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稀土硬质合金中稀土相的电镜研究
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作者 尤力平 刘少峰 王晓华 《电子显微学报》 CAS CSCD 1990年第3期177-177,共1页
微量稀土元素可以显著提高硬质合金的强度,韧性等力学性能,但稀土元素在硬质合金的中存在形式、分布状态,特别是稀土相的结构还未见报导。我们选用加入了约40ppm稀土钇(Y)的Wc—Co硬质合金作为研究对象,采用JEM-2000FX电镜观察薄膜样品... 微量稀土元素可以显著提高硬质合金的强度,韧性等力学性能,但稀土元素在硬质合金的中存在形式、分布状态,特别是稀土相的结构还未见报导。我们选用加入了约40ppm稀土钇(Y)的Wc—Co硬质合金作为研究对象,采用JEM-2000FX电镜观察薄膜样品的显微组织。由於稀土相与Co相衬度小,不易区别,采用X-射线能谱及能量损失谱判别稀土Y相的位置、分布,确定其元素组成。下图照片中部尺寸约300nm的球形颗粒为稀土Y相,Y相左右两侧的亮区为Co相,其余部分为Wc相。Y相存在於Co相与Wc相之间。 展开更多
关键词 稀土合金 稀土相 结构 电镜
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晶态Si_3N_4/非晶SiO_2同轴纳米线的电子显微学研究
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作者 尤力平 冉广照 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第4期277-277,共1页
关键词 SI3N4 电子显微学 SIO2 纳米线 同轴 场发射电子显微镜 非晶 晶态 微观组织结构
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硅衬底上外延CVD金刚石膜界面原子排列直接观察
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作者 尤力平 高巧君 《电子显微学报》 CAS CSCD 1996年第6期489-489,共1页
硅衬底上外延CVD金刚石膜界面原子排列直接观察尤力平*高巧君(*北京大学电镜室,北京大学物理系,北京100871)CVD金刚石膜作为新型功能材料以其独特的优异性能引起材料工作者极大的兴趣。近年来,异质外延CVD金刚石... 硅衬底上外延CVD金刚石膜界面原子排列直接观察尤力平*高巧君(*北京大学电镜室,北京大学物理系,北京100871)CVD金刚石膜作为新型功能材料以其独特的优异性能引起材料工作者极大的兴趣。近年来,异质外延CVD金刚石单晶是国内外研究的热点之一,这是因... 展开更多
关键词 金刚石膜 衬底 界石 异质外延
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LnBaB_9O_(16)∶Eu^(3+)(Ln=La,Y)的结构与荧光性质 被引量:12
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作者 杨智 林建华 +3 位作者 苏勉曾 尤力平 王渭 陶冶 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第12期1832-1837,共6页
利用电子衍射、X射线衍射和荧光光谱等方法研究了 L n Ba B9O16(L n=L a,Y)的结构特性 .L n Ba B9O16为单斜晶系 ,其中 L a Ba B9O16的晶胞参数 a=1.36 6 0 nm,b=0 .7882 nm,c=1.6 2 53nm,β=10 6 .15°;YBa B9O16的晶胞参数 a=1.34... 利用电子衍射、X射线衍射和荧光光谱等方法研究了 L n Ba B9O16(L n=L a,Y)的结构特性 .L n Ba B9O16为单斜晶系 ,其中 L a Ba B9O16的晶胞参数 a=1.36 6 0 nm,b=0 .7882 nm,c=1.6 2 53nm,β=10 6 .15°;YBa B9O16的晶胞参数 a=1.3476 nm,b=0 .7776 nm,c=1.6 0 4 0 nm,β=10 6 .38°.荧光光谱研究表明 ,这两种化合物结构不同 ,Y3 +在 YBa B9O16结构中处于中心对称格位 ,而 L a Ba B9O16中 L a3 +的格位则无中心对称性 .Gd3 +部分取代 L a Ba B9O16∶ Eu3 +中的 L a3 +可改善 Eu3 +离子的发光性质 .L a Ba B9O16∶ Eu3 +在真空紫外区的吸收比较弱 ,这可能与硼氧比较小有关 . 展开更多
关键词 硼酸盐 电子衍射 X射线衍射 荧光光谱 稀土
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用扫描电镜制备高性能AFM针尖 被引量:3
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作者 徐军 陈文雄 +1 位作者 尤力平 张会珍 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期304-305,共2页
关键词 扫描电镜 纳米材料 AFM针尖 导电性 电子束诱导沉积
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薄膜材料透射电镜截面样品的简单制备方法 被引量:8
6
作者 马秀梅 尤力平 《电子显微学报》 CAS CSCD 2015年第4期359-362,共4页
针对薄膜材料透射电镜截面样品制备过程复杂、制样成功率低的问题,本文详细介绍了一种操作简单、实用性强的制备方法,采用该方法可以成功制备出脆性衬底上薄膜材料的TEM截面样品。
关键词 透射电镜 薄膜材料 截面样品 制样 离子减薄
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超精细纳米结构加工技术 被引量:2
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作者 张敬民 廖志敏 +2 位作者 尤力平 叶恒强 俞大鹏 《电子显微学报》 CAS CSCD 2007年第3期167-170,共4页
利用高能会聚电子束的辐照损伤能力,在300 kV高分辨透射电镜中成功加工出小于5 nm的超精细纳米结构。加工精度在特征尺寸和空间位置上可同时达到一个纳米。加工的纳米结构具有原子尺度的边界,并可以通过高分辨像直接监视纳米结构的形成... 利用高能会聚电子束的辐照损伤能力,在300 kV高分辨透射电镜中成功加工出小于5 nm的超精细纳米结构。加工精度在特征尺寸和空间位置上可同时达到一个纳米。加工的纳米结构具有原子尺度的边界,并可以通过高分辨像直接监视纳米结构的形成过程。这种技术可以广泛应用于各种无机材料,尤其适用于无机化合物。结合自动控制,这种技术可以用于加工任意复杂的二维纳米结构。 展开更多
关键词 超精细纳米结构 高分辨透射电镜 纳米加工
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微米级颗粒透射电子显微镜样品的简单制备方法 被引量:4
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作者 马秀梅 尤力平 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第2期201-204,共4页
针对微米级颗粒透射电镜样品,本文详细介绍了一种操作简单、实用性强的制备方法。TEM表征结果表明,采用该方法可以成功制备出微米级颗粒的适合TEM观察的样品。
关键词 透射电镜 微米颗粒 制样 离子减薄
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310℃和350℃下锆-4合金中沉淀相非晶化研究 被引量:2
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作者 祖小涛 孙凯 +1 位作者 尤力平 王鲁闽 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期287-290,共4页
用大束流加速器和透射电子显微镜研究了Zr 4合金在310 ℃和350 ℃下的质子辐照效应。当质子能量为2 MeV,在 310 ℃和 350 ℃下质子辐照产生原子离位损伤达 5 dpa(注量率为 8.5×1013 cm-2 ·s-1),辐照前后的明场像、高分辨相和... 用大束流加速器和透射电子显微镜研究了Zr 4合金在310 ℃和350 ℃下的质子辐照效应。当质子能量为2 MeV,在 310 ℃和 350 ℃下质子辐照产生原子离位损伤达 5 dpa(注量率为 8.5×1013 cm-2 ·s-1),辐照前后的明场像、高分辨相和电子衍射花样均表明:在310 ℃辐照产生原子损伤达到 5 dpa,沉淀相 Zr(Cr,Fe)2 边缘5~10 nm的区域已经非晶化,而在350 ℃时质子辐照却没有非晶化发生。沉淀相 Zr(Cr,Fe)2的元素分布图像和浓度分布表明,铁元素向基体扩散并且聚集在非晶化边界区域。 展开更多
关键词 锆-4合金 质子辐照效应 非晶化 透射电镜 元素分布 原子离位损伤
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Au/SnO_2异质同轴纳米电缆 被引量:1
10
作者 单旭东 王朋伟 +2 位作者 尤力平 俞大鹏 叶恒强 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期473-477,共5页
本文报道了一种新型的Au/SnO2金属-半导体异质同轴纳米电缆结构。通过透射电镜表征,发现其轴心为沿特定方向生长的单晶Au纳米线,而壳层则为沿[100]方向生长的单晶SnO2,整体看来就如同一根单晶Au纳米线外套了一根单晶SnO2纳米管。管的两... 本文报道了一种新型的Au/SnO2金属-半导体异质同轴纳米电缆结构。通过透射电镜表征,发现其轴心为沿特定方向生长的单晶Au纳米线,而壳层则为沿[100]方向生长的单晶SnO2,整体看来就如同一根单晶Au纳米线外套了一根单晶SnO2纳米管。管的两端是封闭的,而Au轴则几乎贯穿整个管,只在端部与SnO2之间有一定间隙。本文讨论了纳米电缆可能的生长机制,而空隙应该是由于两者的热膨胀系数不同所致。 展开更多
关键词 SNO2 AU 异质结构 纳米电缆
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掺杂机制的电子能量损失谱(EELS)研究
11
作者 张敬民 章新政 +1 位作者 尤力平 俞大鹏 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第B08期8-8,共1页
关键词 电子能量损失谱 掺杂机制 宽禁带半导体 P型掺杂 原子位置 杂质原子 元素掺杂 过渡金属
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ZnO纳米棒中结的透射电镜研究
12
作者 章新政 单旭东 +1 位作者 尤力平 俞大鹏 《电子显微学报》 CAS CSCD 2008年第5期341-345,共5页
本文采用化学气相沉积法制得大量ZnO纳米棒,利用会聚束电子衍射(CBED)研究了纳米棒的生长方向,验证了纳米棒在生长过程中产生碰撞。通过TEM研究发现,纳米棒沿c轴生长,碰撞形成的晶界并不是一个随机取向的大角晶界,为了降低能量,晶界具... 本文采用化学气相沉积法制得大量ZnO纳米棒,利用会聚束电子衍射(CBED)研究了纳米棒的生长方向,验证了纳米棒在生长过程中产生碰撞。通过TEM研究发现,纳米棒沿c轴生长,碰撞形成的晶界并不是一个随机取向的大角晶界,为了降低能量,晶界具有孪晶关系。晶界的存在导致晶体产生缺陷生长,使纳米棒的结的附近区域长粗。 展开更多
关键词 孪晶 碰撞 氧化锌 纳米棒 会聚束
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基于Ti掺杂硅量子点的MOSFET结构的电子显微学表征
13
作者 马圆 尤力平 +1 位作者 张小平 俞大鹏 《电子显微学报》 CAS CSCD 2007年第2期110-113,共4页
通过自组装生长并结合两步退火处理,在SiO2表面得到了Ti掺杂的Si纳米晶粒量子点。采用高分辨显微分析方法,X射线能谱线扫描和Z衬度扫描透射显微方法对一系列横截面样品进行详细研究,得到了量子点内部的成分分布,相关的试验数据吻合一致... 通过自组装生长并结合两步退火处理,在SiO2表面得到了Ti掺杂的Si纳米晶粒量子点。采用高分辨显微分析方法,X射线能谱线扫描和Z衬度扫描透射显微方法对一系列横截面样品进行详细研究,得到了量子点内部的成分分布,相关的试验数据吻合一致,验证了Si量子点MOSFET的结构模型。 展开更多
关键词 纳米晶MOSFET内存 扫描透射显微方法 量子点成分分布
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Synthesis and PL Properties of ZnSe Nanowires with Zincblende and Wurtzite Structures 被引量:1
14
作者 夏冬炎 戴伦 +4 位作者 徐万劲 尤力平 张伯蕊 冉广照 秦国刚 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第5期1317-1320,共4页
Single crystalline ZnSe nanowires with both zincblende and wurtzite structures have been synthesized via a chemical vapour deposition method under different growth conditions. The nanowires are usually 50-80nm in diam... Single crystalline ZnSe nanowires with both zincblende and wurtzite structures have been synthesized via a chemical vapour deposition method under different growth conditions. The nanowires are usually 50-80nm in diameter, and several tens of microns in length. Room-temperature photoluminescence spectra from zincblende and wurtzite ZnSe nanowires show a broad luminescence band peaked at around 2. 71 e V and a deep level emission band peaked at around 2.00 eV, respectively. Effects of post-growth annealing on the photoluminescence of these nanowires have been investigated. Strong room-temperature band-edge emission could be obtained from the annealed zincblende ZnSe nanowires. 展开更多
关键词 CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION QUANTUM DOTS GROWTH LUMINESCENCE PHOTOLUMINESCENCE NANORIBBONS CRYSTALS
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Interfacial Structure Between Epitaxial Diamond Films and Silicon Substrates
15
作者 GAO Qiao-jun YOU Li-ping +3 位作者 PAN Xiao-hui ZHANG Fan PENG Xiao-fu LIN Zeng-dong 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1997年第2期145-147,共3页
Epitaxial diamond films on non-mirror polished silicon substrate was achieved using hot filament chemical vapor deposition method with one flat horizontal filament.The orientation relationship of epitaxial diamond fil... Epitaxial diamond films on non-mirror polished silicon substrate was achieved using hot filament chemical vapor deposition method with one flat horizontal filament.The orientation relationship of epitaxial diamond films on silicon substrate has been investigated by cross-sectional high-resolution transmission electron microscopy We found one excellent epitaxial configuration and according to the experimental result we suggest a corresponding model.The lattice misfit is only 0.1-2.8% related to our model and the analysis of 60° type interface dislocation also supports this model. 展开更多
关键词 sectional MIRROR EPITAXIAL
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