,共4页
利用硅烷偶联剂KH-570(γ-甲基丙烯酰氧基甲氧基硅烷)水解缩合生成的多面低聚倍半硅氧烷(POSS)溶胶为模板剂,经热解制备低介电多孔薄膜材料.使用FTIR对材料制备过程及形成机制进行动态研究,通过29S i NMR、椭偏仪、氮气吸脱附曲线和TEM... 利用硅烷偶联剂KH-570(γ-甲基丙烯酰氧基甲氧基硅烷)水解缩合生成的多面低聚倍半硅氧烷(POSS)溶胶为模板剂,经热解制备低介电多孔薄膜材料.使用FTIR对材料制备过程及形成机制进行动态研究,通过29S i NMR、椭偏仪、氮气吸脱附曲线和TEM等对材料的介电性质、孔洞大小和分布情况进行表征.制备的介电多孔薄膜材料孔洞分布均匀、孔径约1 nm,比表面积为384.1 m2/g,介电常数为2.5的低. 展开更多
关键词 多孔薄膜 低介电常数 旋转涂布
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光栅阵列超微粒乳剂涂层厚度控制
2
作者 喻洪麟 陈燕 史飞 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2002年第6期492-493,共2页
对光栅阵列超微粒乳剂涂布中的涂层厚度控制问题进行了讨论。在大量实验的基础上,提出了一种有效的圆光栅阵列超微粒乳剂涂布新方法。
关键词 光栅阵列 超微粒乳剂 涂层厚度 控制 动态旋转涂布方法
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金属栅回刻平坦化技术 被引量:1
3
作者 孟令款 殷华湘 +2 位作者 徐秋霞 陈大鹏 叶甜春 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期793-797,共5页
随着CMOS集成电路技术节点缩减到45 nm及以下,高K金属栅(HK/MG)的后栅集成工艺已逐渐成为先进集成电路制造中的主流技术。其中金属栅(假栅)集成结构的平坦化是实现后栅集成的关键技术之一。本文通过特色开发的SOG两步等离子体回刻结合O... 随着CMOS集成电路技术节点缩减到45 nm及以下,高K金属栅(HK/MG)的后栅集成工艺已逐渐成为先进集成电路制造中的主流技术。其中金属栅(假栅)集成结构的平坦化是实现后栅集成的关键技术之一。本文通过特色开发的SOG两步等离子体回刻结合O2原位处理技术,克服了常规反应离子刻蚀中由于聚合物分布不均对刻蚀速度带来的不利影响,实现了隔离绝缘层低达4.19%(边缘去除5 mm)的片内非均匀性。不同稀疏与密集线阵列的亚微米CMOS后栅结构表明良好的平坦化效果并且避免了类似CMP(Chemical Mechanical Polish)工艺中常出现的"碟形效应"问题。所研制成功的无CMP后栅平坦化工艺为制备纳米级高K金属栅CMOS后栅器件打下了重要基础。 展开更多
关键词 金属栅 假栅 旋转涂布玻璃 等离子回刻 平坦化
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镁合金表面铈多层膜的抗腐蚀性及细胞相容性研究 被引量:3
4
作者 睢晓静 蔡开勇 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第16期53-56,共4页
利用旋转涂布法在镁合金表面构建了由聚乙烯亚胺(Polyethyleneimine,PEI)、明胶(Gelatin,Gel)和硝酸铈(Cerium nitrate)组成的抗腐蚀性铈多层膜。采用接触角测试仪表征了铈多层膜在镁合金表面的组装过程;利用电化学交流阻抗图谱和极化... 利用旋转涂布法在镁合金表面构建了由聚乙烯亚胺(Polyethyleneimine,PEI)、明胶(Gelatin,Gel)和硝酸铈(Cerium nitrate)组成的抗腐蚀性铈多层膜。采用接触角测试仪表征了铈多层膜在镁合金表面的组装过程;利用电化学交流阻抗图谱和极化曲线研究了铈多层膜修饰的镁合金在0.14mol/LNaCl溶液中的抗腐蚀性能;以MTT和碱性磷酸酶考察了铈多层膜修饰镁合金的细胞相容性。结果表明,在镁合金表面形成了铈多层膜结构,铈多层膜表面处理提高了镁合金的抗腐蚀性能和细胞相容性。该表面处理为镁合金植入体的应用提供了新思路。 展开更多
关键词 镁合金 旋转涂布 铈多层膜 抗腐蚀性能 细胞相容性
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防止光盘级聚碳酸酯老化技术的研究 被引量:1
5
作者 高晓霏 张立 任圣平 《塑料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期38-40,44,共4页
聚碳酸酯材料广泛应用在光盘制造业中。为了提高光盘级聚碳酸酯的耐老化性能,研究了两种表面覆盖层技术,即旋转涂覆薄膜技术和磁控溅射镀膜技术,通过调整试验参数,找到最佳的试验方案,分别在聚碳酸酯表面制备出紫外光固化保护膜和SiO2... 聚碳酸酯材料广泛应用在光盘制造业中。为了提高光盘级聚碳酸酯的耐老化性能,研究了两种表面覆盖层技术,即旋转涂覆薄膜技术和磁控溅射镀膜技术,通过调整试验参数,找到最佳的试验方案,分别在聚碳酸酯表面制备出紫外光固化保护膜和SiO2保护膜,所制备的两种保护膜表观良好,平滑、致密、有较高的环境适应性能力。覆盖保护膜后的光盘仍能够正常读写和存储信息。 展开更多
关键词 光盘级聚碳酸酯 覆盖层技术 旋转涂布 磁控溅射
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薄膜光学理论与膜系设计
6
《中国光学》 EI CAS 1999年第6期41-43,共3页
O484.1 99063774旋转涂布法制备MoO<sub>3</sub>变色薄膜的研究=Pho-tochromic behavior of spin coated MoO<sub>3</sub> thinfilms[刊,中]/纪学海,杨永安,姚建年(中科院感光化学所.北京(100101))∥感光... O484.1 99063774旋转涂布法制备MoO<sub>3</sub>变色薄膜的研究=Pho-tochromic behavior of spin coated MoO<sub>3</sub> thinfilms[刊,中]/纪学海,杨永安,姚建年(中科院感光化学所.北京(100101))∥感光科学与光化学.—1998,16(4). 展开更多
关键词 纳米硅薄膜 感光化学 感光科学 多层膜光栅 旋转涂布 中科院 光致发光谱 物理学报 真空蒸镀 制备
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