用于星载甲烷成像光谱仪的高衍射效率棱镜光栅(封面文章·特邀)

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作者 刘全 周能华 +4 位作者 王可欣 陈志伟 杨子江 潘俏 陈新华 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期1-7,共7页

棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅... 棱镜光栅是星载甲烷成像光谱仪的重要分光元件,与传统光栅不同的是,棱镜光栅的槽形是将光栅浸没于高折射率介质中,由于光栅槽形嵌入在高折射率介质中,使得光栅的角色散和分辨率都提高了n倍,其中n是高折射率介质的折射率。相比于传统光栅,棱镜光栅在同样的光谱分辨率下可以减小光栅的尺寸,实现更加紧凑的光机结构。因此研制棱镜光栅具有重要的意义。针对甲烷的2.3μm波段,分析了棱镜光栅的衍射特性,为了进一步提高系统的结构紧凑性,在石英棱镜光栅中引入高折射率材料TiO_(2)介质膜,对于矩形槽形,占空比在0.3~0.45范围内,TiO_(2)膜层厚度在165~170 nm之间,槽深在800~950 nm之间时,光栅的衍射效率高于70%,TiO_(2)膜层厚度为165 nm,槽深在870~930 nm之间时,衍射效率高于80%。采用全息光刻-离子束刻蚀结合原子层沉积技术,制作了周期为1020 nm、光栅有效面积大于110×275 mm的棱镜光栅。实验测量中,为了消除光源波动的影响,采用了双光路测试法进行衍射效率测量,在2.275~2.325μm波段,一级衍射效率大于70%。 展开更多

关键词 棱镜光栅 全息光刻 离子束刻蚀 衍射效率

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紫外全息闪耀光栅的制作 被引量：10

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作者 谭鑫 李文昊 +1 位作者 巴音贺希格 齐向东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期1536-1542,共7页

通过理论计算研究了影响闪耀光栅衍射效率的因素,并利用离子束刻蚀模拟程序模拟刻蚀闪耀光栅来确定闪耀光栅的制作参数。以理论计算的闪耀光栅参数为依据,以刻蚀模拟程序为指导,基于全息-离子束刻蚀工艺制作了闪耀波长分别为250nm和330... 通过理论计算研究了影响闪耀光栅衍射效率的因素,并利用离子束刻蚀模拟程序模拟刻蚀闪耀光栅来确定闪耀光栅的制作参数。以理论计算的闪耀光栅参数为依据,以刻蚀模拟程序为指导,基于全息-离子束刻蚀工艺制作了闪耀波长分别为250nm和330nm,光栅尺寸分别为85mm×85mm,60mm×60mm,线密度均为1200lp/mm的闪耀光栅。第一种光栅闪耀角为8.54°,非闪耀角为72°,其250nm波长自准直入射时的-1级衍射光衍射效率约为81%;第二种光栅闪耀角为11.68°,非闪耀角为74°,330nm波长自准直入射时的-1级衍射光衍射效率约为80%。实验结果表明,提出的方法可以在制作闪耀光栅的过程中实现对闪耀角的精确控制,获得的实验结果与理论计算结果符合较好。利用该方法能够在大尺寸基底上获得衍射效率>75%的紫外闪耀光栅。 展开更多

关键词 闪耀光栅 紫外光栅 衍射效率 刻蚀模拟

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闪耀全息光栅离子束刻蚀工艺模拟及实验验证 被引量：10

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作者 吴娜 谭鑫 +1 位作者 巴音贺希格 唐玉国 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期1904-1912,共9页

依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程... 依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程序进行了实验验证。调节掩模与基底材料的刻蚀速率比为2∶1至1∶2,制作了线密度为1 200l/mm,闪耀角为～8.6°,非闪耀角为34°～98°的4种闪耀光栅,与刻蚀模拟程序的结果进行对比,模拟误差<5%;控制离子束刻蚀时间为6～14min,制作了线密度为1 200l/mm,闪耀角为～8.6°,顶角平台横向尺寸为0～211nm的6种光栅,与刻蚀模拟程序的模拟结果进行对比,模拟误差<1%。比较实验及离子束刻蚀模拟结果表明,离子束刻蚀模拟程序获得的模拟刻蚀轮廓曲线与实际刻蚀轮廓曲线的误差<5%;模拟刻蚀截止点与实际刻蚀截止点误差<1%。实验表明,提出的模拟方程可以准确地描述不同工艺过程和工艺参数对最终刻蚀结果的影响,进而可预知和控制离子束刻蚀过程。 展开更多

关键词 闪耀光栅 全息光栅 衍射效率 刻蚀模拟 离子束刻蚀

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用于分频的闪耀光栅设计及衍射行为研究 被引量：8

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作者 王炜 徐俊中 +2 位作者 李永平 李涛 傅绍军 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第2期39-42,51,共5页

详细地介绍了用于分频的闪耀光栅设计方法 ;推导了影响元件性能的衍射效率公式 ;并研究了纵横向工艺误差对其衍射行为的影响。模拟结果显示在 8%和 5%纵横向相对误差范围内 ,该闪耀光栅具有良好的分色效果。

关键词 闪耀光栅 衍射 刻蚀误差 分频 设计

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高效平面全息衍射光栅的获取方法 被引量：21

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作者 赵博 齐向东 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2001年第2期109-114,共6页

从全息衍射光栅的制作原理出发 ,介绍了全息光栅的主要制作方法 ,并与刻划光栅对比分析了全息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设计的耦合波理论对全息衍射光栅槽型、槽深及槽间距等进行了优化设计 ,同时利用离子束刻蚀技术获得了高效... 从全息衍射光栅的制作原理出发 ,介绍了全息光栅的主要制作方法 ,并与刻划光栅对比分析了全息衍射光栅的诸多优点。通过利用光栅设计的耦合波理论对全息衍射光栅槽型、槽深及槽间距等进行了优化设计 ,同时利用离子束刻蚀技术获得了高效率全息光栅。 展开更多

关键词 全息光栅 离子刻蚀 衍射效率

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标量衍射理论模拟蚀刻衍射光栅 被引量：9

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作者 盛钟延 何赛灵 何建军 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期29-32,共4页

讨论用于光通信的集成波分复用/解复用器件蚀刻衍射光栅(EDG),它是波分复用光通信的核心器件的一种。EDG基于平面波导的Rowland圆结构,光栅面是平面。光栅的每一个齿面都垂直于齿面中心和输入波导端点的连线。基于标量散射场满足的Hemho... 讨论用于光通信的集成波分复用/解复用器件蚀刻衍射光栅(EDG),它是波分复用光通信的核心器件的一种。EDG基于平面波导的Rowland圆结构,光栅面是平面。光栅的每一个齿面都垂直于齿面中心和输入波导端点的连线。基于标量散射场满足的Hemholtz方程,推导出Rowland圆上场分布的精确表达式。利用这个模型对设计好的器件参数进行了模场形状、谱响应、色散等复用性能的模拟,并对插入损耗和串扰进行了简要分析。 展开更多

关键词 蚀刻衍射光栅 波分复用 平面波导 模拟 标量衍射理论

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用于共孔径相干合成的衍射光学元件设计 被引量：4

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作者 颜宏 张卫 +2 位作者 叶一东 陈黎 田飞 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期6-11,共6页

分析了衍射光学元件实现共孔径相干合成的物理过程,建立了基于衍射光学元件的共孔径相干合成数学模型,推导了合成光束复振幅与入射光束和衍射光学元件相位分布之间的关系。提出用合成光束强度分布的均匀性作为评价函数的优化方法,获得... 分析了衍射光学元件实现共孔径相干合成的物理过程,建立了基于衍射光学元件的共孔径相干合成数学模型,推导了合成光束复振幅与入射光束和衍射光学元件相位分布之间的关系。提出用合成光束强度分布的均匀性作为评价函数的优化方法,获得了一维衍射合束器的相位分布。与文献报道的衍射光学元件分束器相比,可获得更高的合成效率。采用模拟退火算法结合随机并行梯度下降算法优化合束器设计,提高了计算效率,获得了多束衍射合束器的相位分布和合成效率。分析了单子束失效及合束器像差对合成效率的影响,结果表明:随着合束数量的增加,单子束失效对合成效率的影响逐渐减小;若使合成效率退化小于5%,衍射光学元件的波像差均方根值应控制在λ/28以内。 展开更多

关键词 衍射光学元件 衍射分束器 相干合成 模拟退火算法 随机并行梯度下降算法 衍射效率

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双层纳米光栅微位移检测仿真 被引量：5

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作者 王宾 李孟委 +2 位作者 吴倩楠 耿浩 王高 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2018年第4期6-9,共4页

针对现有光栅位移传感器分辨率和精度难以提高、体积较大的难题,设计了面内和离面位移检测的双层纳米级光栅结构。用严格耦合波理论分析了单层纳米光栅的衍射特性,通过Gsolver软件对面内和离面的双层纳米光栅结构进行模拟仿真。仿真结... 针对现有光栅位移传感器分辨率和精度难以提高、体积较大的难题,设计了面内和离面位移检测的双层纳米级光栅结构。用严格耦合波理论分析了单层纳米光栅的衍射特性,通过Gsolver软件对面内和离面的双层纳米光栅结构进行模拟仿真。仿真结果表明:这2种双层纳米光栅结构的0级透射光和反射光的衍射效率随第二层纳米光栅结构的位移移动量周期性变化,通过探测纳米光栅的衍射效率来获得面内或者离面的位移移动量。 展开更多

关键词 位移传感器 高精度 纳米光栅 严格耦合波理论 衍射效率 仿真

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菲涅耳透镜制作及其在CCD相机中的应用 被引量：2

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作者 李红军 卢振武 +1 位作者 廖江红 翁志成 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第B12期32-35,共4页

衍射光学元件在国防、生产及科研等领域起着越来越重要的作用．使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作１６阶菲涅耳透镜，应用于折衍混合ＣＣＤ相机．进行ＣＣＤ相机光学系统成像质量评价和室外成像实验．该透镜的引入，不仅改善系统成像质... 衍射光学元件在国防、生产及科研等领域起着越来越重要的作用．使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作１６阶菲涅耳透镜，应用于折衍混合ＣＣＤ相机．进行ＣＣＤ相机光学系统成像质量评价和室外成像实验．该透镜的引入，不仅改善系统成像质量，而且实现了系统的轻量化、小型化，增加了系统设计的自由度． 展开更多

关键词 CCD相机 菲涅耳透镜 离子束刻蚀 薄膜沉积 衍射效率

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用光栅的正负一级能量之比测体积相位全息光栅参量 被引量：2

10

作者 李建龙 傅克祥 +2 位作者 朱建华 张丽娟 曾阳素 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期239-243,共5页

提出利用光栅衍射级次正负一级的能量之比(w+1/w-1),结合模拟退火优化算法来反演出光栅参量的一种方法.用正负一级的能量之比来弱化实际光栅表面存在的粗糙、周期畸变、介质折射率分布不均匀等误差,保证光栅参量的准确反演.在反演体积... 提出利用光栅衍射级次正负一级的能量之比(w+1/w-1),结合模拟退火优化算法来反演出光栅参量的一种方法.用正负一级的能量之比来弱化实际光栅表面存在的粗糙、周期畸变、介质折射率分布不均匀等误差,保证光栅参量的准确反演.在反演体积相位全息光栅参量的实验中,反演出的光栅参量与真值的误差不超过1%.证明了该法的正确性和可行性.同时此方法具有非破坏性,测量简单,操作方便,稳定性好等特点. 展开更多

关键词 衍射级次能量比(+1/-1) 模拟退火算法 光栅参量 体积相位全息光栅

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线宽误差对菲涅耳透镜衍射效率的影响 被引量：5

11

作者 李红军 卢振武 +1 位作者 廖江红 翁志成 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第6期559-563,共5页

基于标量衍射理论，首先得出存在线宽误差情况下４阶菲涅耳透镜衍射效率的解析式；并以 ４阶、８阶和１６阶菲涅耳透镜为例，进行计算机模拟计算并系统分析线宽误差对菲涅耳透镜衍射效率的影响．通过实验测量１６阶菲涅耳透镜的线宽误... 基于标量衍射理论，首先得出存在线宽误差情况下４阶菲涅耳透镜衍射效率的解析式；并以 ４阶、８阶和１６阶菲涅耳透镜为例，进行计算机模拟计算并系统分析线宽误差对菲涅耳透镜衍射效率的影响．通过实验测量１６阶菲涅耳透镜的线宽误差，分析其对１６阶菲涅耳透镜衍射效率的影响．模拟计算结果对多阶菲涅耳透镜的制作提供重要的理论指导． 展开更多

关键词 二元光学元件 菲涅耳透镜 线宽误差 衍射效率

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微透镜及其应用简介 被引量：1

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作者 孔令彬 易新建 +1 位作者 申毕红 陈四海 《红外技术》 CSCD 北大核心 2002年第2期18-21,共4页

对二元光学的产生和发展作了介绍 ,并阐述了二元光学元件之一的微透镜 (microlenses)的设计、制作和测试方法以及它们的主要应用。微透镜的设计是基于已成熟的标量衍射理论 ;而其制作过程包括 :计算机设计波面相位、产生掩膜板、光刻或... 对二元光学的产生和发展作了介绍 ,并阐述了二元光学元件之一的微透镜 (microlenses)的设计、制作和测试方法以及它们的主要应用。微透镜的设计是基于已成熟的标量衍射理论 ;而其制作过程包括 :计算机设计波面相位、产生掩膜板、光刻或离子 (束 )蚀刻以及复制产生微透镜 ,其关键技术蚀刻方法有等离子蚀刻技术和反应离子蚀刻RIE(ReactiveIonEtching)技术 ;微透镜的测试主要包括衍射效率(diffractiveefficiency)和点扩散函数 (PSF)的测试 ,有直接法和间接法两种测试方法。微透镜可以微型化与阵列化 ,并且可以同微电子器件一起集成化 。 展开更多

关键词 二元光学 微透镜 衍射效率 点扩散函数 蚀刻

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用光栅正负一级衍射效率之比反演光栅参数的数值模拟 被引量：1

13

作者 张丽娟 李建龙 +1 位作者 傅克祥 张珍辉 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期41-42,共2页

用衍射光栅的正负一级的能量之比来弱化衍射光栅表面的粗燥,周期的细微畸变,介质分布不均匀等带给实际光栅与理想光栅之间的差异,弥补实际光栅单一级次信息在实验测量中在反应光栅结构参数的缺陷。文中用数值模拟的方法优化反演了几种... 用衍射光栅的正负一级的能量之比来弱化衍射光栅表面的粗燥,周期的细微畸变,介质分布不均匀等带给实际光栅与理想光栅之间的差异,弥补实际光栅单一级次信息在实验测量中在反应光栅结构参数的缺陷。文中用数值模拟的方法优化反演了几种浮雕面型光栅的结构参数,反演结果较理想,数值论证了该法的可行性。 展开更多

关键词 模拟退火 光栅参数 正负一级衍射效率之比

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二元光学元件──微透镜

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作者 孔令彬 易新建 陈四海 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第11期74-76,共3页

介绍了二元光学的产生和发展，着重阐述了二元光学元件之一的微透镜的设计、制作和测试方法以及它们的主要应用。

关键词 二元光学元件 微透镜 衍射效率 点扩散函数 蚀刻

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非对称全息方法制作闪耀光栅的模拟与分析

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作者 陈刚 吴建宏 +2 位作者 刘全 陈新荣 李朝明 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2009年第4期42-43,共2页

为了实现全息方法制作闪耀光栅,在对称全息光栅制作方法的墓础上,设计了一种非对称光路进行曝光。模拟了特定显影条件下光栅槽形及其衍射效率光谱,并与理想三角形闪耀光栅比较。结果表明:模拟槽形具备闪耀光栅槽形特征,其正一级衍射效... 为了实现全息方法制作闪耀光栅,在对称全息光栅制作方法的墓础上,设计了一种非对称光路进行曝光。模拟了特定显影条件下光栅槽形及其衍射效率光谱,并与理想三角形闪耀光栅比较。结果表明:模拟槽形具备闪耀光栅槽形特征,其正一级衍射效率谱线与相应闪耀光栅非常接近。 展开更多

关键词 信息光学 全息闪耀光栅 槽形模拟 衍射效率

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有源光缆的硅基90°转向芯片设计与制备

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作者 刘代军 郭云芝 +3 位作者 穆学桢 闫海涛 谢占武 张义飞 《兵器装备工程学报》 CSCD 北大核心 2021年第8期175-179,共5页

从垂直腔激光器阵列到光纤阵列的高效耦合一直是高速有源光缆制备过程中的挑战。基于界面光波传输的相位匹配,根据界面的折射率的分布及波动传输方程,设计了41°转向角度的微反射镜。基于各向异性晶体蚀刻仿真,得到具有特定晶体取... 从垂直腔激光器阵列到光纤阵列的高效耦合一直是高速有源光缆制备过程中的挑战。基于界面光波传输的相位匹配,根据界面的折射率的分布及波动传输方程,设计了41°转向角度的微反射镜。基于各向异性晶体蚀刻仿真,得到具有特定晶体取向的硅基微结构。在研究制备工艺的方法中,通过在含异丙醇有机添加剂的氢氧化钾溶液中硅各向异性湿法蚀刻制备了具有41°微反射镜的V型槽阵列,异丙醇表面活性剂在氢氧化钾溶液蚀刻硅过程中起关键作用。然后对获得的芯片进行表面粗糙度、轮廓和反射率的表征及测试,探索了膜层(TFCalc)的SiO_(2)/Si高反射率介电膜的作用及效果,测试结果表明:所研制的芯片的反射率近100%,最高耦合效率在762 nm处,达92%。 展开更多

关键词 转向芯片 各向异性晶体蚀刻仿真 湿法刻蚀 V型槽 高反膜 耦合效率

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锯齿槽闪耀光栅制作误差对衍射效率的影响 被引量：2

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作者 葛建平 沈为民 +1 位作者 刘全 陈明辉 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第6期1557-1561,共5页

与矩形槽和正弦槽光栅相比,锯齿槽光栅具有高的衍射效率,可采用全息离子束刻蚀和单点金刚石车削两种方法制造。首先,介绍了这两种方法的制造误差。然后,分析了这些制造误差对用于可见近红外和长波红外成像光谱仪的光栅衍射效率的影响,... 与矩形槽和正弦槽光栅相比,锯齿槽光栅具有高的衍射效率,可采用全息离子束刻蚀和单点金刚石车削两种方法制造。首先,介绍了这两种方法的制造误差。然后,分析了这些制造误差对用于可见近红外和长波红外成像光谱仪的光栅衍射效率的影响,指出闪耀角误差、槽顶角误差和刻刀圆弧半径是影响锯齿槽光栅衍射效率的关键因素。为制作高质量成像光谱仪用光栅奠定了理论基础和指导。 展开更多

关键词 锯齿槽光栅 全息离子束刻蚀 单点金刚石车削 误差 衍射效率

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用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制 被引量：6

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作者 刘全 黄爽爽 +2 位作者 鲁金超 陈新华 吴建宏 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期844-850,共7页

利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%... 利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息光刻-离子束刻蚀技术,制作了用于520 nm波长飞秒激光的周期为1067 nm、有效面积大于40 mm×30 mm的相位掩模。实际制作的相位掩模是梯形槽形,槽深是0.665μm,分析了梯形槽形中梯形角对衍射效率的影响。实验测量表明,该相位掩模的零级衍射效率小于2%,±1级衍射效率大于40%,满足飞秒激光制作光纤光栅的需要。 展开更多

关键词 全息光刻 相位掩模 严格耦合波理论 离子束刻蚀 衍射效率

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摆动刻蚀法制作高衍射效率凸面闪耀光栅 被引量：1

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作者 王琼 沈晨 +2 位作者 谭鑫 齐向东 巴音贺希格 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期3-11,共9页

通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅。该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题。建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化... 通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅。该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题。建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化的影响,并计算了优化的刻蚀工艺参数。制备了基底尺寸为67mm,曲率半径为156.88mm,刻线密度为45.5gr/mm,闪耀角为2.2°的凸面闪耀光栅,并对其表面形貌及衍射效率进行了测量。实验结果表明,摆动刻蚀法能够制作出闪耀角一致性好、衍射效率高的小闪耀角凸面光栅,满足成像光谱仪对光谱分辨率和便携性的使用要求。 展开更多

关键词 凸面闪耀光栅 摆动刻蚀 衍射效率 成像光谱仪

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红外遥感器网状微结构制作工艺

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作者 吴博琦 董连和 +2 位作者 孙艳军 冷雁冰 王丽 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期222-226,共5页

为了满足航天红外遥感器光学元件透过率高、散热性好的要求,提出一种具有波长选择特性的网状微结构。采用等效介质理论、数学建模理论方法设计网状微结构特征参数,并通过Matlab软件辅助模拟微结构表面光谱辐射特性。运用离子刻蚀机制备... 为了满足航天红外遥感器光学元件透过率高、散热性好的要求,提出一种具有波长选择特性的网状微结构。采用等效介质理论、数学建模理论方法设计网状微结构特征参数,并通过Matlab软件辅助模拟微结构表面光谱辐射特性。运用离子刻蚀机制备网状微结构,通过扫描电子显微镜测量微结构表面形貌,并进行分析。根据结果判断反应气体流量、射频电源功率、反应腔内压强三个工艺参数对微结构形貌及微结构侧壁陡直度具有很大影响,以及确定最佳工艺参数组合。实验结果表明:在最佳工艺参数组合下制备的网状微结构,10.6μm工作波长下透射衍射效率大于91.5%,基本满足红外遥感器对网状微结构光学特性的要求。 展开更多

关键词 红外遥感器 等效介质理论 反应离子刻蚀技术 网状微结构 透射衍射效率

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