电压对中频脉冲非平衡磁控溅射类金刚石薄膜结构与性能的影响 被引量：1

1

作者 王俊玲 代海洋 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2015年第12期16-19,7,共4页

制备参数对类金刚石(DLC)薄膜的性能和结构有显著影响。利用中频脉冲非平衡磁控溅射新技术制备了DLC薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪、光谱型椭偏仪研究了溅射电压对DLC薄膜微观结构、力学性能和光学性能的影响。结... 制备参数对类金刚石(DLC)薄膜的性能和结构有显著影响。利用中频脉冲非平衡磁控溅射新技术制备了DLC薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪、光谱型椭偏仪研究了溅射电压对DLC薄膜微观结构、力学性能和光学性能的影响。结果表明:当溅射电压由550 V增加到750 V时,DLC薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而增加,当溅射电压超过750 V时,薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而减少;DLC薄膜的纳米硬度、折射率均随溅射电压的增加先增加而后减小,溅射电压为750 V时制备薄膜的纳米硬度及折射率最大。 展开更多

关键词 类金刚石膜 中频脉冲非平衡磁控溅射 溅射电压 膜结构 膜性能

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中频非平衡磁控溅射制备Ti-N-C膜 被引量：2

2

作者 张以忱 巴德纯 +1 位作者 颜云辉 马胜歌 《东北大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1049-1052,共4页

采用霍尔离子源辅助中频非平衡磁控溅射技术,通过改变工作气氛、偏压模式、溅射电流以及辅助离子束电流,在不锈钢材料基体上制备了Ti/TiN/Ti(C,N)硬质耐磨损膜层.对薄膜的颜色、晶体结构、膜基结合力等性能进行了检测分析.结果表明:膜... 采用霍尔离子源辅助中频非平衡磁控溅射技术,通过改变工作气氛、偏压模式、溅射电流以及辅助离子束电流,在不锈钢材料基体上制备了Ti/TiN/Ti(C,N)硬质耐磨损膜层.对薄膜的颜色、晶体结构、膜基结合力等性能进行了检测分析.结果表明:膜层的颜色对工作气氛非常敏感,反应溅射中工作气氛的微小变化会引起表面膜层颜色很大的变化.在正常的反应气体进气量范围内和较小的基体偏压下,薄膜的晶体结构没有明显的择优取向.但是反应气体的过量通入会使薄膜的晶体结构出现晶面择优取向趋势.非平衡磁控溅射成膜技术对薄膜晶体结构的择优取向影响并不是很大.在镀膜过程中施加霍尔电流,可以有效地增加膜基结合力. 展开更多

关键词 Ti—N—C薄膜 非平衡磁控溅射 中频溅射靶 晶体结构 离子束辅助沉积

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高功率脉冲非平衡磁控溅射放电特性和参数研究 被引量：1

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作者 牟宗信 王春 +4 位作者 贾莉 牟晓东 藏海荣 刘冰冰 董闯 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期365-369,共5页

用线圈电流控制非平衡磁场,用汤森放电击穿形成深度自触发放电,用磁阱捕获放电形成的二次电子和导致漂移电流,形成了高功率非平衡磁控溅射放电。采用偏压为-100V相对磁控靶放置的圆形平面电极收集饱和离子电流;在距离磁控靶14cm的位置由... 用线圈电流控制非平衡磁场,用汤森放电击穿形成深度自触发放电,用磁阱捕获放电形成的二次电子和导致漂移电流,形成了高功率非平衡磁控溅射放电。采用偏压为-100V相对磁控靶放置的圆形平面电极收集饱和离子电流;在距离磁控靶14cm的位置由Langmuir探针测量浮置电位;示波器测量磁控靶的脉冲电压、电流、浮置电位和饱和离子电流信号。装置的放电脉冲功率达到0.9MW,脉冲频率最大值为40Hz左右,空间电荷限制条件是控制电子电流和离子电流的主要机制。 展开更多

关键词 高功率脉冲 非平衡磁控溅射 放电特性 参数研究 magnetron sputtering high power discharge properties 离子电流 磁控靶 LANGMUIR探针 示波器测量 主要机制 形成深度 限制条件 脉冲频率 脉冲功率 脉冲电压 电流控制 空间电荷 浮置

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中频孪生靶非平衡磁控溅射制备Ti/TiN/Ti(N,C)黑色硬质膜 被引量：4

4

作者 马胜歌 吴宇峰 耿漫 《真空与低温》 2006年第1期15-18,22,共5页

利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能,在不同硬度基底上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)多层复合膜。膜呈深黑色,表面光滑平整,可见光区反射率在8.2%～10.2%之间,亮度L=38.01,沉积速率约为1.21μmh。膜的硬度测试... 利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能,在不同硬度基底上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)多层复合膜。膜呈深黑色,表面光滑平整,可见光区反射率在8.2%～10.2%之间,亮度L=38.01,沉积速率约为1.21μmh。膜的硬度测试结果受基底影响较大,YW2硬质合金基底上制备0.85μm厚的黑色硬质膜显微硬度Hv(25g)=2936。膜的结合力不高,有待进一步优化工艺加以解决。 展开更多

关键词 黑色硬质膜 非平衡磁控溅射 Ti(N C) 中频反应溅射 孪生靶

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柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜

5

作者 马胜歌 康光宇 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期35-38,共4页

采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱... 采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜。采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能。结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深。 展开更多

关键词 黑色硬质膜 Ti—N—C 柱弧离子镀 中频溅射 非平衡磁控溅射

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磁控溅射技术新进展及应用 被引量：22

6

作者 张继成 吴卫东 +1 位作者 许华 唐晓红 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第4期56-59,共4页

主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方... 主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果。 展开更多

关键词 磁控溅射技术 薄膜制备 多靶磁控溅射技术 磁场扫描法 非平衡磁控溅射技术 脉冲磁控溅射技术

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直流磁控溅射研究进展 被引量：13

7

作者 石永敬 龙思远 +1 位作者 王杰 潘复生 《材料导报》 CSCD 北大核心 2008年第1期65-69,共5页

直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术,广泛应用在工业生产和科学研究中。主要评论了近年来直流磁控溅射技术在溅射机理和非平衡闭合磁控靶等方面取得的重要进展,并评述了脉冲磁控模式和基于闭合磁场直流磁控溅射沉积涂层的结构区域模... 直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术,广泛应用在工业生产和科学研究中。主要评论了近年来直流磁控溅射技术在溅射机理和非平衡闭合磁控靶等方面取得的重要进展,并评述了脉冲磁控模式和基于闭合磁场直流磁控溅射沉积涂层的结构区域模型。直流非平衡磁控溅射是直流磁控溅射技术中的重要里程碑,使磁控溅射技术直接过渡到离子镀阶段,而脉冲磁控溅射技术为稳定沉积高质量的非导电涂层作出了重要的贡献。 展开更多

关键词 磁控溅射 非平衡闭合磁场 脉冲 薄膜结构

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磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测 被引量：22

8

作者 杨武保 《石油机械》 北大核心 2005年第6期73-76,共4页

磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉... 磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术。 展开更多

关键词 发展趋势 镀膜技术 磁控溅射技术 预测 脉冲磁控溅射 反应溅射沉积 表面处理技术 非平衡磁场 功能薄膜 薄膜制备 石化行业 耐磨 耐蚀 高纯 电镀

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甲烷压强对类金刚石薄膜结构与性能的影响 被引量：1

9

作者 刘海增 代海洋 +1 位作者 陈镇平 王春芬 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期55-59,共5页

以氩气、氩气-甲烷为辅助气体,高纯石墨为靶材,采用脉冲非平衡磁控溅射技术制备了无定形碳膜(a—C)及氢化无定形碳膜(a—C∶H)。利用台阶仪、傅里叶红外光谱、Raman光谱、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备类金刚石膜的沉积速率、结构、... 以氩气、氩气-甲烷为辅助气体,高纯石墨为靶材,采用脉冲非平衡磁控溅射技术制备了无定形碳膜(a—C)及氢化无定形碳膜(a—C∶H)。利用台阶仪、傅里叶红外光谱、Raman光谱、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备类金刚石膜的沉积速率、结构、力学性能、折射率随甲烷气体含量的变化进行表征。结果表明:甲烷压强对类金刚石膜的结构与性能具有较大影响;类金刚石膜的沉积速率和键合氢的含量随着甲烷压强的增加而增加,但是薄膜中的sp3杂化碳的含量随着甲烷压强的增加而减小;类金刚石膜的纳米硬度和折射率均随甲烷压强的增加而减小。 展开更多

关键词 类金刚石膜 甲烷压强 脉冲非平衡磁控溅射技术 结构 性能

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UBMS和PVAD法制备DLC薄膜表面微观形貌分析

10

作者 杭凌侠 郭晓川 《西安工业大学学报》 CAS 2010年第1期13-16,66,共5页

光学薄膜的表面粗糙度是影响薄膜光学特性的重要因素，薄膜表面产生的散射损耗将影响薄膜的光学质量．采用非平衡磁控溅射（Unbalance Magnetron Sputtering，UBMS）和脉冲真空电弧沉积（Pulsed Vacuum Arc Deposition，PVAD）制备类金... 光学薄膜的表面粗糙度是影响薄膜光学特性的重要因素，薄膜表面产生的散射损耗将影响薄膜的光学质量．采用非平衡磁控溅射（Unbalance Magnetron Sputtering，UBMS）和脉冲真空电弧沉积（Pulsed Vacuum Arc Deposition，PVAD）制备类金刚石薄膜（Diamond Like Carbon，DLC），利用泰勒霍普森表面轮廓仪，研究了不同工艺参数、不同薄膜厚度下所沉积的DLC薄膜表面粗糙度变化规律．结果表明：两种沉积技术下，随着薄膜厚度的增加，其表面均方根粗糙度先减小后增大．真空度和脉冲频率对表面粗糙度有显著影响．真空度在0．4～0．8Pa范围变化时，表面均方根粗糙度变化范围为0．8886～1．6104nm，脉冲频率在1～5Hz范围变化时，表面均方根粗糙度变化范围为1．0407～1．5458nm． 展开更多

关键词 DLC薄膜 表面粗糙度 非平衡磁控溅射 脉冲真空电弧沉积

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多功能组合光学镀膜机

11

作者 张立新 《西安工业大学学报》 CAS 2017年第10期780-780,共1页

西安工业大学将脉冲电弧离子束镀膜技术、非平衡磁控溅射镀膜技术和电子柬热蒸发镀膜技术根据薄膜种类进行组合使用，研制出了一种多功能组合光学镀膜机，成功实现了各种光学薄膜、光电功能多层薄膜以及光电微系统的制备。

关键词 光学镀膜机 功能组合 非平衡磁控溅射 镀膜技术 光学薄膜 光电功能 脉冲电弧 工业大学

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多功能组合光学镀膜机

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作者 张立新 《西安工业大学学报》 CAS 2016年第2期154-154,共1页

西安工业大学将脉冲电弧离子束镀膜技术、非平衡磁控溅射镀膜技术和电子束热蒸发镀膜技术根据薄膜种类进行组合使用,研制出了一种多功能组合光学镀膜机,成功实现了各种光学薄膜、光电功能多层薄膜以及光电微系统的制备。该光学镀膜机具... 西安工业大学将脉冲电弧离子束镀膜技术、非平衡磁控溅射镀膜技术和电子束热蒸发镀膜技术根据薄膜种类进行组合使用,研制出了一种多功能组合光学镀膜机,成功实现了各种光学薄膜、光电功能多层薄膜以及光电微系统的制备。该光学镀膜机具备镀膜时被镀件始终保持在真空状态,蒸发源实时快速转换的优点,可实现所有的功能加工在一台设备内完成,有效地避免了采用不同方法制造薄膜器件时,薄膜界面之间由外界污染造成的影响。 展开更多

关键词 镀膜机 光学薄膜 镀膜技术 离子束镀 脉冲电弧 非平衡磁控溅射 热蒸发 微系统 多层薄膜 薄膜器件

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