期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

纳米压印光刻技术

原文传递

导出

摘要近年来纳米压印技术迅猛发展，已引起业界广泛关注。纳米压印是一种全新的纳米图型复制方法，利用不同材料之间的杨氏模量差，使两种材料之间相互作用来完成图型的复制转移。与传统的光刻工艺相比，压印技术不是通过改变抗蚀剂的化学特性实现抗蚀剂的图形化，

作者周伟民杜利东

机构地区不详中国科学院电子学研究所

出处《国外科技新书评介》 2014年第3期15-15,共1页 Scientific & Technology Book Review

关键词纳米压印技术光刻技术杨氏模量相互作用光刻工艺化学特性抗蚀剂图形化

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

作者简介助理研究员

引文网络
相关文献

1李洪珠.纳米压印光刻技术及其发展现状[J].电子与封装,2005,5(12):1-5. 被引量：2
2董晓文,司卫华,顾文琪.纳米压印光刻技术及其设备研制[J].中国机械工程,2005,16(z1):398-400.
3陈建刚,魏培,陈杰峰,赵知辛,何雅娟.纳米压印光刻技术的研究与发展[J].陕西理工学院学报（自然科学版）,2013,29(5):1-5. 被引量：2
4翁寿松.下一代光刻技术的设备[J].电子工业专用设备,2004,33(10):35-38. 被引量：7
5名词术语释义——纳米压印光刻技术[J].微纳电子技术,2006,43(3):134-134.
6仲冠丞.下一代光刻技术[J].科技与企业,2015(13):210-210.
7佟军民,胡松,余国彬.下一代光刻技术[J].电子工业专用设备,2005,34(11):27-33. 被引量：4
8屈新萍.新型纳米压印光刻技术的研究和应用[J].世界科学,2009(6):39-41. 被引量：2
9余应元.介绍录像带复制的几种方法[J].家电检修技术,1994(7):20-21.
10杨向荣,张明,王晓临,曹万强.新型光刻技术的现状与进展[J].材料导报,2007,21(5):102-104. 被引量：10

国外科技新书评介

2014年第3期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部