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纳米SiO_2在化学镀Ni-P合金镀液中的分散性研究 被引量:1

Dispersity of Nano-SiO_2 in the Electroless Ni-P Alloy Plating Solution
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摘要 采用红外-紫外-可见分光光度计法研究了不同表面活性剂、配位剂、纳米SiO2和p H对纳米粒子在溶液中的分散性和稳定性的影响;讨论了在不同温度和纳米粒子含量下,纳米粒子在铜表面的沉积速度。实验结果表明,化学复合镀Ni-P合金最佳工艺及操作条件是表面活性剂为5 g/L十二烷基硫酸钠,配位剂为13 g/L醋酸钠,2 mL/L乳酸,pH为5.0~5.5,3 g/L纳米SiO2,θ为80~85℃。 The effects of different surfactants,ligands,nano-SiO2 and p H on the dispersity and stability of the nano-particles in the aqueous solution were studied by infrared-ultraviolet-visible spectrophotometry.The plating velocity of the nano-particles on the surface of Cu substrates were discussed at different temperatures and contents. The experimental results showed that the optimal process and operating conditions of electroless composite plating Ni- P alloys were obtained,including SDS as surfactants( 5 g / L),Na Ac as ligands( 13 g / L),lactic acid( 2 m L / L),p H( 5. 0 ~ 5. 5),nano-SiO2( 3 g /L) and temperature( 80 ~85 ℃).
机构地区 齐齐哈尔大学
出处 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2016年第8期1-4,13,共5页 Plating & Finishing
基金 黑龙江省高校科研创新团队项目(项目编号2012TD012)
关键词 分散 纳米SIO2 化学复合镀 分光光度法 dispersity nano-SiO2 composite electroless plating spectrophotometry
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