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高温热退火对多层P-on-N结构HgCdTe的界面影响 被引量:2
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作者 沈川 陈路 +2 位作者 卜顺栋 刘仰融 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期156-160,共5页
对高温热退火前后分子束外延(MBE)生长的多层P-on-N结构HgCdTe外延材料的界面变化进行研究。研究发现,高温热退火将引起HgCdTe外延材料界面层的改变,从而破坏原生结构。这种改变可以一定程度上通过工艺条件进行控制。同时,对热退火前后P... 对高温热退火前后分子束外延(MBE)生长的多层P-on-N结构HgCdTe外延材料的界面变化进行研究。研究发现,高温热退火将引起HgCdTe外延材料界面层的改变,从而破坏原生结构。这种改变可以一定程度上通过工艺条件进行控制。同时,对热退火前后P-on-N结构变化进行了二维数值模拟,研究了不同变化对其能带结构和光电流的影响。 展开更多
关键词 碲镉汞 P-on-N 界面结构 热退火 光电流
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不同钝化层结构对HgCdTe热退火Hg空位调控影响 被引量:1
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作者 沈川 刘仰融 +3 位作者 孙瑞赟 卜顺栋 陈路 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第2期425-429,共5页
对不同钝化层结构的分子束外延(MBE)生长的HgCdTe外延材料的Hg空位浓度控制进行研究。获得了更高Hg空位浓度调控范围的外延材料,为后续新型焦平面器件的研发提供基础。研究发现,在热退火过程中,HgCdTe外延材料的Hg空位浓度的变化随着钝... 对不同钝化层结构的分子束外延(MBE)生长的HgCdTe外延材料的Hg空位浓度控制进行研究。获得了更高Hg空位浓度调控范围的外延材料,为后续新型焦平面器件的研发提供基础。研究发现,在热退火过程中,HgCdTe外延材料的Hg空位浓度的变化随着钝化层结构的不同而发生改变。且这种改变是因为HgCdTe表层的钝化层的存在改变了原始热退火的平衡态过程。同时,通过二次离子质谱(SIMS)测试以及相应的理论拟合进行了验证。 展开更多
关键词 碲镉汞 Hg空位 钝化层 热退火
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分子束外延P-on-N HgCdTe As扩散调控研究
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作者 沈川 杨辽 +4 位作者 刘仰融 卜顺栋 王高 陈路 何力 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第5期799-803,共5页
对分子束外延(MBE)生长的原位As掺杂HgCdTe外延材料的热退火造成的As扩散控制进行研究。在较低的退火温度下获得了As扩散长度可控的HgCdTe材料,易于形成符合设计参数的PN结轮廓,为后续新型焦平面器件的研发提供基础。研究发现,在热退火... 对分子束外延(MBE)生长的原位As掺杂HgCdTe外延材料的热退火造成的As扩散控制进行研究。在较低的退火温度下获得了As扩散长度可控的HgCdTe材料,易于形成符合设计参数的PN结轮廓,为后续新型焦平面器件的研发提供基础。研究发现,在热退火过程中,原位As掺杂HgCdTe的As浓度的大小和纵向分布随着不同的Hg分压而发生改变。并通过理论计算获得了不同Hg分压下的As扩散系数。同时,通过数值模拟对不同As扩散长度的P-on-N器件结构进行了暗电流模拟,验证了As掺杂结深推进工艺的重要性。 展开更多
关键词 碲镉汞 As扩散 热退火 暗电流
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