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电沉积Al_xGa_(1-x)As薄膜及性能研究

Study on co-electrodeposition of tri-compound Al_xGa_(1-x)As films
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摘要 利用电共沉积技术,在简单盐和带有络合剂的盐酸溶液中,制备了AlxGa1-xAs三元化合物薄膜。用能谱分析仪测量了薄膜成分,分析结果表明,该膜为符合化学计量比的三元化合物AlxGa1-xAs半导体材料,用分光光度计对膜进行测量,在较宽光波波段获得一定的透射率。 Tri-compound AlxGa1-xAs films was prepared by using electrodeposition technology in simple salt solution with additives citric acid. The composition of the deposited films was measured by SEM-EDS. The result shows that approximately stoichiometric Al0.3Ga0.7As tri-compound semicon- ductor materials is obtained. As the films are measured by spectrophotometer, certain transmissivity is obtained in a wide range of light wave band.
机构地区 哈尔滨工业大学
出处 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2002年第1期13-17,共5页 Journal of Functional Materials and Devices
关键词 电共沉积 三元化合物 半导体薄膜 砷化镓 性能 镓铝砷化合物 co-electrodeposition AlxGa1-xAs tri-compound
  • 相关文献

参考文献3

  • 1黄德修.半导体光电子学[M].成都:电子科大出版社,1994.56.
  • 2王贤仁.光电子材料及应用的某些进展[M].长春:吉林大学出版社,1988.89-108.
  • 3韩爱珍,林逸青,赵永春,高元恺.GaAs薄膜电沉积机理的初探[J].Journal of Semiconductors,1997,18(5):380-384. 被引量:9

二级参考文献3

  • 1Gao Yuankai,J Appl Phys,1994年,75卷,1期,549页
  • 2王贤仁,光电子材料及应用的某些进展,1988年
  • 3黄德秀,专业化学,1980年

共引文献13

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