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制备工艺对Ni-TiN纳米镀层晶体结构及耐腐蚀性能的影响 被引量:4

Effect of plating methods on microstructure and corrosion properties of Ni-TiN nanocoatings
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摘要 分别采用电沉积法、超声波-电沉积法及电磁场-超声波场-电沉积方法制得Ni-TiN纳米镀层,利用原子力显微镜(AFM)、高分辨率透射电镜(HRTEM)及电化学综合测试仪对纳米镀层的晶体结构和耐腐蚀性能进行研究。结果表明,采用ED,USED和MUSED制备Ni-TiN纳米镀层的均方根表面粗糙度为181.74,114.65,58.18 nm;MUSED制备的镀层中,镍晶粒和TiN粒子的平均粒径为45.9,28.3 nm。 The Ni-TiN nanocoatings were deposited by electrodeposition method (ED) , ultrasonic- electrodeposition method (USED) and electromagnetic-uhrasonic-electrodeposition(MUSED), respectively. Microstructure and corrosion properties of N i- TiN nanocoatings were investigated using XRD, AFM, HRTEM and electrochemical workstation. The results show that the roughness of mean square RMS of Ni-TiN nanoeoatings prepared by ED, USED and MUSED is 181.74,114.65,58.18 nm, respectively. In MUSED coating, the size of nickel crystal and TiN particles is 45.9,28.3 nm, respectively.
出处 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2012年第6期22-24,共3页 Ordnance Material Science and Engineering
基金 国家科技支撑计划项目(2012BAH28F03)
关键词 Ni-TiN 纳米镀层 电化学腐蚀 Ni-TiN nanocoating electrochemical corrosion
作者简介 田济语,男,本科生;主要从事特种加工研究。 通信作者:夏法锋,副教授。E—mail:xiaff@126.com。
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