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Corrosion resistance of self-healing three-dimensional Ti/Al-doped TiO_(2)nanotubes Ti_(3)AlC_(2)coating deposited by magnetron sputtered on copper
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作者 WANG Guo-qing WANG Ning +5 位作者 HU Yi-teng WANG Jing GAO Chuan-hui WANG Jie XUE Jun-jie YAN Ke-xin 《Journal of Central South University》 2025年第3期867-881,共15页
Copper is a versatile material,commonly utilized in power transmission and electronic devices,but its relative high reactivity necessitates a long-lasting protective technique.Here,we report a method that combines pla... Copper is a versatile material,commonly utilized in power transmission and electronic devices,but its relative high reactivity necessitates a long-lasting protective technique.Here,we report a method that combines plasma-enhanced non-equilibrium magnetron sputtering physical vapor deposition(PEUMS-PVD)and anodization to construct a self-healing three-dimensional Ti/Al-doped TiO_(2)nanotubes/Ti_(3)AlC_(2)coating on the surface of Cu substrates.This novel strategy enhances the corrosion resistance of copper substrates in marine environments,with corrosion current densities of up to 4.5643×10^(−8)A/cm^(2).Among them,the doping of nano-aluminum particles makes the coating self-healing.The mechanistic analysis of the corrosion behaviors during early immersion experiments was conducted using electrochemical noise,and revealed that during the initial stages of coating immersion,uniform corrosion predominates,with a minor occurrence of localized corrosion. 展开更多
关键词 magnetron sputtering TiO_(2)nanotubes Ti_(3)AlC_(2)coating corrosion resistance performance
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The Status Quo and Development Trend of High-purity Gold Sputtering Targets 被引量:1
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作者 YANG Anheng XIE Hongchao ZHU Yong 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2012年第A01期173-176,共4页
This article gives a brief introduction to manufacturers and markets of sputtering targets as well as the manufacturing technology thereof. Then, it analyzes the application of high-purity gold sputtering targets in t... This article gives a brief introduction to manufacturers and markets of sputtering targets as well as the manufacturing technology thereof. Then, it analyzes the application of high-purity gold sputtering targets in the fields of integrated circuit, information storage, flat panel display, etc. Based on the above, the article analyzes the processing development trend for the high-purity gold sputtering targets in aspects of ultra-high purity, manufacturing technology, analysis and testing technologies. 展开更多
关键词 high-purity gold sputtering targets status quo development trend
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Multifunctional hopeite nanocoating on Ti64 substrates by pulsed laser deposition and radio frequency magnetron sputtering for orthopedic implant applications:A comparative study 被引量:3
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作者 Ashish DAS Mukul SHUKLA 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第8期2198-2209,共12页
Functionalized implants demonstrate an upgraded approach in orthopedic implants,aiming to achieve long term success through improved bio integration.Bioceramic coatings with multifunctionality have arisen as an effect... Functionalized implants demonstrate an upgraded approach in orthopedic implants,aiming to achieve long term success through improved bio integration.Bioceramic coatings with multifunctionality have arisen as an effective substitute for conventional coatings,owing to their combination of various properties that are essential for bio-implants,such as osteointegration and antibacterial character.In the present study,thin hopeite coatings were produced by Pulsed laser deposition(PLD)and radio frequency magnetron sputtering(RFMS)on Ti64 substrates.The obtained hopeite coatings were annealed at 500°C in ambient air and studied in terms of surface morphology,phase composition,surface roughness,adhesion strength,antibacterial efficacy,apatite forming ability,and surface wettability by scanning electron microscope(SEM),X-ray diffraction(XRD),atomic force microscope(AFM),tensometer,fluorescence-activated cell sorting(FACS),simulated body fluid(SBF)immersion test and contact angle goniometer,respectively.Furthermore,based on promising results obtained in the present work it can be summarized that the new generation multifunctional hopeite coating synthesized by two alternative new process routes of PLD and RFMS on Ti64 substrates,provides effective alternatives to conventional coatings,largely attributed to strong osteointegration and antibacterial character of deposited hopeite coating ensuring the overall stability of metallic orthopedic implants. 展开更多
关键词 hopeite Ti64 alloy pulsed laser deposition magnetron sputtering coating IMPLANT
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Photoluminescence properties of ZnO thin films prepared by DC magnetron sputtering 被引量:2
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作者 杨兵初 刘晓艳 +1 位作者 高飞 马学龙 《Journal of Central South University of Technology》 EI 2008年第4期449-453,共5页
ZnO thin films were prepared by direct current(DC)reactive magnetron sputtering under different oxygen partial pressures.And then the samples were annealed in vacuum at 450℃.The effects of the oxygen partial pressure... ZnO thin films were prepared by direct current(DC)reactive magnetron sputtering under different oxygen partial pressures.And then the samples were annealed in vacuum at 450℃.The effects of the oxygen partial pressures and the treatment of annealing in vacuum on the photoluminescence and the concentration of six intrinsic defects in ZnO thin films such as oxygen vacancy(VO),zinc vacancy(VZn),antisite oxygen(OZn),antisite zinc(ZnO),interstitial oxygen(Oi)and interstitial zinc(Zni)were studied.The results show that a green photoluminescence peak at 520 nm can be observed in all the samples,whose intensity increases with increasing oxygen partial pressure;for the sample annealed in vacuum,the intensity of the green peak increases as well.The green photoluminescence peak observed in ZnO may be attributed to zinc vacancy,which probably originates from transitions between electrons in the conduction band and zinc vacancy levels,or from transitions between electrons in zinc vacancy levels and up valence band. 展开更多
关键词 ZnO thin films PHOTOLUMINESCENCE zinc vacancy magnetron sputtering
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Electrochemical Behaviour of Sputtering Deposited DLC Films 被引量:1
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作者 LIU Erjia,ZENG A,LIU L X( School of Mechanical and Production Engineering, Nanyang Technological University ,50 Nanyang Avenue, Singapore 639798) 《中山大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第A19期11-14,共4页
Diamondlike carbon (DLC) films were deposited via magnetron sputtering process. The energetic ion hombardment on the surface of growing film is one of the major parameters that control the atom mobility on the flirt... Diamondlike carbon (DLC) films were deposited via magnetron sputtering process. The energetic ion hombardment on the surface of growing film is one of the major parameters that control the atom mobility on the flirt1 surface and further the physical and chemical characteristics of the films. In this study, the energy of carbon ions was monitored by changing sputtering powerdensity, and its effect on the electrochemical performance of the films was investigated. For the deposition at a higher sputtering power density, a higher sp^3 content in the DLC films was achieved with denser structure and increased film-substrate adhesion. The impedance at the interface of Si substrate/sulfufic acid solution was significantly enhanced, and at the same time higher film resistance, lower capacitance, higher breakdown potential and longer breakdown time were observed, which were related to the significant sp^3 content of the DLC films. 展开更多
关键词 DLC薄膜 钻石形碳膜 磁控管溅射沉积法 电化学特性 薄膜生长
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Effects of ratio of hydrogen flow on microstructure of hydrogenated microcrystalline silicon films deposited by magnetron sputtering at 100 ℃
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作者 WANG Lin-qing ZHOU Yong-tao +1 位作者 WANG Jun-jun LIU Xue-qin 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第10期2661-2667,共7页
Hydrogenated microcrystalline silicon(μc-Si:H)films were prepared on glass and silicon substrates by radio frequency magnetron sputtering at 100°C using a mixture of argon(Ar)and hydrogen(H2)gasses as precursor ... Hydrogenated microcrystalline silicon(μc-Si:H)films were prepared on glass and silicon substrates by radio frequency magnetron sputtering at 100°C using a mixture of argon(Ar)and hydrogen(H2)gasses as precursor gas.The effects of the ratio of hydrogen flow(H2/(Ar+H2)%)on the microstructure were evaluated.Results show that the microstructure,bonding structure,and surface morphology of theμc-Si:H films can be tailored based on the ratio of hydrogen flow.An amorphous to crystalline phase transition occurred when the ratio of hydrogen flow increased up to 50%.The crystallinity increased and tended to stabilize with the increase in ratio of hydrogen flow from 40%to 70%.The surface roughness of thin films increased,and total hydrogen content decreased as the ratio of hydrogen flow increased.Allμc-Si:H films have a preferred(111)orientation,independent of the ratio of hydrogen flow.And theμc-Si:H films had a dense structure,which shows their excellent resistance to post-oxidation. 展开更多
关键词 hydrogenated microcrystalline silicon films radio frequency magnetron sputtering ratio of hydrogen flow low temperature MICROSTRUCTURE
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Simulation of Discharge Plasma in Mid-frequency Pulsed DC Magnetron
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作者 QIU Qingquan QU Fei GU Hongwei ZHANG Guomin DAI Shaotao 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2526-2531,共6页
关键词 放电等离子体 脉冲磁控溅射 脉冲直流 模拟系统 中频 等离子体性能 粒子模型 等离子体密度
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Effect of substrate temperature and oxygen plasma treatment on the properties of magnetron-sputtered CdS for solar cell applications
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作者 Runxuan Zang Haolin Wang +9 位作者 Xiaoqi Peng Ke Li Yuehao Gu Yizhe Dong Zhihao Yan Zhiyuan Cai Huihui Gao Shuwei Sheng Rongfeng Tang Tao Chen 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期22-33,I0010,共13页
Cadmium sulfide(CdS)is an n-type semiconductor with excellent electrical conductivity that is widely used as an electron transport material(ETM)in solar cells.At present,numerous methods for preparing CdS thin films h... Cadmium sulfide(CdS)is an n-type semiconductor with excellent electrical conductivity that is widely used as an electron transport material(ETM)in solar cells.At present,numerous methods for preparing CdS thin films have emerged,among which magnetron sputtering(MS)is one of the most commonly used vacuum techniques.For this type of technique,the substrate temperature is one of the key deposition parameters that affects the interfacial properties between the target film and substrate,determining the specific growth habits of the films.Herein,the effect of substrate temperature on the microstructure and electrical properties of magnetron-sputtered CdS(MS-CdS)films was studied and applied for the first time in hydrothermally deposited antimony selenosulfide(Sb_(2)(S,Se)_(3))solar cells.Adjusting the substrate temperature not only results in the design of the flat and dense film with enhanced crystallinity but also leads to the formation of an energy level arrangement with a Sb_(2)(S,Se)_(3)layer that is more favorable for electron transfer.In addition,we developed an oxygen plasma treatment for CdS,reducing the parasitic absorption of the device and resulting in an increase in the short-circuit current density of the solar cell.This study demonstrates the feasibility of MS-CdS in the fabrication of hydrothermal Sb_(2)(S,Se)_(3)solar cells and provides interface optimization strategies to improve device performance. 展开更多
关键词 magnetron sputtering CDS substrate heating plasma treatment Sb_(2)(S Se)_(3) thin film solar cell
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钯及其合金膜制备研究进展
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作者 王莹 田梦圆 +2 位作者 张振展 刘明 李慧 《膜科学与技术》 北大核心 2025年第2期192-204,共13页
在氢气相关应用领域,高纯氢的需求日益增加,钯基膜以其优异的氢气渗透性和选择性,在氢气分离-纯化领域得到广泛应用。但在一定温度和压力下会发生氢脆,研究者通过在钯膜中加入其他金属元素来解决该问题,通过合金化后抑制氢脆并提高氢气... 在氢气相关应用领域,高纯氢的需求日益增加,钯基膜以其优异的氢气渗透性和选择性,在氢气分离-纯化领域得到广泛应用。但在一定温度和压力下会发生氢脆,研究者通过在钯膜中加入其他金属元素来解决该问题,通过合金化后抑制氢脆并提高氢气透量。本综述旨在总结不同制备方法的过程和技术,详细介绍其工作原理、发展历史、膜层的沉积过程以及利用其生产的一些材料,展望了未来钯基膜制备方法的发展方向及挑战,以期为钯合金膜的制备方法创新提供思路。 展开更多
关键词 钯膜 制备 氢气分离 磁控溅射 合金
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Mo-DLC/Mo薄膜在甲醇中的摩擦学性能研究
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作者 苏永要 彭浩 +4 位作者 徐照英 张腾飞 王锦标 余伟杰 阮海波 《表面技术》 北大核心 2025年第9期121-129,共9页
目的甲醇燃料的应用给内燃机喷射系统关键运动部件的稳定、高效运行带来了挑战。基于关键部件在减摩抗磨方面的迫切需求,在高速钢表面设计并制备Mo掺杂的类金刚石(Mo-DLC)薄膜。方法采用磁控溅射技术,在高速钢表面制备具有Mo过渡层的Mo-... 目的甲醇燃料的应用给内燃机喷射系统关键运动部件的稳定、高效运行带来了挑战。基于关键部件在减摩抗磨方面的迫切需求,在高速钢表面设计并制备Mo掺杂的类金刚石(Mo-DLC)薄膜。方法采用磁控溅射技术,在高速钢表面制备具有Mo过渡层的Mo-DLC/Mo薄膜,并与未制备过渡层的Mo-DLC薄膜进行对比研究。利用激光拉曼光谱仪、扫描电子显微镜、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机等检测设备,对薄膜的微观结构、形貌、力学性能、摩擦磨损性能进行系统研究。结果Mo-DLC/Mo薄膜的内应力约为1.85 GPa,膜基结合力约为210 mN。与未制备过渡层的Mo-DLC薄膜(2.18 GPa,100 mN)相比,内应力降低了约15%,膜基结合力提高了110%。此外,Mo-DLC/Mo薄膜还具有优异的耐磨损性能和环境适应性,在空气和甲醇中的磨损率均较低,分别为4.6×10^(−8)、5.8×10^(−8)mm^(3)/(N·m)。结论Mo过渡层对Mo-DLC的力学性能、摩擦学性能的影响显著,Mo-DLC/Mo薄膜在甲醇中展现出优异的摩擦磨损性能,可为低应力DLC的制备及其在醇类内燃机行业的应用提供理论基础和技术储备。 展开更多
关键词 磁控溅射 DLC薄膜 过渡层 摩擦磨损 甲醇
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射频磁控溅射法制备MoS_(2)纳米薄膜的光学性能研究
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作者 樊志琴 邢淑涵 +2 位作者 李瑞 张丽英 张俊峰 《化工新型材料》 北大核心 2025年第2期131-134,共4页
采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底表面沉积不同厚度的MoS_(2)纳米薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见光分光光谱(UV-Vis)和荧光光谱等手段对MoS_(2)薄膜结构及光谱性质进行表征。结果表明:溅射时间越长,MoS_(2)薄膜的... 采用射频磁控溅射法在石英玻璃衬底表面沉积不同厚度的MoS_(2)纳米薄膜,利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见光分光光谱(UV-Vis)和荧光光谱等手段对MoS_(2)薄膜结构及光谱性质进行表征。结果表明:溅射时间越长,MoS_(2)薄膜的结晶性越好。薄膜形成条状纳米结构相互交叠的表面形貌,样品表面形貌均匀致密。MoS_(2)纳米薄膜在可见光波段对短波长光源吸收较强,对长波长光源透射较强。随着溅射时间的增加,薄膜厚度增加,导致MoS_(2)纳米薄膜的吸收系数增加,透射率减小,光学带隙也逐渐减少。在MoS_(2)薄膜的发射谱中,位于675nm的A激子峰,对应的带隙为1.8eV。发射峰的强度随着MoS_(2)薄膜层数的增加而减小,发射峰的位置随着MoS_(2)薄膜层数的增加而蓝移。 展开更多
关键词 MoS_(2)薄膜 射频磁控溅射 光学性能 激子峰
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钴铬钼基高熵合金薄膜的耐腐蚀性与耐磨性
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作者 王波 戴铭成 +2 位作者 张丽霞 齐艳飞 汤云晖 《北京工业大学学报》 北大核心 2025年第9期1024-1032,共9页
钴铬钼合金在作为人工关节应用于人体时会产生磨粒降低使用寿命以及影响人体健康的金属离子,为了寻找性能更为优异的医用材料,延长人工关节的使用寿命,采用扇形复合靶,通过磁控溅射技术在硅片上制备了钴铬钼基高熵合金薄膜,并对其微观... 钴铬钼合金在作为人工关节应用于人体时会产生磨粒降低使用寿命以及影响人体健康的金属离子,为了寻找性能更为优异的医用材料,延长人工关节的使用寿命,采用扇形复合靶,通过磁控溅射技术在硅片上制备了钴铬钼基高熵合金薄膜,并对其微观结构以及耐腐蚀性和耐磨性进行了深入研究。结果表明:随着组成元素的增加,混合熵与原子半径相对标准差呈增大趋势,混合焓一直处于较低水平,其中七元高熵合金薄膜具有最优的耐磨性和耐腐蚀性。混合熵的增加降低了合金的吉布斯自由能,提高了合金薄膜的化学稳定性,导致更强的非晶倾向、更低的体系自由能,所以合金薄膜表现出更优良的耐腐蚀性、耐磨性以及相关力学性质。另外,添加的Zr、Nb元素有助于减小晶体颗粒尺度,降低表面的粗糙度,从而增强了合金薄膜的耐腐蚀性与耐磨性。该研究可为高熵合金薄膜在人工关节领域的应用提供参考。 展开更多
关键词 磁控溅射 高熵合金 薄膜 非晶 耐腐蚀性 耐磨性
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N_(2)/Ar流量比对TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的影响
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作者 魏永强 张华森 +5 位作者 张晓晓 顾艳阳 刘畅 吕怿东 韦春贝 钟素娟 《表面技术》 北大核心 2025年第14期92-104,共13页
目的 通过改变N2/Ar流量比,研究TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的变化规律。方法采用电弧离子镀(Arc Ion Plating,AIP)和高功率脉冲磁控溅射(High Power Pulsed Magnetron Sputtering,Hi PIMS)复合方法,通过调节N_(2)/Ar流量比,... 目的 通过改变N2/Ar流量比,研究TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的变化规律。方法采用电弧离子镀(Arc Ion Plating,AIP)和高功率脉冲磁控溅射(High Power Pulsed Magnetron Sputtering,Hi PIMS)复合方法,通过调节N_(2)/Ar流量比,分别在M2高速钢和单晶硅片(100)上制备TiZrN/TiN纳米多层薄膜。研究N2/Ar流量比对TiZrN/TiN纳米多层薄膜形貌结构、元素成分、相结构、纳米硬度、膜基结合力、摩擦磨损性能和耐腐蚀性能的影响。结果在N2/Ar流量比为35/65时,薄膜表面粗糙度最低达到0.298μm;在N2/Ar流量比为40/60时,薄膜总厚度最高达574 nm;TiZrN/TiN纳米多层薄膜均以(111)晶面为择优取向,硬度在22.95~27.15 GPa。在N2/Ar流量比为25/75时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜离子轰击作用最强,Zr/(Ti+Zr)的值较大(0.088),硬度和弹性模量最高分别达到27.15 GPa和271.14 GPa。在N_(2)/Ar流量比为25/75和30/70时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜的膜基结合力最好,达到HF1等级。TiZrN/TiN纳米多层薄膜稳定摩擦系数均在0.8左右,磨损率先增大后减小。N_(2)/Ar流量比为25/75时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜的自腐蚀电位和自腐蚀电流密度分别为-0.546 V和1.167μA/cm^(2),薄膜对M2高速钢基体的保护率最高达到87.9%。结论采用电弧离子镀和高功率脉冲磁控溅射复合方法,大幅改善了薄膜表面质量;N_(2)/Ar流量比可改变离子轰击强度的强弱,随着N_(2)/Ar流量比的增加,沉积离子轰击强度逐渐减弱,薄膜硬度和耐腐蚀性能逐渐下降;在N_(2)/Ar流量比为25/75时,薄膜综合性能最优。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 电弧离子镀 TiZrN/TiN纳米多层薄膜 N_(2)/Ar流量比 纳米硬度 耐磨性
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预溅射层对铜铟镓硒薄膜择优取向调控研究 被引量:1
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作者 戴万雷 高泽冉 +3 位作者 孙亚利 蒋昭毅 王英龙 于威 《太阳能学报》 北大核心 2025年第1期696-703,共8页
采用高温直接溅射Cu-In-Ga-Se四元合金靶材工艺制备光吸收层,通过对预溅射层温度和厚度的调控,研究铜铟镓硒(CIGS)预溅射层对直接溅射法制备CIGS薄膜的(220)择优取向调控机理。结果表明,预溅射层沉积温度逐渐降低时,CIGS薄膜X射线衍射(X... 采用高温直接溅射Cu-In-Ga-Se四元合金靶材工艺制备光吸收层,通过对预溅射层温度和厚度的调控,研究铜铟镓硒(CIGS)预溅射层对直接溅射法制备CIGS薄膜的(220)择优取向调控机理。结果表明,预溅射层沉积温度逐渐降低时,CIGS薄膜X射线衍射(XRD)I_((220))/I_((112))比值从0.43增大到1.05,晶粒尺寸逐渐变大且均匀。预溅射层厚度从0增加到120 nm时,I_((220))/I_((112))比值从0.48增大到1.12。在溅射温度为室温,预溅射层厚度为80 nm时,最终获得单点10.94%的器件效率。分析预溅射层表面AFM和XPS以及器件HRETM,发现低温预溅射层引入能够显著降低衬底表面电位,电压的振幅只有25 m V,较低的表面电位促进了高温沉积CIGS(220)择优取向,同时(220)择优取向促进了化学水浴工艺时Cd离子的掺杂,最终提升了CIGS器件效率。 展开更多
关键词 铜铟镓硒 四元靶材 磁控溅射 择优取向 表面电位
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掺杂改性氮化物基薄膜摩擦、腐蚀与抗菌性能的研究进展
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作者 张懋达 鞠长滨 +3 位作者 王珏 韩培培 赵梁 周飞 《表面技术》 北大核心 2025年第2期70-86,共17页
由于PVD硬质薄膜与金属之间有着较高的黏附强度,且薄膜具有致密结构以及良好的力学、耐磨和耐腐蚀性,同时能够隔绝腐蚀环境中的盐分与材料表面直接接触,因此在其表面沉积具有优异磨损腐蚀和抗菌特性的防护薄膜可以保障金属材料在磨损/... 由于PVD硬质薄膜与金属之间有着较高的黏附强度,且薄膜具有致密结构以及良好的力学、耐磨和耐腐蚀性,同时能够隔绝腐蚀环境中的盐分与材料表面直接接触,因此在其表面沉积具有优异磨损腐蚀和抗菌特性的防护薄膜可以保障金属材料在磨损/腐蚀环境中的长期使用。从传统的二元氮化物薄膜入手,针对薄膜耐磨、防腐与抗菌性能日益增长的需求,综述了Si、C、Mo与Ag元素掺杂对PVD氮化物薄膜在空气与水环境中的摩擦学特性、在盐溶液与海水中的电化学腐蚀与磨损腐蚀特性,以及静态抗菌与摩擦诱导抗菌性能的影响。传统二元的氮化物薄膜已经逐渐发展为多元的CrMoSiCN基薄膜,在这个过程中,重点分析了不同三甲基硅烷反应气体流速与Si、Mo、Ag靶材溅射电流下,薄膜的力学性能与摩擦学特性之间的紧密关联;阐述了薄膜在腐蚀性溶液中磨粒磨损、氧化磨损与电化学腐蚀之间的协同耦合关系;阐明了不同Mo、Ag元素含量下,薄膜的抗微生物黏附与抗菌特性的演变机理。指出多元氮化物基薄膜在盐溶液中的摩擦因数与磨损腐蚀材料损失受到薄膜中Si、Mo与Ag元素掺杂量变化的强烈影响,摩擦过程中的氧化与腐蚀产物有效增强了薄膜的自润滑与减磨特性;而含Mo、Ag氮化物基薄膜的杀菌能力主要与磨痕表面氧化物MoO_(x)的形成和Ag^(+)在菌液中的释放、扩散相关。 展开更多
关键词 磁控溅射 薄膜 摩擦 磨损 腐蚀 抗菌
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磁场增强型高通量辉光放电溅射源的设计与研究
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作者 沈懿璇 万真真 +4 位作者 余兴 王海舟 王永清 朱一妃 刘少锋 《光谱学与光谱分析》 北大核心 2025年第2期410-419,共10页
高通量表征技术在金属材料分析领域具有重要应用价值,它能够实现对金属材料进行跨尺度的全域分析,评价材料表面宏观特性、微观不均匀性及局部缺陷。辉光放电溅射可沿样品表面的纵深方向,以大尺寸、平坦且快速的方式逐层剥蚀样品,再将暴... 高通量表征技术在金属材料分析领域具有重要应用价值,它能够实现对金属材料进行跨尺度的全域分析,评价材料表面宏观特性、微观不均匀性及局部缺陷。辉光放电溅射可沿样品表面的纵深方向,以大尺寸、平坦且快速的方式逐层剥蚀样品,再将暴露出真实显微组织的样品送至多种分析仪器中进行成分、性能、组织结构的分析,从而作为金属材料的高通量表征样品前处理环节的关键设备。在传统Grimm型辉光溅射源的基础上,本研究搭建了一种专为高通量实验设计的辉光放电溅射系统,该系统将辉光溅射尺度由mm级扩展至cm级,同时实验发现了大尺寸溅射会导致辉光放电强度及溅射速率降低这一现象。针对这一现象,结合通过COMSOL Multiphysics仿真计算的辉光放电电子运动轨迹、电子密度以及化学反应速率等结果,该研究提出了一种通过施加扫描磁场来增强辉光放电光谱(GD-OES)强度以及溅射速率的方法。实验选用T2紫铜样品来探究扫描磁场的增强效果,结果表明,应用扫描磁场增强装置可获得更强的光谱信号强度及更快的溅射速率。在保持放电电压和电流不变的前提下,Mo、Cu元素的光谱强度分别增至无磁场时的1.43~11.97倍和1.13~26.50倍。其中,Mo元素光谱强度最大值可达53421 Cts,Cu元素光谱强度最大值可达76948 Cts,分别是无磁场时的6.86倍、4.32倍。此外,该方法可以显著地提高溅射速率,当阳极筒孔径为?15 mm时,T2紫铜样品的溅射速率提高了4.35倍,最高可达2662.09 nm·min^(-1)。使用白光干涉仪和金相显微镜对溅射坑表面的平整度和显微组织图像进行了采集,结果显示磁场引入对溅射坑表面粗糙度未产生显著影响,同时能清晰地呈现样品的真实显微组织特征。综上,实验结果证实,应用扫描磁场增强装置可在确保溅射平整度不受影响的前提下,实现光谱信号强度和溅射速率的提升,为解决大尺寸溅射引起的低溅射速率问题提供了新方法。 展开更多
关键词 高通量实验 磁场 光谱增强 辉光放电光谱 溅射
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锂电复合集流体用磁控溅射Cu籽晶层微观结构及性能调控
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作者 张柳燕 郝晓瑜 +5 位作者 汪洋 杨英 古红涛 储松潮 武俊伟 郑军 《表面技术》 北大核心 2025年第10期1-12,共12页
目的 解决锂电集流体用复合铜箔所面临的导电及界面结合问题。方法 采用磁控溅射技术在PP基体表面沉积纳米级Cu籽晶层,通过调控衬底温度、气体流量及溅射功率等工艺参数,制备出电阻率低、结合力好的Cu膜。采用场发射扫描电子显微镜对薄... 目的 解决锂电集流体用复合铜箔所面临的导电及界面结合问题。方法 采用磁控溅射技术在PP基体表面沉积纳米级Cu籽晶层,通过调控衬底温度、气体流量及溅射功率等工艺参数,制备出电阻率低、结合力好的Cu膜。采用场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形貌进行表征,利用手持式四探针方阻仪测量薄膜方阻并计算电阻率,利用划格测试法对Cu膜结合力进行评级。结果 随着衬底温度的升高,薄膜晶粒尺寸增大,电阻率增加,膜基结合性能下降;随着气体流量的增加,薄膜沉积速率先上升后降低,电阻率先下降后上升,膜基结合力逐渐提高;随着溅射功率的增加,沉积速率增大,电阻率下降,薄膜附着力变差。综合考虑薄膜微观形貌、电学性能以及界面结合性能,优选出的Cu膜最佳沉积参数为:衬底温度为-15℃;气体流量(气压)为400 m L/min(0.24 Pa);溅射功率为1.5 kW;Cu膜厚度约为80 nm。在此工艺下制备的Cu膜微观结构致密,电学性能良好(9.72×10^(-8)Ω·m),结合力评级为1级。结论 衬底温度、气体流量以及溅射功率均显著影响Cu膜的微观结构和性能。通过精细调控沉积工艺可以制备出综合性能优良的锂电复合集流体用Cu籽晶层。 展开更多
关键词 复合集流体 磁控溅射 Cu籽晶层 电学性能 结合力
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氮化学计量TiCrN涂层的制备及导电性能研究
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作者 李琳 楼美琪 +2 位作者 赵小花 杜军旗 孙峰 《热加工工艺》 北大核心 2025年第17期201-205,共5页
采用反应磁控共溅射技术,通过调节转速(0、5、10、20 r/min)制备了具有不同化学计量比的TiCrN涂层材料。研究了氮化学计量比对TiCrN涂层的相组成、微观形貌、结合力以及导电性能的影响。结果表明:TiCrN涂层的氮化学计量比均小于1,并且... 采用反应磁控共溅射技术,通过调节转速(0、5、10、20 r/min)制备了具有不同化学计量比的TiCrN涂层材料。研究了氮化学计量比对TiCrN涂层的相组成、微观形貌、结合力以及导电性能的影响。结果表明:TiCrN涂层的氮化学计量比均小于1,并且随着转速的增加而增加;制备的晶体TiCrN涂层颗粒均为纳米级,并且粒径随着氮的化学计量比的增加而变大;TiCrN涂层的结合力与氮的化学计量比变化趋势一致,都随着转速的升高而增加;TiCrN涂层的电阻率的变化为几何缺陷和电子缺陷相互作用的结果,当转速为0 r/min时,薄膜呈现非晶态,电阻率最高,当转速增加到5 r/min时,几何缺陷使TiCrN涂层的电阻率仍然很高;当转速为10和20 r/min时,随着氮原子的填补,晶体变形减弱,几何缺陷下降,TiCrN涂层的电阻率均明显下降,电子缺陷使得转速为20 r/min的TiCrN涂层的电阻率比转速为10 r/min的高。 展开更多
关键词 TiCrN 磁控溅射 氮化学计量比 电阻率
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磁控溅射CrN-PEI结合强度与耐磨性增强调控
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作者 由琪 周艳文 +3 位作者 粟志伟 闫彩波 赵卓 肖旋 《中国表面工程》 北大核心 2025年第2期90-98,共9页
作为手机镜头保护盖,芳香族高分子聚合物聚醚酰亚胺(PEI)的耐磨性能不足,表面涂层强化是提高其耐磨性的有效途径之一,提高膜-基界面结合强度是增强硬质涂层有效性的必然要求。采用磁控溅射技术在PEI基体表面沉积氮化铬(Cr N)涂层,研究靶... 作为手机镜头保护盖,芳香族高分子聚合物聚醚酰亚胺(PEI)的耐磨性能不足,表面涂层强化是提高其耐磨性的有效途径之一,提高膜-基界面结合强度是增强硬质涂层有效性的必然要求。采用磁控溅射技术在PEI基体表面沉积氮化铬(Cr N)涂层,研究靶-基距及沉积时间对沉积涂层的形貌、相结构、膜-基界面结合强度和耐磨性的影响。靶-基距为18 cm沉积时,涂层缺陷随沉积时间的延长,即薄膜增厚而减少。缩短靶-基距至13 cm后,即增强了基体表面离子密度,薄膜表面缺陷消失。与18 cm靶-基距下最薄涂层的243.2 GPa模量和24.86 GPa硬度相比,13 cm靶-基距最厚涂层的模量和硬度升到307.3 GPa和26.22 GPa,膜-基结合强度相应改善,涂层的磨损率从基体的10^(-4)mm^(3)·N^(-1)·m^(-1)降低了一个数量级,降至10^(-5)mm^(3)·N^(-1)·m^(-1)。在靶-基距为13 cm时,受高能量离子连续轰击,PEI表面硬化层的模量和硬度平均达10.2 GPa和2.2 GPa,该硬化层与纯Cr过渡层和CrN涂层间形成平滑的模量和硬度梯度,降低了涂层与基体间力学性能差异,从而提高硬质涂层与软基体间的协同形变能力,有效增强CrN防护涂层的有效性,使PEI聚合物作为手机镜头保护盖的应用成为可能。 展开更多
关键词 聚醚酰亚胺 磁控溅射 CRN涂层 附着力 协同变形
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静电纺丝聚己内酯薄膜物理改性技术研究进展
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作者 赵天任 艾甫山·亚里坤 +4 位作者 张爱英 郭天庆 曹雪森 王成志 金海波 《合成树脂及塑料》 北大核心 2025年第3期69-75,共7页
综述了静电纺丝聚己内酯薄膜物理改性技术的研究现状,介绍了浸涂法、磁控溅射法、等离子体处理法、热处理法和聚多巴胺黏附法等物理改性技术的特点。根据静电纺丝聚己内酯薄膜特定的应用需求,可选择不同的物理改性技术来调控其表面性质... 综述了静电纺丝聚己内酯薄膜物理改性技术的研究现状,介绍了浸涂法、磁控溅射法、等离子体处理法、热处理法和聚多巴胺黏附法等物理改性技术的特点。根据静电纺丝聚己内酯薄膜特定的应用需求,可选择不同的物理改性技术来调控其表面性质,以改善亲/疏水性、电导率、抗菌能力、生物相容性及力学性能。最后展望了改性静电纺丝聚己内酯薄膜在生物医学、电传感器、金属防腐、自修复材料等领域的应用前景。 展开更多
关键词 静电纺丝 聚己内酯薄膜 浸涂法 磁控溅射法 等离子体处理法 聚多巴胺黏附法
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