摘要
金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)系统是制备GaN等半导体薄膜材料、建筑材料、LED等光电子器件装饰材料主要设备。本文采用计算流体力学软件Fluent对MOCVD反应器内温度场及速度场进行模拟分析。对MOCVD反应器内的传热传质机理进行分析,从而为MOCVD反应器内设计提供理论依据。
The metal organic compound gas phase deposition system is used as the main equipment to prepare semiconductor thin film material, LED and some optoelectronic device decoration material.In this paper, Fluent software is used to simulate and analyze the temperature and velocity fields in MOCVD reactor.The heat and mass transfer mechanism in MOCVD reactor is analyzed, which provides theoretical basis for the design of MOCVD reactor.
作者
张媛
ZHANG Yuan(Shaanxi Railway Institute,Weinan 714000,Shaanxi)
出处
《工业加热》
CAS
2018年第5期46-48,共3页
Industrial Heating
基金
陕西铁路工程职业技术学院2017年第二批科研基金项目(KY2017-045)
关键词
MOCVD
流场
数值模拟
优化设计
MOCVD
flow field
numerical simulation
optimization design
作者简介
张媛（1991-）,女,硕士,助教,研究方向为膨胀土边坡工程及半导体材料研究.
