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TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜生长规律及电容效应
1
作者
王宏元
朱瑞富
+3 位作者
王志刚
吕宇鹏
肖桂勇
朱先俊
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第20期2763-2766,共4页
对TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷膜表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的实验现象及结果。模拟微弧氧化工艺反应过程,运用多种理论建立并分析了氧化陶瓷膜生长模型及等效电路。模型及电路分析结果证...
对TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷膜表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的实验现象及结果。模拟微弧氧化工艺反应过程,运用多种理论建立并分析了氧化陶瓷膜生长模型及等效电路。模型及电路分析结果证明,陶瓷膜在形成时呈现先离散分布后连接成片的生长特点,成膜后TiO2陶瓷膜具有交流耦合电容效应。模型及等效电路分析与实验结果是吻合的,为改善TA2工业纯Ti微弧氧化工艺并提高陶瓷膜性能提供了实验与理论基础。
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关键词
工业纯ti
微弧氧化
陶瓷膜
生长规律
电容效应
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职称材料
题名
TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜生长规律及电容效应
1
作者
王宏元
朱瑞富
王志刚
吕宇鹏
肖桂勇
朱先俊
机构
山东大学材料液固结构演变与加工教育部重点实验室
山东大学材料科学与工程学院
山东建筑大学材料科学与工程学院
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第20期2763-2766,共4页
基金
山东省自然科学基金资助项目(ZR2009FM019)
文摘
对TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷膜表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的实验现象及结果。模拟微弧氧化工艺反应过程,运用多种理论建立并分析了氧化陶瓷膜生长模型及等效电路。模型及电路分析结果证明,陶瓷膜在形成时呈现先离散分布后连接成片的生长特点,成膜后TiO2陶瓷膜具有交流耦合电容效应。模型及等效电路分析与实验结果是吻合的,为改善TA2工业纯Ti微弧氧化工艺并提高陶瓷膜性能提供了实验与理论基础。
关键词
工业纯ti
微弧氧化
陶瓷膜
生长规律
电容效应
Keywords
pure
ti
tanium
microarc oxida
ti
on
ceramic coa
ti
ng
growth rules
capacitor effect
分类号
TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜生长规律及电容效应
王宏元
朱瑞富
王志刚
吕宇鹏
肖桂勇
朱先俊
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
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