CVD金刚石膜生长过程的Raman分析 被引量：12

1

作者 杨仕娥 李会军 +4 位作者 边超 王小平 马丙现 姚宁 张兵临 《真空与低温》 2002年第2期90-92,共3页

采用激光Raman散射分析法对CVD金刚石膜的生长过程进行研究 ,讨论在金刚石膜生长的不同阶段 。

关键词 CVD 生长过程 金刚石膜 RAMAN散射 非晶碳 残余应力 化学气相沉积

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金刚石涂层刀具的研究进展 被引量：10

2

作者 杨仕娥 马丙现 +3 位作者 李会军 王小平 姚宁 张兵临 《真空与低温》 2001年第2期68-71,共4页

针对CVD金刚石在刀具上主要应用类型，着重介绍了金刚石涂层刀具的研究进展与 现状。论述了基体材料的选择，以及分析了硬质合金金刚石涂层刀具的技术特点，并指出了 进一步深入研究的方向。

关键词 金刚石涂层 CVD 硬质合金 刀具 附着力 基体材料 表面处理 切削性能 化学气相沉积

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WC-Co硬质合金基体上金刚石薄膜的附着机理研究 被引量：3

3

作者 杨仕娥 马丙现 +3 位作者 樊志琴 鲁占灵 姚宁 张兵临 《真空与低温》 2004年第1期39-42,共4页

金刚石涂层在硬质合金(WC Co)基体上的附着力,是影响金刚石涂层刀具切削性能和使用寿命的关键因素。采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在经酸浸蚀脱Co的硬质合金基体上生长金刚石薄膜。通过对金刚石膜/基界面的微观形貌和成分分析,... 金刚石涂层在硬质合金(WC Co)基体上的附着力,是影响金刚石涂层刀具切削性能和使用寿命的关键因素。采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在经酸浸蚀脱Co的硬质合金基体上生长金刚石薄膜。通过对金刚石膜/基界面的微观形貌和成分分析,初步认识了金刚石薄膜的附着机理:机械锁合作用对金刚石膜/基附着力有较大贡献;界面热应力和弱中间相的存在是导致金刚石膜自发剥离的主要原因。 展开更多

关键词 WC-CO硬质合金 金刚石薄膜 附着机理 附着力 金刚石涂层刀具

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非晶碳膜中sp^2和sp^3相的检测方法 被引量：16

4

作者 鲁占灵 张兵临 +2 位作者 姚宁 杨仕娥 樊志琴 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期98-101,共4页

非晶碳薄膜由sp2和sp3杂化的碳原子组成。sp2和sp3碳原子的比例是决定非晶碳膜的结构和性能的重要参数。如何定量或定性地分析碳薄膜中sp2和sp3碳的含量一直是十分重要的问题。目前用来测定sp2和sp3碳及其比例的实验方法有13C核磁共振谱... 非晶碳薄膜由sp2和sp3杂化的碳原子组成。sp2和sp3碳原子的比例是决定非晶碳膜的结构和性能的重要参数。如何定量或定性地分析碳薄膜中sp2和sp3碳的含量一直是十分重要的问题。目前用来测定sp2和sp3碳及其比例的实验方法有13C核磁共振谱(NMR)、电子能量损失谱(EELS)、X射线光电子能谱(XPS)、椭圆偏振谱、拉曼光谱(Raman)、红外光谱(IR)等。综述了这些测定方法及其特点。 展开更多

关键词 非晶碳膜 sp^2碳 sp^3碳 检测方法

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沉积工艺参数对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 被引量：10

5

作者 樊志琴 闫书霞 +4 位作者 姚宁 鲁占灵 杨仕娥 马丙现 张兵临 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期129-133,共5页

利用微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）方法，在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征，讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响。结果表明：不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异，... 利用微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）方法，在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜。通过SEM、拉曼光谱和XRD表征，讨论了制备温度和甲烷浓度对碳纳米管膜场发射的影响。结果表明：不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异，保持氢气的流量（100sccm）、生长时间（10min）、反应室压力不变，当甲烷流量为8sccm、温度为700—800℃时，场发射性能最好，开启场强仅为0．8V／μm，发射点分布密集、均匀。 展开更多

关键词 碳纳米管 微波等离子体化学气相沉积 场发射 拉曼光谱

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刻线镍膜上沉积的碳纳米管场发射特性 被引量：10

6

作者 樊志琴 张兵临 +4 位作者 姚宁 鲁占灵 杨仕娥 马丙现 邓记才 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期743-747,共5页

利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在刻线的镍膜上沉积碳纳米管膜。通过SEM和拉曼光谱表征,讨论了催化剂厚度、制备温度、反应时间以及甲烷浓度对碳纳米管场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管的场发射性能有很大... 利用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)方法,在刻线的镍膜上沉积碳纳米管膜。通过SEM和拉曼光谱表征,讨论了催化剂厚度、制备温度、反应时间以及甲烷浓度对碳纳米管场发射的影响。结果表明:不同条件下制备的碳纳米管的场发射性能有很大差异,保持氢气的流量(100sccm)不变,当甲烷流量为5sccm、生长时间为5min、催化剂膜厚为150nm、温度为700～800℃时,场发射性能最好,开启场强为1.3V/μm,最大发射电流达到6.8mA/cm2。 展开更多

关键词 碳纳米管 微波等离子体化学气相沉积 场发射 拉曼光谱

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硅太阳电池稳步走向薄膜化 被引量：17

7

作者 卢景霄 张宇翔 +5 位作者 王海燕 靳锐敏 张丽伟 陈永生 郜小勇 杨仕娥 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期444-450,共7页

考察了硅太阳电池在光伏产业中所处的地位,分析了薄膜硅太阳电池的发展趋势。指出硅太阳电池在未来15a仍将保持优势地位,并继续沿着晶硅电池和薄膜硅电池两个方向发展。在此发展过程中,两个发展方向的主流很可能会汇合到一起,共同促使... 考察了硅太阳电池在光伏产业中所处的地位,分析了薄膜硅太阳电池的发展趋势。指出硅太阳电池在未来15a仍将保持优势地位,并继续沿着晶硅电池和薄膜硅电池两个方向发展。在此发展过程中,两个发展方向的主流很可能会汇合到一起,共同促使低成本、高效率、高可靠薄膜晶硅电池的诞生和产业化,从而继续保持硅太阳电池的优势地位。 展开更多

关键词 硅太阳电池 薄膜硅

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硅基薄膜太阳电池窗口材料的研究进展 被引量：10

8

作者 汪昌州 杨仕娥 卢景霄 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期14-17,共4页

综述了硅基薄膜太阳电池窗口材料的发展及应用现状,比较分析了几种常用窗口材料的光电性能,并讨论了掺杂剂的影响。最后展望了太阳电池窗口材料的研究和发展趋势。

关键词 窗口材料 薄膜 太阳电池 掺杂

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掺磷硅薄膜的微结构及电特性研究 被引量：6

9

作者 陈永生 郜小勇 +2 位作者 杨仕娥 卢景霄 李维强 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2006年第6期733-735,共3页

采用喇曼散射谱、扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射(XRD)对掺磷硅薄膜的微结构进行了分析,并对掺杂前后薄膜的暗电导进行了测试,结果表明:掺磷后导致薄膜的非晶化。与本征氢化微硅晶(μc-Si:H)薄膜相比,掺杂后薄膜暗电导率略有降低,但... 采用喇曼散射谱、扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射(XRD)对掺磷硅薄膜的微结构进行了分析,并对掺杂前后薄膜的暗电导进行了测试,结果表明:掺磷后导致薄膜的非晶化。与本征氢化微硅晶(μc-Si:H)薄膜相比,掺杂后薄膜暗电导率略有降低,但降低的程度与具体的沉积条件有关。另外掺杂薄膜易进行快速光热退火晶化。 展开更多

关键词 微晶硅 暗电导 晶化率

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衬底材料对μc-Si:H薄膜结构特性的影响 被引量：4

10

作者 陈永生 杨仕娥 +2 位作者 卢景霄 王海燕 李瑞 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期116-120,共5页

对在不锈钢和玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜进行了拉曼光谱和扫描电子显微(SEM)分析。拉曼分析显示在相同的工艺参数下,玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜的晶化率高于不锈钢衬底上沉积的薄膜,这可能是由于衬底与等离子体之间的电势差不... 对在不锈钢和玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜进行了拉曼光谱和扫描电子显微(SEM)分析。拉曼分析显示在相同的工艺参数下,玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜的晶化率高于不锈钢衬底上沉积的薄膜,这可能是由于衬底与等离子体之间的电势差不同和衬底表面形貌两方面所致。SEM观察表明玻璃衬底上沉积的μc-Si：H薄膜由尺寸介于200～100nm的团簇构成。 展开更多

关键词 等离子体辅助化学气相沉积 拉曼散射谱 晶化率 团簇

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ZnO薄膜发光特性的研究进展 被引量：14

11

作者 边超 姚宁 +2 位作者 张兰 杨仕娥 张兵临 《真空与低温》 2003年第2期113-118,共6页

ZnO薄膜具有压电、光电、压敏、气敏、发光等多种特性,应用极为广泛。针对ZnO薄膜的发光特性,对ZnO薄膜的制备、影响其发光特性的因素及其发光机理的研究进展进行了综述。

关键词 ZNO薄膜 发光特性 影响因素 发光机理 光致发光 阴极射线发光 氧化锌

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H_2稀释在PECVD法制备微晶硅薄膜中的影响 被引量：3

12

作者 王生钊 卢景霄 +5 位作者 王红娟 刘萍 陈永生 张丽伟 杨仕娥 郜小勇 《可再生能源》 CAS 2006年第4期18-20,共3页

利用等离子增强化学气相沉积(PECVD)技术,研究了H稀释度D=H 2/(H 2+SiH 4)对在玻璃和不锈钢衬底上低温制备微晶硅薄膜的晶化率、晶粒尺寸、薄膜质量等的影响。结果表明,随着硅烷浓度的降低,样品的晶化率、晶粒尺寸有所改变。当D=99%时,... 利用等离子增强化学气相沉积(PECVD)技术,研究了H稀释度D=H 2/(H 2+SiH 4)对在玻璃和不锈钢衬底上低温制备微晶硅薄膜的晶化率、晶粒尺寸、薄膜质量等的影响。结果表明,随着硅烷浓度的降低,样品的晶化率、晶粒尺寸有所改变。当D=99%时,晶粒突然变大,晶化率显著提高。因此,我们认为此时的硅薄膜由非晶硅转化为微晶硅。 展开更多

关键词 PECVD 氢稀释 微晶硅薄膜

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采用钛-铝-钼过渡层在铜基底上沉积金刚石薄膜的研究 被引量：7

13

作者 程春晓 姚宁 +3 位作者 马丙现 杨仕娥 赵永梅 张兵临 《真空与低温》 2005年第1期46-49,共4页

采用钛-铝-钼过渡层研究了铜基片上金刚石薄膜的化学气相沉积。用SEM和Raman谱研究了薄膜的形貌和质量。用XRD分析了膜基间形成的化合物的成分,并进一步分析了铝的存在对膜基结合力的影响。实验证明,钛-铝-钼过渡层的存在显著提高了金... 采用钛-铝-钼过渡层研究了铜基片上金刚石薄膜的化学气相沉积。用SEM和Raman谱研究了薄膜的形貌和质量。用XRD分析了膜基间形成的化合物的成分,并进一步分析了铝的存在对膜基结合力的影响。实验证明,钛-铝-钼过渡层的存在显著提高了金刚石薄膜与铜基底的结合力。 展开更多

关键词 金刚石薄膜 过渡层 基底 铝 铜 钼 钛 化学气相沉积 RAMAN谱 XRD分析 膜基结合力 实验证明 SEM 化合物

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直流反应磁控溅射制备锐钛矿型TiO_2薄膜 被引量：5

14

作者 张利伟 鲁占灵 +2 位作者 杨仕娥 姚宁 张兵临 《真空与低温》 2003年第4期221-223,共3页

采用直流反应磁控溅射的方法,在衬底温度为350℃的条件下溅射高纯钛靶,并在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜。采用正交设计法探讨了溅射气压、溅射电流、氧氩比和溅射时间等实验条件对TiO2薄膜结构的影响。经过X射线衍射和拉曼光谱分析,制备... 采用直流反应磁控溅射的方法,在衬底温度为350℃的条件下溅射高纯钛靶,并在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜。采用正交设计法探讨了溅射气压、溅射电流、氧氩比和溅射时间等实验条件对TiO2薄膜结构的影响。经过X射线衍射和拉曼光谱分析,制备结晶良好的锐钛矿结构TiO2薄膜的最佳实验条件为:溅射气压0.3Pa;溅射电流0.7A;氧氩比1∶3;溅射时间40min;退火温度650℃。 展开更多

关键词 直流反应磁控溅射 TIO2薄膜 制备工艺 正交设计法 锐钛矿结构

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MPCVD实验条件对碳氮纳米管薄膜场发射性能的影响 被引量：1

15

作者 鲁占灵 赵瑞霞 +2 位作者 姚宁 杨仕娥 张兵临 《郑州大学学报（工学版）》 CAS 2005年第3期61-64,共4页

通过正交设计试验法研究了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)实验条件对碳氮纳米管薄膜场发射性能的影响.结果表明,当微波功率为1 500 W、反应气压为8.5 kPa、甲烷、氮气和氢气的流量比为8:20:80时,制备的碳氮纳米管薄膜场发射特性最好,... 通过正交设计试验法研究了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)实验条件对碳氮纳米管薄膜场发射性能的影响.结果表明,当微波功率为1 500 W、反应气压为8.5 kPa、甲烷、氮气和氢气的流量比为8:20:80时,制备的碳氮纳米管薄膜场发射特性最好,其开启电场强度为3.2 V/μm,电场强度为8.0V/μm时的电流密度为3.5 mA/cm2. 展开更多

关键词 正交设计 碳氮纳米管 场发射

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低温制备硅薄膜的晶粒尺寸研究

16

作者 张丽伟 张松青 +5 位作者 卢景霄 杨仕娥 文书堂 杨根 郭学军 李瑞 《可再生能源》 CAS 2006年第6期10-12,共3页

利用等离子体增强(PECVD)法和快速热处理(RTP)法分别在玻璃衬底上制备了硅薄膜。用光谱测试仪器,对2种方法制备的硅薄膜进行了研究。结果显示,各种制备参数对增大薄膜晶粒尺寸存在一个最佳点;总的来说,RTP法制备的晶粒尺寸大于PECVD中... 利用等离子体增强(PECVD)法和快速热处理(RTP)法分别在玻璃衬底上制备了硅薄膜。用光谱测试仪器,对2种方法制备的硅薄膜进行了研究。结果显示,各种制备参数对增大薄膜晶粒尺寸存在一个最佳点;总的来说,RTP法制备的晶粒尺寸大于PECVD中制备的晶粒尺寸。 展开更多

关键词 硅薄膜 晶粒尺寸 再结晶

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金刚石薄膜蓝区电致发光研究

17

作者 王小平 王小平 +6 位作者 王丽军 张兵临 李伟强 姚宁 马会中 韦珏 杨仕娥 《真空与低温》 2000年第3期156-160,共5页

报道了金刚石薄膜的蓝区电致发光现象，总结了几种有关金刚石薄膜蓝区发光“Ａ”带的发光机理。提出了一种提高金刚石薄膜电致发光器件发光强度的方法。

关键词 金刚石薄膜 电致发光 “A”带 蓝区 电致发光器件

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Mo_2C过渡层对金刚石-碳膜场发射均匀性的影响

18

作者 王小平 王丽军 +10 位作者 宋天福 姚宁 马会中 梁二军 王建恩 程桂萍 李广庭 杨仕娥 边超 李会军 张兵临 《真空与低温》 2002年第2期93-96,共4页

在经过不同特殊预处理的金属钼衬底上沉积了金刚石 -碳膜 ,分别用X射线衍射谱 (XRD)、拉曼光谱 (Raman)和扫描电子显微镜 (SEM)对样品进行了分析和测试 ,并研究了样品器件的场发射特性。结果发现在金属钼衬底和金刚石 -碳膜之间形成的Mo... 在经过不同特殊预处理的金属钼衬底上沉积了金刚石 -碳膜 ,分别用X射线衍射谱 (XRD)、拉曼光谱 (Raman)和扫描电子显微镜 (SEM)对样品进行了分析和测试 ,并研究了样品器件的场发射特性。结果发现在金属钼衬底和金刚石 -碳膜之间形成的Mo2 C过渡层与金刚石 展开更多

关键词 金刚石-碳膜 场发射均匀性 Mo2C过渡层 冷阴极场发射材料

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金属纳米颗粒光散射特性研究 被引量：5

19

作者 张宇杰 杨仕娥 +3 位作者 陈永生 郜小勇 谷锦华 卢景霄 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期721-725,共5页

采用基于有限元的数值模拟方法,建立微晶硅衬底上单个金属纳米颗粒与光相互作用的三维(3D)模型,分别计算不同半径的Ag、Al、Au和Cu球状纳米颗粒的散射截面、吸收截面、散射效率及耦合效率。结果表明:随着金属纳米球半径R的增大,表面等... 采用基于有限元的数值模拟方法,建立微晶硅衬底上单个金属纳米颗粒与光相互作用的三维(3D)模型,分别计算不同半径的Ag、Al、Au和Cu球状纳米颗粒的散射截面、吸收截面、散射效率及耦合效率。结果表明:随着金属纳米球半径R的增大,表面等离激元偶极共振峰发生红移且展宽,同时颗粒的归一化吸收截面快速下降;在中长波段(500~1100 nm),颗粒的散射效率随R的增大而增大,但耦合效率则呈现单调下降趋势。在相同尺寸的Ag、Al、Au和Cu颗粒中,Au和Cu的吸收截面较大,当R=50 nm时,Au和Cu颗粒的吸收截面甚至大于其散射截面,二者在中短波段(300~550 nm)的散射效率明显偏低。另外,金属纳米颗粒的耦合效率对颗粒成分变化不敏感。 展开更多

关键词 金属纳米颗粒 表面等离激元共振 光散射 太阳电池陷光

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高电导率高晶化率P型微晶硅薄膜的制备 被引量：1

20

作者 赵尚丽 杨仕娥 +3 位作者 张丽伟 陈永生 陈庆东 卢景霄 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期116-118,134,共4页

利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以B2H6为掺杂剂,在玻璃衬底上制备了厚度为40nm左右的p型微晶硅薄膜。为获得高电导率高晶化率的薄膜,采用正交实验法对衬底温度、氢稀释比及硼烷掺杂比等主要沉积参数进行初步优化。Ra... 利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以B2H6为掺杂剂,在玻璃衬底上制备了厚度为40nm左右的p型微晶硅薄膜。为获得高电导率高晶化率的薄膜,采用正交实验法对衬底温度、氢稀释比及硼烷掺杂比等主要沉积参数进行初步优化。Raman光谱和电导率测试结果表明:(1)在实验选取的参数范围内,衬底温度是影响薄膜暗电导率和晶化率的最主要因素,其次是氢稀释比,硼烷掺杂比的影响相对较小;(2)通过正交优化,获得了暗电导率为2.05S·cm-1、晶化率为86%的p型微晶硅薄膜。 展开更多

关键词 RF—PECVD P型微晶硅薄膜 暗电导率 晶化率

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