用于星载甲烷成像光谱仪的高衍射效率棱镜光栅(封面文章·特邀)

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作者 刘全 周能华 +4 位作者 王可欣 陈志伟 杨子江 潘俏 陈新华 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期1-7,共7页

棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅... 棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅,棱镜光栅在同样的光谱分辨率下可以减小光栅的尺寸,实现更加紧凑的光机结构。因此研制棱镜光栅具有重要的意义。针对甲烷的2.3μm波段,分析了棱镜光栅的衍射特性,为了进一步提高系统的结构紧凑性,在石英棱镜光栅中引入高折射率材料TiO_(2)介质膜,对于矩形槽形,占空比在0.3~0.45范围内,TiO_(2)膜层厚度在165~170 nm之间,槽深在800~950 nm之间时,光栅的衍射效率高于70%,TiO_(2)膜层厚度为165 nm,槽深在870~930 nm之间时,衍射效率高于80%。采用全息光刻-离子束刻蚀结合原子层沉积技术,制作了周期为1020 nm、光栅有效面积大于110×275 mm的棱镜光栅。实验测量中,为了消除光源波动的影响,采用了双光路测试法进行衍射效率测量,在2.275~2.325μm波段,一级衍射效率大于70%。 展开更多

关键词 棱镜光栅 全息光刻 离子束刻蚀 衍射效率

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刻蚀衍射光栅色散特性分析 被引量：1

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作者 宋军 何赛灵 何建军 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期318-322,共5页

对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的色散特性提出了一种完整的计算方案 ,分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系 .同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散 ,以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在... 对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的色散特性提出了一种完整的计算方案 ,分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系 .同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散 ,以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在一定程度上降低器件的色散 .最终指出了使用渐变的抛物线结构多模干涉更有利于得到综合性能最优的平坦频谱 . 展开更多

关键词 色散 刻蚀衍射光栅(edg) 波分复用 平坦化 相位响应 带通纹波

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硅基片上刻蚀衍射光栅及其平坦化设计 被引量：2

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作者 陈鑫 武爱民 +5 位作者 仇超 黄海阳 赵瑛璇 盛振 李伟 甘甫烷 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第3期361-366,共6页

刻蚀衍射光栅(EDG)作为实现波分复用功能的关键器件,对于片上光互连的实现至关重要。为了实现1310nm波段通道间隔为20nm的硅基EDG,采用了基尔霍夫标量衍射理论仿真方法进行理论设计和仿真验证,通过在闪耀光栅反射面引入布喇格反射光栅... 刻蚀衍射光栅(EDG)作为实现波分复用功能的关键器件,对于片上光互连的实现至关重要。为了实现1310nm波段通道间隔为20nm的硅基EDG,采用了基尔霍夫标量衍射理论仿真方法进行理论设计和仿真验证,通过在闪耀光栅反射面引入布喇格反射光栅来提高反射效率、降低器件插入损耗,并在入射波导处引入多模干涉耦合器以实现通道频谱平坦化设计。结果表明,闪耀光栅反射面的反射效率由35%提高到了85%,1d B带宽达到12nm。这对于提高系统稳定性、增大传输距离和容量、降低系统成本具有显著作用,能够满足光互连系统的实际应用需求。 展开更多

关键词 集成光学 刻蚀衍射光栅 硅基光互连 波分复用技术

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摆动刻蚀法制作高衍射效率凸面闪耀光栅 被引量：1

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作者 王琼 沈晨 +2 位作者 谭鑫 齐向东 巴音贺希格 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期3-11,共9页

通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅。该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题。建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化... 通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅。该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题。建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化的影响,并计算了优化的刻蚀工艺参数。制备了基底尺寸为67mm,曲率半径为156.88mm,刻线密度为45.5gr/mm,闪耀角为2.2°的凸面闪耀光栅,并对其表面形貌及衍射效率进行了测量。实验结果表明,摆动刻蚀法能够制作出闪耀角一致性好、衍射效率高的小闪耀角凸面光栅,满足成像光谱仪对光谱分辨率和便携性的使用要求。 展开更多

关键词 凸面闪耀光栅 摆动刻蚀 衍射效率 成像光谱仪

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基于光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅设计与制备 被引量：1

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作者 袁配 王玥 +3 位作者 吴远大 安俊明 张家顺 祝连庆 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第9期226-231,共6页

刻蚀衍射光栅作为波分复用/解复用器件,有望在光通信系统中得到广泛应用。在基于顶层硅厚度为220 nm的绝缘体上硅材料上设计并制作了一种新型刻蚀衍射光栅,该刻蚀衍射光栅引入六角晶格空气孔型光子晶体作为其反射镜。模拟结果显示,相较... 刻蚀衍射光栅作为波分复用/解复用器件,有望在光通信系统中得到广泛应用。在基于顶层硅厚度为220 nm的绝缘体上硅材料上设计并制作了一种新型刻蚀衍射光栅,该刻蚀衍射光栅引入六角晶格空气孔型光子晶体作为其反射镜。模拟结果显示,相较于传统的阶梯光栅反射镜的刻蚀衍射光栅,光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅在理论上可有效降低器件的制作工艺难度以及插入损耗,同时可以实现器件偏振的保持。随后仅利用一步电子束光刻工艺及一步电感耦合等离子体刻蚀工艺制作了该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅。测试结果表明:该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅片上损耗为9.51~11.86 dB,串扰为5.87~8.72 dB,后续可通过优化工艺条件和优化输出波导布局,进一步提高器件的性能。 展开更多

关键词 刻蚀衍射光栅 光子晶体 硅基光子学 波分复用/解复用

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闪耀全息光栅离子束刻蚀工艺模拟及实验验证 被引量：10

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作者 吴娜 谭鑫 +1 位作者 巴音贺希格 唐玉国 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期1904-1912,共9页

依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程... 依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程序进行了实验验证。调节掩模与基底材料的刻蚀速率比为2∶1至1∶2,制作了线密度为1 200l/mm,闪耀角为～8.6°,非闪耀角为34°～98°的4种闪耀光栅,与刻蚀模拟程序的结果进行对比,模拟误差<5%;控制离子束刻蚀时间为6～14min,制作了线密度为1 200l/mm,闪耀角为～8.6°,顶角平台横向尺寸为0～211nm的6种光栅,与刻蚀模拟程序的模拟结果进行对比,模拟误差<1%。比较实验及离子束刻蚀模拟结果表明,离子束刻蚀模拟程序获得的模拟刻蚀轮廓曲线与实际刻蚀轮廓曲线的误差<5%;模拟刻蚀截止点与实际刻蚀截止点误差<1%。实验表明,提出的模拟方程可以准确地描述不同工艺过程和工艺参数对最终刻蚀结果的影响,进而可预知和控制离子束刻蚀过程。 展开更多

关键词 闪耀光栅 全息光栅 衍射效率 刻蚀模拟 离子束刻蚀

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大尺寸衍射光学元件的扫描离子束刻蚀 被引量：7

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作者 邱克强 周小为 +5 位作者 刘颖 徐向东 刘正坤 盛斌 洪义麟 付绍军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期1676-1683,共8页

总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。针对自行研制的KZ-400离子束刻蚀装置,提出了组合石墨束阑结构和多位置分步刻蚀策略来提高离子束刻蚀深度的均匀性,目前在450mm尺寸内的刻蚀深度均匀性最高可达±1%。建立了针... 总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。针对自行研制的KZ-400离子束刻蚀装置,提出了组合石墨束阑结构和多位置分步刻蚀策略来提高离子束刻蚀深度的均匀性,目前在450mm尺寸内的刻蚀深度均匀性最高可达±1%。建立了针对多层介质膜光栅的衍射强度一维空间分布在线检测系统以及用于透射衍射光学元件离子束刻蚀深度的等厚干涉在线检测系统,实现了对大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀终点的定量、科学控制,提高了元件离子束刻蚀工艺的成功率。利用上述技术,成功研制出一系列尺寸的多层介质膜光栅、光束采样光栅、色分离光栅以及同步辐射光栅等多种衍射光学元件。 展开更多

关键词 衍射光学元件 离子束刻蚀 刻蚀深度 在线检测 多层介质膜光栅

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用于分频的闪耀光栅设计及衍射行为研究 被引量：8

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作者 王炜 徐俊中 +2 位作者 李永平 李涛 傅绍军 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第2期39-42,51,共5页

详细地介绍了用于分频的闪耀光栅设计方法 ;推导了影响元件性能的衍射效率公式 ;并研究了纵横向工艺误差对其衍射行为的影响。模拟结果显示在 8%和 5%纵横向相对误差范围内 ,该闪耀光栅具有良好的分色效果。

关键词 闪耀光栅 衍射 刻蚀误差 分频 设计

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高效平面全息衍射光栅的获取方法 被引量：21

9

作者 赵博 齐向东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2001年第2期109-114,共6页

从全息衍射光栅的制作原理出发 ,介绍了全息光栅的主要制作方法 ,并与刻划光栅对比分析了全息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设计的耦合波理论对全息衍射光栅槽型、槽深及槽间距等进行了优化设计 ,同时利用离子束刻蚀技术获得了高效... 从全息衍射光栅的制作原理出发 ,介绍了全息光栅的主要制作方法 ,并与刻划光栅对比分析了全息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设计的耦合波理论对全息衍射光栅槽型、槽深及槽间距等进行了优化设计 ,同时利用离子束刻蚀技术获得了高效率全息光栅。 展开更多

关键词 全息光栅 离子刻蚀 衍射效率

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光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作 被引量：7

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作者 徐向东 洪义麟 傅绍军 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期362-364,372,共4页

针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体... 针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体应用。实验结果表明,这一新工艺的突出优点是降低了苛刻的全息曝光、显影要求,使得光栅线条光滑、线空比和槽深可控。 展开更多

关键词 光刻胶灰化 离子束刻蚀 衍射光栅

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时域有限差分法分析蚀刻衍射光栅的后向衍射效率(英文) 被引量：3

11

作者 文泓桥 吴良 +2 位作者 宋军 盛钟延 何赛灵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1377-1381,共5页

采用时域有限差分法 (FDTD)结合理想匹配层 (PML)边界条件及周期性边界条件对两种结构槽面的后向衍射效率进行了分析 ,在P偏振和S偏振两种情况下 ,均得到了比传统差分方法和射线近似方法更精确的解 数值计算结果表明 :全内反射 (TIR)... 采用时域有限差分法 (FDTD)结合理想匹配层 (PML)边界条件及周期性边界条件对两种结构槽面的后向衍射效率进行了分析 ,在P偏振和S偏振两种情况下 ,均得到了比传统差分方法和射线近似方法更精确的解 数值计算结果表明 :全内反射 (TIR)结构在高折射率材料 (如InP)的蚀刻衍射光栅 (EDG)中很有效 ,而在低折射率材料 (如SiO2 ) 展开更多

关键词 后向衍射效率 时域有限差分法 FDTD 蚀刻衍射光栅 edg 理想匹配层 波分复用 WDM 偏振 光通信

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纳秒激光刻蚀玻璃基质铬薄膜直写微光栅结构 被引量：4

12

作者 张恒 周云 +1 位作者 周雷 陈林森 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期241-244,共4页

利用波长为351nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器,采用双光束干涉方法,对蒸镀在石英玻璃衬底上的铬薄膜直接刻蚀形成微光栅结构的方法进行了实验研究.通过实验,分析了激光能量和脉冲数与微光栅结构槽形和一级衍射效率之间的关系.利用光学... 利用波长为351nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器,采用双光束干涉方法,对蒸镀在石英玻璃衬底上的铬薄膜直接刻蚀形成微光栅结构的方法进行了实验研究.通过实验,分析了激光能量和脉冲数与微光栅结构槽形和一级衍射效率之间的关系.利用光学显微镜和原子力显微镜检测分析光栅槽形,测得槽深为253nm的最佳微光栅结构,并测得其在波长为532nm的激光的一级衍射效率为6.5%.结果表明:在激光能量为1150μJ时,适当增加曝光脉冲数有利于提高制备光栅的槽深和一级衍射效率. 展开更多

关键词 纳秒激光 微光栅结构 衍射效率 刻蚀

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锯齿槽闪耀光栅制作误差对衍射效率的影响 被引量：2

13

作者 葛建平 沈为民 +1 位作者 刘全 陈明辉 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第6期1557-1561,共5页

与矩形槽和正弦槽光栅相比,锯齿槽光栅具有高的衍射效率,可采用全息离子束刻蚀和单点金刚石车削两种方法制造。首先,介绍了这两种方法的制造误差。然后,分析了这些制造误差对用于可见近红外和长波红外成像光谱仪的光栅衍射效率的影响,... 与矩形槽和正弦槽光栅相比,锯齿槽光栅具有高的衍射效率,可采用全息离子束刻蚀和单点金刚石车削两种方法制造。首先,介绍了这两种方法的制造误差。然后,分析了这些制造误差对用于可见近红外和长波红外成像光谱仪的光栅衍射效率的影响,指出闪耀角误差、槽顶角误差和刻刀圆弧半径是影响锯齿槽光栅衍射效率的关键因素。为制作高质量成像光谱仪用光栅奠定了理论基础和指导。 展开更多

关键词 锯齿槽光栅 全息离子束刻蚀 单点金刚石车削 误差 衍射效率

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用于曲面光栅刻蚀的工作台轨迹拟合及测试误差分析 被引量：1

14

作者 沈晨 谭鑫 +2 位作者 朱继伟 张伟 齐向东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第3期588-596,共9页

制作高闪耀角一致性的曲面闪耀光栅需要工作台能够进行曲线拟合运动,因此针对曲面闪耀光栅离子束刻蚀机三维工作台的控制算法开展研究。首先,介绍了曲面闪耀光栅离子束刻蚀机三维工作台的原理方案。接着,根据曲面刻蚀机的实际使用要求,... 制作高闪耀角一致性的曲面闪耀光栅需要工作台能够进行曲线拟合运动,因此针对曲面闪耀光栅离子束刻蚀机三维工作台的控制算法开展研究。首先,介绍了曲面闪耀光栅离子束刻蚀机三维工作台的原理方案。接着,根据曲面刻蚀机的实际使用要求,给出了工作台运动轨迹的理论计算方法。然后,提出了一种适用于工作台的圆弧拟合算法,实现了工作台所需的曲线拟合运动。最后,在多组工作参数下开展了三维工作台运动轨迹的测量实验,并将理想轨迹与实测轨迹进行了对比。实验结果表明:工作台进行15个周期的直线拟合运动的累积定位误差小于0.218mm,角度误差小于0.02°;进行40个周期的曲线拟合运动的累积定位误差小于0.2mm,转角误差在-0.2°~0.1°。此方法实现了三维运动工作台扫描刻蚀与摆动刻蚀的功能,工作台的稳定性、精度、抗干扰能力满足设备使用要求。 展开更多

关键词 衍射光栅 曲面闪耀光栅 光栅刻蚀 三维工作台 圆弧拟合算法 轨迹误差

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分频光栅的衍射特性及误差分析 被引量：1

15

作者 邢德财 杨李茗 +1 位作者 冯国英 周礼书 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1166-1170,共5页

　基于标量衍射理论推导出了分频光栅的各级衍射效率公式,分析了分频光栅的衍射特性,发现入射光波在满足相应的相位延迟条件时,能被分频光栅以最大效率衍射进3个中央级次中的某一级。分析和比较了两种制作工艺中的刻蚀深度误差、占空比... 　基于标量衍射理论推导出了分频光栅的各级衍射效率公式,分析了分频光栅的衍射特性,发现入射光波在满足相应的相位延迟条件时,能被分频光栅以最大效率衍射进3个中央级次中的某一级。分析和比较了两种制作工艺中的刻蚀深度误差、占空比误差对衍射效率的影响。在惯性约束聚变(ICF)应用中,对于同一要求的3倍频光的衍射效率范围,两种工艺的刻蚀误差容限是相同的,但是两种工艺的相同刻蚀误差却带来不同的衍射效率。在不计其它误差时,占空比误差不会对3倍频光的衍射效率产生影响,但可以对基频光和2倍频光产生相反的影响,占空比误差还可以使基频光和2倍频光的主要衍射级次的效率都降低,同时增大它们的0级衍射效率。 展开更多

关键词 分频光栅 衍射效率 刻蚀深度误差 占空比误差

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紫外全息闪耀光栅的制作 被引量：10

16

作者 谭鑫 李文昊 +1 位作者 巴音贺希格 齐向东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期1536-1542,共7页

通过理论计算研究了影响闪耀光栅衍射效率的因素,并利用离子束刻蚀模拟程序模拟刻蚀闪耀光栅来确定闪耀光栅的制作参数。以理论计算的闪耀光栅参数为依据,以刻蚀模拟程序为指导,基于全息-离子束刻蚀工艺制作了闪耀波长分别为250nm和330... 通过理论计算研究了影响闪耀光栅衍射效率的因素,并利用离子束刻蚀模拟程序模拟刻蚀闪耀光栅来确定闪耀光栅的制作参数。以理论计算的闪耀光栅参数为依据,以刻蚀模拟程序为指导,基于全息-离子束刻蚀工艺制作了闪耀波长分别为250nm和330nm,光栅尺寸分别为85mm×85mm,60mm×60mm,线密度均为1200lp/mm的闪耀光栅。第一种光栅闪耀角为8.54°,非闪耀角为72°,其250nm波长自准直入射时的-1级衍射光衍射效率约为81%;第二种光栅闪耀角为11.68°,非闪耀角为74°,330nm波长自准直入射时的-1级衍射光衍射效率约为80%。实验结果表明,提出的方法可以在制作闪耀光栅的过程中实现对闪耀角的精确控制,获得的实验结果与理论计算结果符合较好。利用该方法能够在大尺寸基底上获得衍射效率>75%的紫外闪耀光栅。 展开更多

关键词 闪耀光栅 紫外光栅 衍射效率 刻蚀模拟

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用于1m Seya-Namioka单色仪的1200lp/mm Laminar光栅 被引量：8

17

作者 徐向东 刘正坤 +3 位作者 邱克强 刘颖 洪义麟 付绍军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期1-8,共8页

针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1mSeya-Namioka单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200lp/mm Laminar光栅。首先,通过光刻胶灰化技术调节光刻胶光栅掩模占空比,在理论设计的误差允许范围内,对此光栅掩模进行... 针对国家同步辐射实验室燃烧与火焰实验站中1mSeya-Namioka单色仪对光栅的需求,采用全息离子束刻蚀工艺制作了1 200lp/mm Laminar光栅。首先,通过光刻胶灰化技术调节光刻胶光栅掩模占空比,在理论设计的误差允许范围内,对此光栅掩模进行扫描离子束刻蚀;然后,将光栅图形转移到光栅基底中去除残余光刻胶;最后,采用离子束溅射法镀制厚约40nm的金反射膜,采用热蒸发法镀制厚约60nm的铝反射膜。用原子力显微镜分析光栅微结构,结果显示光栅槽深为40nm,占空比为0.45。同步辐射在线波长扫描测试结果表明,镀铝光栅效率明显高于镀金光栅,获得的实验结果与理论计算结果基本符合。镀金光栅已替代进口光栅在线使用3年,其寿命大大超过复制光栅,基本满足了燃烧实验站的实验研究需求。 展开更多

关键词 单色仪 衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀 真空紫外

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刻蚀波导粗糙面散射的矩量法数值分析 被引量：3

18

作者 宋军 何赛灵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1312-1315,共4页

用矩量法对刻蚀波导粗糙面的散射特性做出了精确的数值分析 基于MonteCarlo方法建立高斯粗糙面数学模型 ,证明矩量法在分析刻蚀波导散射问题时 ,是可以应用于不同起伏高度、不同入射角的一种精确而高效的数值方法 对不同起伏高度的两... 用矩量法对刻蚀波导粗糙面的散射特性做出了精确的数值分析 基于MonteCarlo方法建立高斯粗糙面数学模型 ,证明矩量法在分析刻蚀波导散射问题时 ,是可以应用于不同起伏高度、不同入射角的一种精确而高效的数值方法 对不同起伏高度的两种偏振态 ,分别在小角度入射和大角度入射两种情况的随机散射特性应用矩量法做出了分析 并以基于二氧化硅波导的EDG器件为例 。 展开更多

关键词 粗糙面 散射 矩量法 Moilte CARLO方法 平面波导 刻蚀衍射光栅(edg)

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红外30μm亚波长抗反射光栅的制作 被引量：7

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作者 曹召良 卢振武 +3 位作者 张平 王淑荣 赵晶丽 李凤有 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期6-10,共5页

利用严格耦合波理论设计出亚波长抗反射光栅 ,并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状抗反抗光栅 .测量结果发现该光栅具有良好的增透特性 ,并且测得光栅参数和理论设计参数基本一致 ,表明等离子体辅助刻蚀是制作深光栅的有效方法 .对实... 利用严格耦合波理论设计出亚波长抗反射光栅 ,并通过等离子体辅助刻蚀制作出了立方状抗反抗光栅 .测量结果发现该光栅具有良好的增透特性 ,并且测得光栅参数和理论设计参数基本一致 ,表明等离子体辅助刻蚀是制作深光栅的有效方法 .对实验结果进行了分析和讨论 ,结果表明 。 展开更多

关键词 亚波长 抗反射光栅 严格耦合波理论 红外技术 等离子体辅助刻蚀 光栅参数 衍射光学元件

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亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作 被引量：3

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作者 曹召良 陆广 +5 位作者 王吉增 杨柏 卢振武 李凤有 任智斌 刘玉玲 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期653-656,共4页

采用软光刻技术中的微接触印刷 (μCP)技术、表面诱导的水蒸气冷凝、表面诱导的去湿行为 ,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜 通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度、轮廓保真度和线宽分辨的影响分... 采用软光刻技术中的微接触印刷 (μCP)技术、表面诱导的水蒸气冷凝、表面诱导的去湿行为 ,在金基底上制作出了亚微米的环状周期结构聚合物掩膜 通过对离子束刻蚀过程中各个参量对刻蚀元件的表面光洁度、轮廓保真度和线宽分辨的影响分析 ,结合掩膜的实际情况选择出了合适的离子束入射角、离子能量、束流密度和刻蚀时间等参量 依照这些参量刻蚀出了高质量的亚微米尺寸环状周期结构元件 通过对刻蚀出的元件的检测发现 ,刻出的元件表面光洁度。 展开更多

关键词 离子束刻蚀 制作技术 亚微米尺寸元件 离子能量 束流密度 刻蚀速率 表面光洁度 软光刻 衍射光学元件 集成电路 亚波长光栅

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