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〈111〉籽晶的偏角和偏离方向对生长无位错真空区熔硅单晶的影响
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摘要
一、前言 无位错真空区熔硅单晶是一种比较理想的Si(Li)X射线探测器级材料,具有低氧低碳的优点,但在真空下生长无位错单晶比在气氛下生长困难得多。实践表明<111>籽晶的取向对生长无位错单晶有较大的影响。国外曾报道过气氛下生长无位错单晶与<111>籽晶的取向有关。本实验的目的是探讨真空下生长无位错硅单晶是否与<111>
作者
蒋泉
罗守礼
机构地区
北京有色金属研究总院
出处
《稀有金属》
EI
CAS
1986年第1期1-3,共3页
Chinese Journal of Rare Metals
关键词
偏角
偏离方向
成晶
区熔硅单晶
籽晶
种晶
位错
晶体缺陷
分类号
TN3 [电子电信—物理电子学]
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稀有金属
1986年 第1期
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