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氧化钨纳米线修饰多孔硅结构的制备及NO_2气敏性能研究 被引量:4
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作者 胡明 秦岳 +2 位作者 赵博硕 强晓永 周立伟 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期167-171,189,共6页
针对多孔硅气敏传感器在室温下对NO_2气体灵敏度较低、选择性不强的问题,采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅,然后在多孔硅顶部溅射沉积金属钨薄膜并经高温热处理氧化形成WO_3纳米线,制备出WO_3纳米线修饰多孔硅结构及其气敏传感器。对WO_... 针对多孔硅气敏传感器在室温下对NO_2气体灵敏度较低、选择性不强的问题,采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅,然后在多孔硅顶部溅射沉积金属钨薄膜并经高温热处理氧化形成WO_3纳米线,制备出WO_3纳米线修饰多孔硅结构及其气敏传感器。对WO_3纳米线/多孔硅材料进行了SEM和XRD分析,测试了传感器室温下对NO_2的气敏特性。结果表明,制备WO_3纳米线的最佳热处理条件是700℃,此温度下增加金属钨膜溅射时间可提升WO_3纳米线的生长密度。所制备的传感器对NO_2气体表现出反型气敏响应,特别是溅射1 min金属钨的样品显示出优异的NO_2室温探测能力与选择性,对4×10^(-6) NO_2的气敏灵敏度是单纯多孔硅样品的5.8倍。 展开更多
关键词 气体传感器 复合结构 多孔硅 氧化钨 二氧化氮
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