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《光刻胶材料》专辑序言——光刻胶材料助力“中国芯” 被引量:2
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作者 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1027-1028,共2页
光刻是指通过紫外光曝光将掩膜图形转移到基底表面光刻胶上的工艺,是微纳加工制造中最关键的技术之一。1952年,光刻被首次用于集成电路的制造,自此信息技术得到了飞速发展。光刻工艺是芯片制造中难度最大、耗时最久的工艺,成本约占整个... 光刻是指通过紫外光曝光将掩膜图形转移到基底表面光刻胶上的工艺,是微纳加工制造中最关键的技术之一。1952年,光刻被首次用于集成电路的制造,自此信息技术得到了飞速发展。光刻工艺是芯片制造中难度最大、耗时最久的工艺,成本约占整个芯片生产成本的1/3。在整个光刻工艺中,光刻机是核心要素,光刻胶则是实现精细图形加工制备集成电路的关键材料。光刻工艺的发展主要依靠光源波长的不断缩小,从g线(436 nm)、i线(365 nm)、KrF(248 nm)、ArF(193 nm)再到如今的极紫外(EUV,13.5 nm),集成电路的制程工艺在不断进步,光刻胶也随之不断更新换代。 展开更多
关键词 光刻工艺 集成电路 光刻胶 芯片生产 信息技术 微纳加工 芯片制造 图形转移
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氨基酸基聚合物在抗菌领域的研究进展 被引量:4
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作者 刘慧 刘骁 +4 位作者 曹远桥 刘明 刘亚栋 韩苗苗 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第5期559-571,共13页
天然抗菌肽是一类短肽分子,广泛存在于生物界,可以通过非特异性机制抑制或杀死细菌或真菌。但是由于化学稳定性和药代动力学稳定性差而且生产成本高昂,限制了抗菌肽在临床上广泛的应用。采用氨基酸基聚合物作为抗菌肽的模拟物是一种有... 天然抗菌肽是一类短肽分子,广泛存在于生物界,可以通过非特异性机制抑制或杀死细菌或真菌。但是由于化学稳定性和药代动力学稳定性差而且生产成本高昂,限制了抗菌肽在临床上广泛的应用。采用氨基酸基聚合物作为抗菌肽的模拟物是一种有效且被广泛研究的替代策略。本文总结了一系列氨基酸基聚合物作为抗菌剂的研究工作,从特定的阳离子氨基酸残基(赖氨酸、精氨酸)的引入,到更具体的特征结构(如疏水性、二级结构、拓扑结构、自组装行为等)的影响,阐述了结构与抗菌性能的关系。优化后的聚合物能够保留肽的抗菌谱,同时具有低毒性以及优异的选择性。 展开更多
关键词 氨基酸基聚合物 赖氨酸 精氨酸 抗微生物 抗菌 毒性
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基于卷积运算的嵌段共聚物自组装图像缺陷分析统计方法 被引量:4
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作者 田昕 赖翰文 +1 位作者 刘亚栋 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1199-1208,共10页
嵌段共聚物引导自组装是制备sub-10 nm尺寸半导体器件的潜在技术方案之一。然而由于缺少高效准确的实验室分析工具,难以对嵌段共聚物自组装/引导自组装的结构进行深入定量分析,特别是对其组装结构的缺陷密度及线边粗糙度等进行定量研究... 嵌段共聚物引导自组装是制备sub-10 nm尺寸半导体器件的潜在技术方案之一。然而由于缺少高效准确的实验室分析工具,难以对嵌段共聚物自组装/引导自组装的结构进行深入定量分析,特别是对其组装结构的缺陷密度及线边粗糙度等进行定量研究。本文参考图形分析中的图像增强算法和模板匹配算法,采用二值化和骨架化算法对嵌段共聚物自组装/引导自组装图像进行处理,构建相应的卷积核并利用卷积运算分析和定位组装结构中的缺陷,并对缺陷密度进行统计。经验证,该算法能够减少噪点对统计结果的影响,区分图像边缘截断所产生的断点和组装缺陷,快速准确地自动统计自组装/引导自组装图像中的端点、分叉和岛缺陷结构。同时对分析所需的图片放大倍率和幅面尺寸极限进行了探索,结果表明嵌段共聚物本征相分离周期与像素尺寸的比值至少为6.69,有效统计嵌段共聚物自组装缺陷所需的视场面积至少为1.5μm^(2)。缺陷分析速度测试表明,本文算法相较于邻近像素判断法快136~147倍。 展开更多
关键词 嵌段共聚物 自组装 引导自组装 卷积 缺陷统计
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g-线/i-线光刻胶研究进展 被引量:7
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作者 顾雪松 李小欧 +1 位作者 刘亚栋 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1091-1104,共14页
光刻胶是半导体领域中不可或缺的关键材料。光刻胶行业常年被日本和美国等国家所垄断,随着国际竞争的日益激烈,光刻胶国产化迫在眉睫。本文针对g-线(436 nm)和i-线(365 nm)光刻胶进行了总结,按照其组成不同,将其分为酚醛树脂/重氮萘醌... 光刻胶是半导体领域中不可或缺的关键材料。光刻胶行业常年被日本和美国等国家所垄断,随着国际竞争的日益激烈,光刻胶国产化迫在眉睫。本文针对g-线(436 nm)和i-线(365 nm)光刻胶进行了总结,按照其组成不同,将其分为酚醛树脂/重氮萘醌、化学放大胶和分子玻璃等类型,并分别进行介绍。目前,市场用量较大的g/i-线光刻胶主要是酚醛树脂/重氮萘醌系列,本文详细介绍了国内外对酚醛树脂/重氮萘醌的研究报道,阐述了其曝光机理以及光敏剂、添加剂等对光刻胶性能的影响。本文期望能对g-线/i-线光刻胶的开发提供参考。 展开更多
关键词 光刻胶 g-线 i-线 酚醛树脂/重氮萘醌 化学放大胶 分子玻璃
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193nm化学放大光刻胶研究进展 被引量:5
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作者 李小欧 顾雪松 +1 位作者 刘亚栋 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1105-1118,共14页
193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物树脂、光致产酸剂、添加剂(碱性添加剂、溶解抑制剂等)和溶剂等。本文从光刻胶的成分出发介绍193 nm... 193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物树脂、光致产酸剂、添加剂(碱性添加剂、溶解抑制剂等)和溶剂等。本文从光刻胶的成分出发介绍193 nm化学放大胶的研究进展,概述目前应用及研究中出现的代表性193 nm化学放大胶,总结其优缺点及未来可能的发展方向。 展开更多
关键词 化学放大胶 聚合物树脂 光致产酸剂 碱性添加剂 溶解抑制剂
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粒径和孔径可控的多孔交联聚苯乙烯微球的制备 被引量:2
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作者 黄广诚 邱比特 +2 位作者 刘亚栋 赵辉 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期406-411,共6页
采用悬浮聚合方法合成了多孔交联聚苯乙烯微球,研究发现微球的粒径与分散剂含量、水油比、搅拌速度和成孔剂有关,而微球的孔径与成孔剂的种类和含量有关。增加分散剂的用量,提高水油比和加快搅拌速度都能导致微球的粒径减小。微球的孔... 采用悬浮聚合方法合成了多孔交联聚苯乙烯微球,研究发现微球的粒径与分散剂含量、水油比、搅拌速度和成孔剂有关,而微球的孔径与成孔剂的种类和含量有关。增加分散剂的用量,提高水油比和加快搅拌速度都能导致微球的粒径减小。微球的孔径和粒径均随着成孔剂与聚合物溶度参数差值变大而增加。通过改变以上条件得到粒径为100-300μm和孔径为8-36 nm的交联度为27%的多孔交联聚苯乙烯微球,并利用光学显微镜、场发射扫描电子显微镜(SEM)和氮气吸附解吸法对微球进行了相应的表征。得到的微球在固相合成载体中有一定的应用前景。 展开更多
关键词 悬浮聚合 多孔微球 交联微球
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柱状相聚苯乙烯-b-聚乳酸的合成及引导组装 被引量:1
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作者 张潇飒 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2018年第12期1420-1426,共7页
设计并合成了2种柱状相结构的聚苯乙烯-b-聚乳酸(PS-b-PLA)两嵌段共聚物,并表征了它们在化学图案上的引导自组装行为。在辛酸亚锡(Sn(Oct)_2)催化下,采用羟基官能化的聚苯乙烯(PS-OH)大分子引发剂分别引发外消旋丙交酯(rac-LA)和左旋丙... 设计并合成了2种柱状相结构的聚苯乙烯-b-聚乳酸(PS-b-PLA)两嵌段共聚物,并表征了它们在化学图案上的引导自组装行为。在辛酸亚锡(Sn(Oct)_2)催化下,采用羟基官能化的聚苯乙烯(PS-OH)大分子引发剂分别引发外消旋丙交酯(rac-LA)和左旋丙交酯(L-LA)开环聚合,制备了两个相对分子质量相近但构型不同的PS-b-PLA:PS-b-PDLLA和PS-b-PLLA。通过核磁共振波谱仪(NMR)、凝胶渗透色谱仪(GPC)、示差扫描量热仪(DSC)、热重分析仪(TGA)、小角X射线衍射仪(SAXS)等测试手段对两个嵌段共聚物的性质进行了表征。然后,将PS-b-PDLLA和PS-b-PLLA薄膜在六方点阵化学图案模板上加热引导自组装,得到长程有序排列的六方柱状相结构。相对于柱状相的PS-b-PLLA,柱状相的PS-b-PDLLA具有较大的拉伸比例,可以在更大的周期范围内组装出规整的六方结构。这一结果与层状相PS-b-PDLLA和PS-b-PLLA薄膜在线性化学图案上组装的结果相似。 展开更多
关键词 聚苯乙烯-b-聚乳酸 两嵌段共聚物 引导组装 化学图案
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