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硅片表面杂质浓度扩散方程的差分方法

A Finite Difference Method for Diffusion Equation of Impurity Concentration on the Surface of Silicon Wafer
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摘要 对硅片表面杂质浓度扩散方程,通过对初、边值条件的仔细观察,根据其具有的特点,提出了一种差分求解格式,数值试验表明该格式条件稳定、有效。 This paper talks about the diffusion equation of impurity concentration on the surface of silicon wafer. A finite difference scheme is put forward after a careful observation of initial conditions and boundary ones according to its characteristics. Numerical experiments show that the presented scheme is conditionally stable and effective.
出处 《西华师范大学学报(自然科学版)》 2017年第1期92-96,共5页 Journal of China West Normal University(Natural Sciences)
基金 重庆市自然科学基金项目(CSTC 2010BB8270)
关键词 扩散方程 差分格式 数值解 有效性 条件稳定 diffusion equation difference scheme numerical solution effectiveness conditionally stable
作者简介 杜绍洪(1972-),男,四川阆中人,博士,副教授,主要从事有限元方法及偏微分方程数值解的研究。通信作者:杜绍洪,E-mail:duzheyan.student@sina.com
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