摘要
采用空心阴极离子镀方法在高速钢表面沉积TiAlN膜层。性能测试表明 ,TiAlN膜具有较高的硬度和膜 基结合力 ;金相组织观察和扫描电镜表面形貌照片显示 ,制备出的膜层连续、光滑 ,组织致密 ;X射线衍射分析表明 ,膜层的相结构中大致含有以下组成相 :Ti2 AlN、Ti2 N、TiO等。用电子探针对膜层中的元素含量进行了定量测定。
WT5”BZ][ST5”BZ]The hollow cathode deposition (HCD) of TiAlN film on high speed steel (HSS) is used.Properties experiments show that TiAlN films have high microhardness and film matrix strength.Through metallograph and electron microscope,continuous,smooth and tight films can be seen.X ray diffraction analysis (XRD) testifies that the films mainly have the following phases:Ti 2AlN,Ti 2N,TiO etc.Finally,the EPMA is used to measure the element contents of TiAlN films.[HT5”H]
出处
《金属热处理》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期25-28,共4页
Heat Treatment of Metals
基金
江苏省科委应用基金!(BJ950 4 6)
